在微電子發揮作用、半導(dǎo)體良好、光電子等領(lǐng)域，光刻膠是關(guān)鍵材料銘記囑托，它如同精密制造的“魔法畫(huà)筆”引領，為微納加工提供了精準(zhǔn)的圖案轉(zhuǎn)移能力。
S1800 G2系列光刻膠： 這是一款高分辨率正膠示範，膠厚范圍在0.4至2.7微米之間應用前景，常被用作正性薄膠。它具有優(yōu)良的粘附性運行好，極限線(xiàn)寬可達(dá)0.5微米首次。特別適用于需要小線(xiàn)寬的雙層膠lift-off工藝，可以搭配LOR/PMGI系列使用部署安排。該系列包含S1805 G2搖籃、S1813 G2、S1818 G2等型號(hào)推廣開來。
SPR955-CM系列光刻膠： 同樣屬于高分辨率正膠推動，其膠厚范圍更寬，為0.7至3.5微米資源配置，也是常用的正性薄膠信息，粘附性良好，極限線(xiàn)寬為0.35微米大力發展。包含的型號(hào)有SPR 955-0.7首要任務、SPR 955-0.綠色化、SPR 955-1.1、SPR 955-1.4發展、SPR 955-1.8建設應用、SPR 955-2.1等。
ROL-7133光刻膠： 這是一款國(guó)產(chǎn)常用的負(fù)膠日漸深入，適用于g線(xiàn)動力、h線(xiàn)及i線(xiàn)光源/波長(zhǎng)，膠厚范圍在2.2至4微米互動式宣講，其底切角度適中效高性，非常適合用于lift-off工藝來(lái)制作金屬電極或?qū)Ь€(xiàn)。
SUN-lift 1303 光刻膠： 另一款國(guó)產(chǎn)常用負(fù)膠自動化，同樣適用g/h/i線(xiàn)光源/波長(zhǎng)提升，膠厚范圍也是2.2至4微米，底切角度適中不折不扣，可用于lift-off工藝制作金屬電極或?qū)Ь€(xiàn)支撐能力。
PMMA 光刻膠： 是一種正性電子束光刻膠，以其高分辨率著稱(chēng)高效利用，適用于電子束光刻特征更加明顯、二維材料轉(zhuǎn)移、多層T-gate等精密工藝講理論。
AZ 5214E光刻膠： 作為常用正性薄膠的可能性，其膠厚范圍在1至1.6微米。它既可以搭配LOR/PMGI做雙層膠lift-off工藝服務為一體，也可以直接反轉(zhuǎn)成負(fù)膠來(lái)做lift-off工藝問題，靈活性較高。
AZ 4620光刻膠： 是一款常用正性厚膠全會精神，膠厚范圍很廣緊密相關，從3到60微米，可用于干法/濕法刻蝕先進技術、電鍍等多種工藝培訓。
AZ MIR 701/703光刻膠： 屬于高分辨率正膠，膠厚范圍在0.7至1.4微米宣講手段，是常用的正性薄膠重要工具，粘附性好，極限線(xiàn)寬為0.5微米配套設備。
SU-8光刻膠： 是一種高深寬比負(fù)膠更優質，其膠厚范圍極大，可達(dá)0.5至650微米引人註目。它具有高透明度和陡直性好的特點(diǎn)領域，非常適合用于制作絕緣層溝通機製、微流控等工藝。
AZ nLOF 2000系列光刻膠： 屬于nlof系列負(fù)性光刻膠註入新的動力，是耐高溫的Lift-off光刻膠領先水平。包含的型號(hào)有AZ nLOF 2020、AZ nLOF 2035雙重提升、AZ nLOF 2070戰略布局。
SPR220系列光刻膠： 是常用正膠，膠厚范圍在1至10微米表現明顯更佳，可用于干法/濕法刻蝕狀態、電鍍等工藝。包含的型號(hào)有SPR220-3.0指導、SPR220-4.5廣泛認同、SPR220-7.0。
AZ 1500系列光刻膠： 為高分辨率正膠流動性，膠厚范圍在0.7至1.4微米鍛造，是常用的正性薄膠，粘附性好追求卓越，極限線(xiàn)寬為0.5微米。它也可作為雙層膠lift-off工藝的底層膠參與能力，可與S1800 G2合理需求、SPR 955、AZ5214E等光刻膠搭配使用充分發揮，其膠厚范圍在50納米至6微米高質量，粘附性好且易于去膠。
此外選擇適用，光刻膠領(lǐng)域還涉及到圖形反轉(zhuǎn)膠管理、電子束光刻膠、雙層膠工藝業務指導、LOR光刻膠改進措施、PMGI SF光刻膠、Lift-off工藝光刻膠長足發展、正性光刻膠今年、負(fù)性光刻膠、厚光刻膠實施體系、薄光刻膠組建、紫外光刻膠以及底層膠等多種類(lèi)型和概念。這些不同特性的光刻膠產(chǎn)品效果較好，為各種復(fù)雜的微納加工需求提供了多樣化的選擇重要的意義。
