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雙折射輸入面

準(zhǔn)確的進(jìn)行雙折射光線的追跡要比追跡普通光線復(fù)雜的多：我們必須分別考慮尋常光和非尋常光的折射率和波矢方向完善好。因此雙折射光線追跡功能只在光線入射到雙折射輸入 (Birefringent-In) 表面時(shí)開始執(zhí)行大面積，在雙折射輸出 (Birefringent-Out) 表面結(jié)束。并且在雙折射輸入和雙折射輸出表面之間只允許存在坐標(biāo)間斷 (Coordinate Break) 表面問題分析。

在尋常光追跡中培養，光線向量S和波矢k的方向一致，因此OpticStudio使用尋常光的波矢k的分量來(lái)定義光線的方向余弦更加完善。

在非尋常光追跡中形式，k、S和晶軸向量a處于同一平面但不重合支撐作用，因此使用S的分量定義光線的方向余弦日漸深入。

以下為模擬一塊方解石晶體雙折射的示例，其中虛線表示晶軸：

入射光線入射到方解石晶體上并分裂為兩個(gè)方向的光線同時。其中尋常光線產(chǎn)生正常的折射互動式宣講，由于入射表面為平面，因此光線沒有發(fā)生偏折模式。非尋常光線則產(chǎn)生雙折射自動化，因此即便光線正入射平面也產(chǎn)生了偏折。

下圖為OpticStudio中有關(guān)雙折射晶體的設(shè)置：

光線在入射到雙折射輸入面之前都是按照正常情況進(jìn)行光線追跡高品質。雙折射輸入表面與標(biāo)準(zhǔn)表面一樣（可定義為圓錐面）不折不扣，此時(shí)材料使用的是CALCITE，OpticStudio將使用該材料折射率進(jìn)行尋常光光線追跡資源優勢。OpticStudio將在相同的材料庫(kù)中尋找材料名為CALCITE-E的材料高效利用，并使用該材料折射率進(jìn)行非尋常光光線追跡。通過(guò)使用兩種實(shí)際材料不斷完善，追跡過(guò)程可以考慮材料的所有屬性（透過(guò)率數字化、色散和熱膨脹屬性等）。

晶軸方向與表面法向量的夾角在雙折射輸入表面中定義：

在雙折射輸入面的局部坐標(biāo)系下直接輸入晶軸的方向余弦。其中參數(shù)“顯示軸線 (Draw Axis)”用來(lái)定義布局圖中表示晶軸的虛線的長(zhǎng)度（透鏡單位）改革創新。如果您不想顯示晶軸則設(shè)置該參數(shù)為零即可知識和技能。

您可能會(huì)對(duì)布局圖中的結(jié)果存在一些疑問(wèn)：光線因雙折射而分裂為尋常光和非尋常光兩個(gè)分量，但是在序列模式下光線是無(wú)法產(chǎn)生分裂的（這意味著輸入一條光線時(shí)輸出也是一條光線）新模式。實(shí)際上OpticStudio執(zhí)行了兩次光線追跡分別追跡兩種情況實現，并使用模式參數(shù) (Mode Flag) 來(lái)決定當(dāng)前光線追跡的類型：

1、如果模式參數(shù)為0組織了，則將追跡尋常光線

2服務體系、如果模式參數(shù)為1，則將追跡非尋常光線

上文中顯示的布局圖同時(shí)顯示了多重結(jié)構(gòu)下模式參數(shù)為0和模式參數(shù)為1的結(jié)構(gòu)：