光刻工藝：勻膠
01引言
在高科技迅猛發(fā)展的今天新的力量，半導(dǎo)體工藝已經(jīng)成為現(xiàn)代電子產(chǎn)品的基石先進水平。而光刻工藝，作為半導(dǎo)體制造中重要的一環(huán)全面展示，更是扮演著至關(guān)重要的角色重要平臺。其中，勻膠步驟作為光刻工藝的關(guān)鍵環(huán)節(jié)核心技術，其精密性和準(zhǔn)確性直接關(guān)系到最終產(chǎn)品的質(zhì)量和性能應用提升。本期，我們就來(lái)一起揭開(kāi)光刻工藝中勻膠步驟的神秘面紗創造性，探索其背后的科學(xué)奧秘發展的關鍵。
02光刻工藝介紹
光刻工藝，簡(jiǎn)而言之規模設備，就是通過(guò)一系列復(fù)雜的步驟真諦所在，在硅片上精確地刻制出所需的圖案。而勻膠步驟競爭力，正是這一過(guò)程中的重要一環(huán)充分。它的主要任務(wù)，就是在硅片上均勻地涂上一層光刻膠集聚，為后續(xù)的曝光和顯影步驟提供堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)競爭力。
勻膠步驟通常分為四個(gè)主要階段：
1. 滴膠（靜態(tài)、動(dòng)態(tài)）
2. 旋轉(zhuǎn)鋪開(kāi)
3. 旋轉(zhuǎn)甩掉多余的膠
4. 溶劑揮發(fā)
首先狀況，當(dāng)硅片靜止或旋轉(zhuǎn)得非常緩慢時(shí)機製性梗阻，光刻膠被分滴在硅片上。接著積極，硅片快速加速旋轉(zhuǎn)探索，使光刻膠迅速伸展到整個(gè)硅片表面堅持先行。然后產業，通過(guò)旋轉(zhuǎn)甩掉多余的光刻膠滿意度，確保硅片上只留下均勻且厚度適中的光刻膠覆蓋層。最后可持續，以固定轉(zhuǎn)速繼續(xù)旋轉(zhuǎn)已涂膠的硅片主要抓手，直至溶劑揮發(fā)，光刻膠膠膜幾乎干燥構建。
TIPS：
在這個(gè)過(guò)程中創新科技，勻膠機(jī)的性能和環(huán)境控制都是至關(guān)重要的。高精度的勻膠機(jī)能夠確保光刻膠的均勻性和厚度一致性共創輝煌，而嚴(yán)格的環(huán)境控制則能有效減少顆粒污染和硅片損傷的風(fēng)險(xiǎn)具有重要意義。
除了勻膠步驟本身，我們還需要關(guān)注光刻膠的選擇和使用大部分。不同的光刻膠具有不同的特性和適用范圍強大的功能，選擇合適的光刻膠對(duì)于確保整個(gè)光刻工藝的順利進(jìn)行至關(guān)重要。
03關(guān)鍵因素
速度和加速度是決定勻膠獲得薄膜厚度的關(guān)鍵因素解決方案。
襯底的旋轉(zhuǎn)速度控制著施加到樹(shù)脂上的離心力和樹(shù)脂上方空氣的湍流度優勢。
襯底由低速向最終旋轉(zhuǎn)速度的加速也會(huì)極大地影響薄膜的性能。由于樹(shù)脂在開(kāi)始旋轉(zhuǎn)的幾圈內(nèi)就開(kāi)始溶劑揮發(fā)過(guò)程增產，因此控制加速階段非常重要這個(gè)階段光刻膠會(huì)從中心向樣品周?chē)鲃?dòng)并鋪展開(kāi)便利性。在許多情況下，光刻膠中高達(dá)50%的基礎(chǔ)溶劑會(huì)在溶解的最初幾秒鐘內(nèi)蒸發(fā)掉行動力。因此提供有力支撐，盡量使用“快速”工藝技術(shù)，在很短的時(shí)間內(nèi)將光刻膠從樣品中心甩到樣品邊緣保供。在這種加速度驅(qū)動(dòng)材料向襯底邊緣移動(dòng)自行開發，使不均勻的蒸發(fā)最小化，并克服表面張力以提高均勻性振奮起來。高速度品質，高加速步驟后是一個(gè)更慢的干燥步驟和/或立即停止到0 rpm。
04影響光刻膠旋涂厚度的因素
05去“邊膠”
勻膠后在襯底邊緣處會(huì)形成較厚的邊（邊珠效應(yīng)深入各系統，這會(huì)影響到光刻的圖形精度）解決問題。可在涂膠過(guò)程中加入去邊及背噴工藝（PGMEA 預下達、EGMEA為常用去邊液）
06勻膠后出現(xiàn)的缺陷
07結(jié)語(yǔ)
光刻工藝：勻膠的有效手段，其精確性和穩(wěn)定性對(duì)于整個(gè)制造過(guò)程至關(guān)重要。它要求我們?cè)谀z層厚度方案、均勻性和粘附性等方面達(dá)到高標(biāo)準(zhǔn)關鍵技術，以確保后續(xù)的曝光和刻蝕步驟能夠順利進(jìn)行了解情況。
隨著科技的不斷發(fā)展，勻膠工藝也在不斷進(jìn)步和完善技術研究。新的材料重要的、新的工藝方法不斷涌現(xiàn)，為集成電路制造帶來(lái)了更多的可能性和挑戰(zhàn)姿勢。我們相信相互融合，在科研人員和工程師們的共同努力下，勻膠工藝將會(huì)越來(lái)越成熟綠色化，為我們的生活帶來(lái)更多便利和驚喜不同需求。
