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橢偏儀是一種用于探測薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)以及材料微結(jié)構(gòu)的光學(xué)測量設(shè)備效率和安。橢偏光譜不直接測算光強(qiáng)設計能力，而是從相位空間尋找材料的光學(xué)信息，在材料學(xué)領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用深入開展，特別是薄膜的各種特性的測量更為一致。
基本原理：
偏振光在介質(zhì)的表面反射時(shí)，其偏振狀態(tài)將發(fā)生變化建議，通過測量這些變化并建模分析品率，可以獲得介質(zhì)材料的光學(xué)常數(shù)和結(jié)構(gòu)參數(shù)信息。
應(yīng)用領(lǐng)域：
1.固體薄膜光學(xué)性質(zhì)的測量：應(yīng)用橢偏儀可對單層吸收膜不斷發展、雙層膜及多層膜進(jìn)行測量積極影響，得到材料的光學(xué)常數(shù)折射率N和吸收系數(shù)K自動化方案，進(jìn)而得到其介電常數(shù)。近年來也實(shí)現(xiàn)了對離子注入損傷分布的測量越來越重要、超晶格線上線下、粗糙表面、界面的測量醒悟。
2.物理吸附和化學(xué)吸附：應(yīng)用橢偏儀可以現(xiàn)場且無損地研究與氣態(tài)數據顯示、液態(tài)周圍媒質(zhì)相接觸地表面上吸附分子或原子形態(tài)的問題。
3.界面與表面的應(yīng)用：橢偏儀廣泛用于研究處于各種不同環(huán)境中的材料的表面的氧化和粗糙程度能運用，以及材料接觸界面的分析達到。例如金屬和半導(dǎo)體接觸的研究。
4.電化學(xué)：離子吸附不可缺少、陽極氧化蓬勃發展、鈍化腐蝕及電拋光等電化學(xué)過程，可以現(xiàn)場深入地研究電極-電解液界面過程積極回應。
5.微電子領(lǐng)域：在微電子領(lǐng)域中重要性，研究薄膜生長過程，薄膜厚度多種場景，半導(dǎo)體的表面狀況以及不同材料的界面情況多元化服務體系，離子的注入損傷分布等。
6.一些高技術(shù)材料的研究及其它新領(lǐng)域：高溫超導(dǎo)材料擴大公共數據、低維材料深度、導(dǎo)電聚合物以及光電子學(xué)、聲光學(xué)和集成光學(xué)核心技術體系、激光技術(shù)等領(lǐng)域開拓創新。
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