資料類型
pdf資料簡介
電位滴定法測量Zeta電位和PH的關(guān)系
Potentiometric Titrations are useful for determining a sample's IEP. As mentioned above, the IEP may be desirable or otherwise. Potentiometric Titration plots may display plateau regions for Zeta potential vs. pH. Such measurements enable manufacturers to optimize use of acids or bases for transportation and storage. Figure 2 shows a potentiometric titration on a Ludox-TM silica sample by automatic addition of 1N HCl. This titration was performed automatically by a Zeta-APS, Zeta Acoustic Particle Sizer, instrument from Matec Applied Sciences, Northborough, MA USA 3. Figure 2 shows that below pH 4, the Zeta curve approaches a plateau region while Conductivity increases more rapidly. This suggests that the silica particles are becoming saturated with H+ ions as the pH is lowered. Conductivity increases more rapidly as more of these H+ ions stay in the continuous water solvent as opposed to diffusing through the slipping plane toward the particle surface.
電位滴定法可用于測定樣品的等電點。如上所述服務體系,IEP可能是可取的或者相反說服力。電位滴定圖可以顯示Zeta電位與pH值之間的關(guān)系變化。這樣的測量使制造商通過酸或堿的使用分析,優(yōu)化產(chǎn)品的運輸和儲存表示。圖2顯示在Ludox TM二氧化硅樣品上自動添加1N HCl時,Zeta電位及電導(dǎo)率的變化非常激烈。該過程是由美國MAS公司生產(chǎn)的超聲電聲法粒度及Zeta電位分析儀Zeta-APS設(shè)備完成的競爭力所在。圖2顯示,在pH<4時領域,Zeta曲線接近一個穩(wěn)定區(qū)域溝通機製,而電導(dǎo)率增加得更快。這表明帶來全新智能,隨著pH值的降低實現了超越,二氧化硅顆粒逐漸被H+離子飽和。當(dāng)更多的H+離子停留在連續(xù)的水溶劑中時去完善,電導(dǎo)率增加得更快橋梁作用,而不是通過滑面向顆粒表面擴散長遠所需。

圖2通過自動電位滴定法將1N HCl加入到10%體積的Ludox TM二氧化硅溶液中
Figure 2. Automatic potentiometric titration of 10%-vol Ludox-TM by 1N HCl addition.
免責(zé)聲明
- 凡本網(wǎng)注明“來源:儀器網(wǎng)”的所有作品聯動,均為浙江興旺寶明通網(wǎng)絡(luò)有限公司-化工儀器網(wǎng)合法擁有版權(quán)或有權(quán)使用的作品,未經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)不得轉(zhuǎn)載的發生、摘編或利用其他方式使用上述作品組成部分。已經(jīng)本網(wǎng)授權(quán)使用作品的,應(yīng)在授權(quán)范圍內(nèi)使用新的動力,并注明“來源:儀器網(wǎng)”的過程中。違反上述聲明者,本網(wǎng)將追究其相關(guān)法律責(zé)任廣泛關註。
- 本網(wǎng)轉(zhuǎn)載并注明自其他來源(非儀器網(wǎng))的作品促進進步,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網(wǎng)贊同其觀點和對其真實性負責(zé)優勢領先,不承擔(dān)此類作品侵權(quán)行為的直接責(zé)任及連帶責(zé)任迎來新的篇章。其他媒體、網(wǎng)站或個人從本網(wǎng)轉(zhuǎn)載時推動並實現,必須保留本網(wǎng)注明的作品第一來源薄弱點,并自負版權(quán)等法律責(zé)任。
- 如涉及作品內(nèi)容信息化、版權(quán)等問題形勢,請在作品發(fā)表之日起一周內(nèi)與本網(wǎng)聯(lián)系實踐者,否則視為放棄相關(guān)權(quán)利取得明顯成效。
第四屆全國光譜大會
展會城市:株洲市展會時間:2025-05-08