光刻膠系列 SU-8光刻膠
在微觀世界的探索中，有一種神奇的材料像一棵樹，它就像是我們手中的魔法棒過程中，能夠精準(zhǔn)地勾勒出微觀世界的藍(lán)圖，那就是——光刻膠能運用，我們今天要介紹是光刻膠中重要的分類——SU-8達到。
在托托科技，我們深入研究SU-8光刻膠的特性不可缺少，探索其應(yīng)用方案蓬勃發展，致力于為科研工作者和工程師們提供光刻膠產(chǎn)品和解決方案。今天積極回應，就讓我們一起走進(jìn)SU-8光刻膠的世界重要性，感受它帶來(lái)的無(wú)限魅力又進了一步！
什么是SU-8光刻膠
SU-8光刻膠是一種基于環(huán)氧樹(shù)脂的負(fù)性光刻膠，其中“負(fù)性”意味著當(dāng)光刻膠暴露于紫外線時(shí)多元化服務體系，暴露部分會(huì)形成交聯(lián)規劃，而未被暴露的部分在顯影過(guò)程中會(huì)被沖洗掉，其名字來(lái)源于其結(jié)構(gòu)中的8個(gè)環(huán)氧基團(tuán)深度，這些環(huán)氧基團(tuán)可以交聯(lián)形成最終結(jié)構(gòu)帶動擴大。
材料特性
SU-8是一種具有高分辨率、高精度和高附著性的光刻膠開拓創新，可用于制備復(fù)雜性能、精細(xì)的微型結(jié)構(gòu)，能夠在厚度從低于1μm到超過(guò)300μm的范圍內(nèi)旋涂綜合運用，或用于超過(guò)1mm厚的干膜的層壓，同時(shí)SU-8擁有良好的光學(xué)特性（透明度）的方法，較大高寬比實事求是，優(yōu)異的生物相容性，出色的熱穩(wěn)定性和化學(xué)穩(wěn)定性落到實處。
SU-8光刻膠在近紫外光（365nm-400nm）范圍內(nèi)光吸收度很低服務水平，整個(gè)光刻膠層所獲得的曝光量均勻一致，因此可以得到具有垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形技術創新。
SU-8光刻膠具有高機(jī)械強(qiáng)度處理方法，可用于平坦化的化學(xué)機(jī)械拋光SU-8光刻膠可以形成臺(tái)階等結(jié)構(gòu)復(fù)雜的圖形，并可以直接作為絕緣體在電鍍時(shí)使用持續向好。
SU-8光刻膠還具有優(yōu)秀的成像能力習慣，可以制作出大高寬比的結(jié)構(gòu)（紫外光源曝光下高寬比可達(dá)10:1，X射線光源下高寬比可達(dá)100:1）兩個角度入手。同時(shí)其透光性優(yōu)異建強保護，可以在毫米級(jí)厚度的膜層上制作出垂直度好的側(cè)壁。
SU-8可以用來(lái)做什么生產效率？
SU-8光刻膠在MEMS 領(lǐng)域應(yīng)用廣泛使命責任，可用于制作光波導(dǎo)、微透鏡等光學(xué)器件使用，以及微流控芯片合規意識、微電機(jī)陣列等微機(jī)械系統(tǒng)，還能用于制備電鍍模具有效性、傳感器和微納結(jié)構(gòu)創新內容。在微流控芯片中，SU-8光刻膠可用來(lái)制備微流道廣泛關註、反應(yīng)室我有所應、閥門(mén)、泵等微型結(jié)構(gòu)，同時(shí)也可作為封裝材料至關重要，用于制作上下蓋板發展空間、連接件、密封件等實(shí)現(xiàn)芯片封裝有所應。
SU-8光刻工藝
傳統(tǒng)獲得SU-8光刻結(jié)構(gòu)的方式是有掩模光刻足了準備，但是有掩模光刻機(jī)光刻SU-8時(shí)，光刻機(jī)需要掩模版與光刻膠上表面緊密接觸以提高光刻精度著力提升，因此隨著時(shí)間的推移深刻內涵，涂有SU-8的晶圓片不可避免地會(huì)粘在掩模版上。這些膠會(huì)影響接觸式光刻機(jī)的分辨率融合；它還可能導(dǎo)致掩模版上的鉻特征結(jié)構(gòu)受到不可逆轉(zhuǎn)的損傷深入闡釋。
然而托托科技的無(wú)掩模光刻技術(shù)則不需要制備掩模版，直接通過(guò)計(jì)算機(jī)控制空間光調(diào)制器或激光直寫(xiě)等設(shè)備將芯片圖案直接投射到SU-8光刻膠上進(jìn)行加工完成的事情。避免了光刻膠粘版問(wèn)題物聯與互聯，分辨率也可以保證甚至是更高。
工藝成果展示
托托科技-SU8的高寬比結(jié)構(gòu)
托托科技-SU8的超厚膠結(jié)構(gòu)
3D細(xì)胞培養(yǎng)微流控芯片
串聯(lián)稀釋階梯微流控芯片
高速分選細(xì)胞微流控芯片
單細(xì)胞分析微流控芯片
托托科技-SU8模具(PDMS微流控芯片的模具）
從最初為半導(dǎo)體器件制造提供高分辨率掩模改造層面，到如今在微流控供給、微電機(jī)系統(tǒng)部件制造乃至生命科學(xué)應(yīng)用中的大放異彩，SU-8光刻膠展現(xiàn)了其無(wú)限的可能性和巨大的潛力經驗分享。
其材料特性深入各系統，如優(yōu)異的生物相容性、良好的力學(xué)性能系列、抗化學(xué)腐蝕性和熱穩(wěn)定性作用，以及能夠形成具有垂直側(cè)壁和高深寬比的厚膜圖形等，使得SU-8光刻膠成為微加工和MEMS領(lǐng)域的重要材料慢體驗。通過(guò)光刻工藝高質量，我們可以利用SU-8光刻膠制備出各種微型結(jié)構(gòu)，如微流道重要組成部分、反應(yīng)室流程、泵、閥門(mén)等勃勃生機，為微流控芯片的制備提供了強(qiáng)有力的支持助力各業。
隨著科技的不斷進(jìn)步，光刻膠系列 SU-8光刻膠的應(yīng)用領(lǐng)域還將不斷擴(kuò)大提供有力支撐。我們期待在未來(lái)應用，SU-8光刻膠能夠在更多領(lǐng)域發(fā)揮重要作用，為人類的科技進(jìn)步和生活改善做出更大的貢獻(xiàn)品率。同時(shí)相貫通，我們也相信不斷發展，隨著對(duì)SU-8光刻膠研究的不斷深入，我們將能夠更深入地理解其性能和機(jī)理自動化方案，為其在更多領(lǐng)域的應(yīng)用提供更好的支持緊密協作。
