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簡介:OTWR氣浮光學(xué)平臺扶手是卓立為氣浮平臺設(shè)計的扶手參與水平,這樣手腕或胳膊大型,可以搭在平臺扶手上,讓雙手得到休息明確相關要求,也從一定程度上可避免觸碰臺面引起的臺面晃動重要意義。
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簡介:使用OTSB-HD100鋁合金面包板把手搬運(yùn)平臺時,請注意安全深化涉外。我們不建議您將把手用于鐵磁不銹鋼的光學(xué)面包板或光學(xué)平臺體系。
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簡介:OTSS系列光學(xué)平臺支架(OpticalTableShelfSystem)平臺用儀器支架是光學(xué)平臺應(yīng)用的延伸,獨(dú)立放置,可放置示波器、各種控制器、適配器電腦等,不僅可以充分利用光學(xué)平臺上方的空間,...
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簡介:光學(xué)平臺DVID-L系列采用三聚氰胺上板(TopCover)攜手共進,具有與一般臺子一樣的美觀共同,在國內(nèi)*安裝了水平隔振器具,提高了水平/垂直*的隔振性能
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簡介:作為半導(dǎo)體FAB用經過,DVID-C光學(xué)平臺可在Class1潔凈的室內(nèi)環(huán)境中使用簡單化。所有材料均用不銹鋼制作,可防腐蝕或退色問題明確了方向,安裝有防靜電裝置與能夠保持潔凈室內(nèi)空氣潔凈度的集中排氣回收器具
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簡介:DVIA-MO系列高精密主動隔振光學(xué)平臺可以在低頻范圍(0.5-10Hz)提供非常隔振性能系統性,它可以應(yīng)用于很多對振動要求非常高,甚至具有挑戰(zhàn)的領(lǐng)域單產提升,比如高分辨率的光譜儀傳遞,高分辨率電子顯微鏡和精密納米...
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簡介:進(jìn)口氣浮隔振光學(xué)平臺DVIO-I系列為韓國DAEIL(大一)株式會社生產(chǎn)的氣浮隔振式光學(xué)平臺,由臺面和支撐兩部分組成勞動精神。
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簡介:ZDP系列氣浮隔振光學(xué)平臺為采用韓國DAEIL(大一)氣浮支架提供有力支撐,配合卓立漢光光學(xué)平臺臺面(OTBP系列),組合而成的氣浮式隔振光學(xué)平臺保供,整體高度800mm自行開發,分為臺面和支撐兩部分。
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簡介:激光驅(qū)動白光光源EQ99X采用激光泵浦的方式維持等離子體放電發(fā)光責任,避免了使用電極所帶來的種種缺陷應用情況。光譜范圍:170nm-2100nm
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簡介:ZVP系列氣浮隔振光學(xué)平臺采用DAEIL(大一)氣浮支架,配合卓立漢光光學(xué)平臺臺面(同OTP臺面)應用前景,組合而成的氣浮式隔振光學(xué)平臺有很大提升空間,整體高度800mm,分為臺面和支撐兩部分首次。
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