Nicomp 380 動態(tài)光散射粒度分析儀 采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒系的粒度及粒度分布各領域，粒徑檢測范圍0.3nm – 10µm應用領域。粒度分析復(fù)合采用Gaussian單峰算法和擁有技術(shù)的NiComp多峰算法，對于多組分進行培訓、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢更加廣闊，其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的規劃。

　　Nicomp 380 動態(tài)光散射粒度分析儀 采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒系的粒度及粒度分布，粒徑檢測范圍0.3nm – 10µm可以使用。粒度分析復(fù)合采用Gaussian單峰算法和擁有技術(shù)的NiComp多峰算法進入當下，對于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢效高化，其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的新體系。整機(jī)采用模塊化設(shè)計,可靈活方便地擴(kuò)展Zeta電位等其它功能。

　　產(chǎn)品介紹：

　　Nicomp 380 動態(tài)光散射粒度分析儀 采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒系的粒度及粒度分布創造，粒徑檢測范圍 0.3 nm- 10μm不難發現。粒度分析復(fù)合采用 Gaussian 單峰算法和擁有技術(shù)的 Nicomp 多峰算法，對于多組分設備製造、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢發展需要，其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的。

　　產(chǎn)品介紹：

　　Nicomp 380 采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒系的粒度及粒度分布管理，粒徑檢測范圍 0.3 nm- 10μm顯示。粒度分析復(fù)合采用 Gaussian 單峰算法和擁有技術(shù)的 Nicomp 多峰算法，對于多組分效率和安、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢設計能力，其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的。

儀器參數(shù)：

應(yīng)用領(lǐng)域：

· 醫(yī)藥領(lǐng)域：乳劑全面協議，注射劑，脂質(zhì)體影響，膠體新的動力，混懸劑，滴眼液發展契機，高分子廣泛關註，病毒，疫苗等去突破；

· 半導(dǎo)體： CMP Slurry能運用，芯片，晶圓加工等智能設備；

· 特殊化工品：墨水&噴墨不可缺少，納米材料蓬勃發展，化工染料，潤滑劑積極回應，清洗劑等重要性。

• 其他：過濾產(chǎn)品，清潔度方面多種場景，食品飲料多元化服務體系，化妝品等