Nicomp 380亞微米粒度分析儀利用動態(tài)光散射（DLS）原理，得到了粒徑在0.5~6微米之間的膠體體系的顆粒尺寸分布長效機製。DLS的工作原理是用聚焦激光束照射懸浮中的一組粒子，從而產生許多散射光波數字技術。

ZLS(初代)? Nicomp 380亞微米粒度分析儀

動態(tài)光散射

Nicomp 380亞微米粒度分析儀利用動態(tài)光散射(DLS)原理奮戰不懈，得到了粒徑在0.5~6微米之間的膠體體系的顆粒尺寸分布。DLS的工作原理是用聚焦激光束照射懸浮中的一組粒子措施，從而產生許多散射光波大大縮短。這些波互相干擾，產生凈散射強度緊密相關，在某個遙遠的探測器上隨時間的變化而波動更默契了。粒子的擴散，或布朗運動培訓，會導致單個波的相位隨機變化不合理波動，導致光強度的波動。用自相關器分析這些漲落的時間行為可以得到顆粒的粒度分布分析。單個均勻尺寸分布的自相關函數(shù)是一個衰減的指數(shù)函數(shù)表示，其中粒子擴散率很容易從衰變時間中得到。后非常激烈，利用Stokes-愛因斯坦關系可以很容易地計算出粒子半徑.

一般來說競爭力所在，大多數(shù)樣品不是均勻的，相反領域，它們通常是多分散的溝通機製，有一定的粒徑范圍。然后註入新的動力，自相關函數(shù)由衰減的指數(shù)函數(shù)組合而成領先水平，每個函數(shù)具有不同的衰減時間，對自相關函數(shù)的分析不再十分簡單雙重提升。采用變反褶積算法的儀器必須對原始數(shù)據(jù)進行反演橋梁作用，才能得到真實粒徑分布的估計值。Nicomp利用一組*的反褶積算法，從簡單的高斯近似到一種稱為“Nicomp分布”的專有高分辨率多模態(tài)反褶積分析讓人糾結，在描述這些困難的顆粒尺寸分布方面做得很好規模。

在高斯分析模式下發(fā)現(xiàn)的一些*的特征是基線調整參數(shù)，它提供了總補償基石之一，超越了其他大多數(shù)使用灰塵或污垢因素的儀器上的靈敏度聯動。高斯分析模式還允許用戶一個固體或囊泡加權模式來分析像脂質體這樣的薄壁膠體系統(tǒng)。Nicomp分析模式是一種專有的高分辨率反褶積算法共同努力，它是25年前*引入的行業內卷。它在歷*證明了它能夠準確地分析即使是困難的緊密間隔的雙峰(例如，2：1的間隔)逐漸完善，甚至是某些三模態(tài)分布參與能力。這對于查找聚集分布的本機峰值非常有用。

標準的Nicomp 380配有12 mW激光二極管和PMT探測器，光纖設定為90°。樣品是通過插入單元引入的技術交流，380是僅有采用模塊化方法設計的動態(tài)光散射儀落到實處。可以通過增加一個或多個模塊來增強其能力：

自稀釋

該模塊不需要人工稀釋濃縮樣品。自動稀釋使粒度分析快速、簡便，不需要任何訓練業務指導。結果重復性好。

380/HPLD大功率激光二極管

PSS提供了一個高功率激光二極管陣列優化程度，以滿足我們需要的應用積極性。需要更高功率的激光來擴展我們儀器的下限，提供足夠的來自小粒子的散射不斷豐富。它們在測量大顆粒時也很有用約定管轄，如右旋反式，由于折射率的原因創新的技術，這些粒子產生的散射強度不足發揮。其結果是一種更通用的儀器，適用于微乳液快速增長、表面活性劑膠束開放以來、蛋白質和其他大分子的施膠。它甚至可以估計重組后生物聚合物的聚集程度高質量，而不需要色譜分離提供了有力支撐。

雪崩光電二極管(APD)探測器

Nicomp 380可以配備各種高功率激光器以及高增益雪崩光電二極管探測器(APD)，它提供的增益大約是傳統(tǒng)光電倍增管的7倍前景。APD是用來增加信號對噪聲和靈敏度的系統(tǒng)進一步意見，但不能很好地散射光增幅最大。蛋白質、膠束生產能力、其他以大分子為基礎的系統(tǒng)和納米粒子往往被稀釋(1毫克/毫升或更少)標準，并且是由不能很好地散射光的原子組成的。雪崩光電二極管與名義上更高功率的激光二極管模塊相結合堅持好，為在短時間內精確分析納米粒子提供了一種低成本的解決方案即將展開。

380/MA多角度測速儀

大于100 nm的粒子不會向所有方向均勻散射光。通過改變探測角度特性，可以使DLS測量對某些尺寸的粒子更加敏感傳承。Nicomp 380可配備微型測角儀，使光纖以0.9°增量的速度在12°至175°之間移動建言直達。

Zeta電位

Nicomp 380/ZLS用于測定液體懸浮液中帶電粒子的電泳遷移率和Zeta電位多種。測量Zeta電位的主要原因是預測膠體的穩(wěn)定性。顆粒間的相互作用對膠體的穩(wěn)定性起著重要的作用充分發揮。利用Zeta電位測量來預測穩(wěn)定性是量化這些相互作用的一種嘗試發展成就。Zeta勢是測量粒子間排斥力的一種方法。由于大多數(shù)水膠體系統(tǒng)是通過靜電斥力來穩(wěn)定的綜合措施，粒子間的排斥力越大，它們就越不可能緊密地聚集在一起自然條件。這樣膠體就越穩(wěn)定設計標準。Nicomp 380/ZLS將動態(tài)光散射(DLS)技術和電泳光散射(ELS)技術相結合，在一臺緊湊型儀器中測量了亞微米級的粒徑分布和Zeta電位互動互補。

Nicomp 380/ZLS采用電泳光散射(ELS)方法測量Zeta電位發揮重要帶動作用。為了進行測量，一個小樣本通常被放置在一個一次性塑料容器中意料之外。然后插入鈀電極文化價值。整個細胞被放置在Nicomp 380里。由于*的單元設計置之不顧，因此不需要將單元與固定平面對齊不斷完善。在單元格就位后，只需簡單地單擊鼠標即可開始測量方便。由于ELS需要使用外差光基礎上，因此在進入探測器之前，散射光必須與參考光束(從入射光束中分離)適當?shù)鼗旌蠎妙I域。該軟件將通過自動調整入射光強度來開始測量保持競爭優勢，以優(yōu)化散射光與參考光束之間的混合。一旦完成發展機遇，當電場關閉時長效機製，測量參考功率譜法治力量。然后施加電場，測量另一個功率譜分享。與參考譜相比共享，這個功率譜中的峰值頻率的變化是多普勒頻移。多普勒頻移用于計算平均遷移率表示。利用Smoluchowski方程確定了Zeta勢全面闡釋。

自動滴定器

Autoitrator模塊使Nicomp 380/ZLS能夠在一系列不同的pH值或離子濃度下自動對同一樣品進行多次測量。這樣就可以確定等電點.

相位分析光散射(PALS)

使用相位分析(而不是標準幅度分析)可以更準確和精確地測量小多普勒頻移競爭力所在。這意味著Zeta電位測量可以在高離子強度或高介電環(huán)境(如醇和有機溶劑)中進行引人註目。