中科院微電子研究所勻膠機(jī)/旋涂儀送3吸盤適應(yīng)于半導(dǎo)體硅片技術先進，載玻片，晶片延伸，基片認為，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝，制版的表面涂覆新趨勢。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動迅速等優(yōu)點(diǎn)反應能力，并能保證半導(dǎo)體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性。通常配真空泵一起使用。目前的型號有KW-4A結構重塑、KW-4T和KW-5型聽得懂。

中科院微電子研究所勻膠機(jī)/旋涂儀送3吸盤

適應(yīng)于半導(dǎo)體硅片，載玻片高質量發展，晶片全方位，基片，ITO導(dǎo)電玻璃等工藝影響力範圍，制版的表面涂覆大局。該產(chǎn)品具有轉(zhuǎn)速穩(wěn)定和啟動迅速等優(yōu)點(diǎn)，并能保證半導(dǎo)體材料中涂膠厚度的一致性和均勻性不合理波動。通常配真空泵一起使用宣講手段。目前的型號有KW-4A、KW-4T和KW-5型積極拓展新的領域。 

產(chǎn)品主要特點(diǎn) 

1基礎、開關(guān)電流調(diào)速，穩(wěn)定性能更好多種方式，轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)以數(shù)字顯示為準(zhǔn)對外開放。 

2、轉(zhuǎn)速在500～8000轉(zhuǎn)／分范圍內(nèi)非常穩(wěn)定深入交流研討。   

3資料、采用雙轉(zhuǎn)速。在啟動之后關註度，先以低速運(yùn)轉(zhuǎn)橫向協同，使膠攤開，然后自動轉(zhuǎn)換到高速運(yùn)轉(zhuǎn)敢於挑戰。兩種轉(zhuǎn)速及相應(yīng)的時間分別可調(diào)不斷創新，時間分別控制在1～18秒和3秒～1分鐘。 

4提供了遵循、具有定時功能參與水平。  

5、測速采用光電的辦法服務效率，產(chǎn)生光電脈沖明確相關要求，由晶體分頻測速準(zhǔn)確性高。  

6統籌發展、"吸片"采用電磁閥控制氣路深化涉外，一個氣泵可同時帶幾臺勻膠機(jī)工作，適合流水線的工藝生產製造，提高了效率開展試點。   

7攜手共進、在安裝結(jié)構(gòu)上，采取了減振措施推進一步，保證了在運(yùn)轉(zhuǎn)時噪音低經過。

 中科院微電子研究所勻膠機(jī)/旋涂儀送3吸盤參數(shù)