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參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱(chēng) 北京億誠(chéng)恒達(dá)科技有限公司
品牌
型號(hào) NANOMAPD
所在地 北京市
廠商性質(zhì) 代理商
更新時(shí)間 2016/9/9 12:15:52
訪問(wèn)次數(shù) 712

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化研究，降低對(duì)人的依賴(lài)度高效；傳統(tǒng)的塑膠模具開(kāi)模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離提高，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開(kāi)模前機構，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化交流，降低對(duì)人的依賴(lài)基礎。

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

美國(guó)AEP Technology公司主要從事半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備, MEMS檢測(cè)設(shè)備, 光學(xué)檢測(cè)設(shè)備的生產(chǎn)制造，是表面測(cè)量解決方案行業(yè)的*供應(yīng)者,專(zhuān)門(mén)致力于材料表面形貌測(cè)量與檢測(cè)推進一步。

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NANOMAP D光學(xué)探針雙模式輪廓儀/三維形貌儀

美國(guó)AEP Technology公司主要從事半導(dǎo)體檢測(cè)設(shè)備, MEMS檢測(cè)設(shè)備, 光學(xué)檢測(cè)設(shè)備的生產(chǎn)制造經過，是表面測(cè)量解決方案行業(yè)的供應(yīng)者,專(zhuān)門(mén)致力于材料表面形貌測(cè)量與檢測(cè)。

NANOMAP D光學(xué)雙模式輪廓儀/三維形貌儀集白光干涉非接觸測(cè)量法和大面積SPM掃描探針接觸式高精度掃描成像于一個(gè)測(cè)量平臺(tái)力度。功能全明確了方向，技術(shù)*的表面三維輪廓測(cè)量顯微鏡。既有高精密度和準(zhǔn)確度的局部（Local）SPM掃描勇探新路，又具備大尺度和高測(cè)量速度單產提升；既可用來(lái)獲得樣品表面垂直分辨率高達(dá)0.05nm的三維形態(tài)和形貌，又可以定量地測(cè)量表面粗糙度及關(guān)鍵尺寸試驗，諸如晶粒勞動精神、膜厚開展攻關合作、孔洞深度、長(zhǎng)寬預下達、線粗糙度逐步改善、面粗糙度等，并計(jì)算關(guān)鍵部位的面積和體積等參數(shù)提升。樣件無(wú)須專(zhuān)門(mén)處理大大提高，在高速掃描狀態(tài)下測(cè)量輪廓范圍可以從1nm 到10mm。由于采用*的縫合技術(shù)研究成果，無(wú)論怎樣的表面形態(tài)取得了一定進展、粗糙程度以及樣品尺寸，一組m×n圖像可以被縫合放大任何倍率大面積，在高分辨率下創(chuàng)造一個(gè)大的視場(chǎng)積極參與，并獲得所有的被測(cè)參數(shù)。該儀器的應(yīng)用領(lǐng)域覆蓋了薄膜/涂層培養、光學(xué)交流研討，工業(yè)軋鋼和鋁、紙形式、聚合物相對較高、生物材料、陶瓷信息、磁介質(zhì)和半導(dǎo)體等幾乎所有的材料領(lǐng)域。

隨著微細(xì)加工技術(shù)的不斷進(jìn)步,微電路大力發展、微光學(xué)元件豐富內涵、微機(jī)械以及其它各種微結(jié)構(gòu)不斷出現(xiàn)，對(duì)微結(jié)構(gòu)表面形貌測(cè)量系統(tǒng)的需求越發(fā)迫切, NanoMap-D所具備的雙模式組合產能提升，結(jié)合了白光干涉非接觸測(cè)量及SPM掃描探針高精度掃描成像于一體適應性，克服了光學(xué)測(cè)量及掃描探針接觸式的局限性，并具有操作方便等優(yōu)點(diǎn)成功地保證了其在半導(dǎo)體器件通過活化，光學(xué)加工以及MEMS/MOEMS技術(shù)以及材料分析領(lǐng)域的地位落地生根。

NANOMAP D光學(xué)雙模式輪廓儀/三維形貌儀經(jīng)過(guò)廣泛嚴(yán)格的檢測(cè)，確保其作為測(cè)量?jī)x器的標(biāo)準(zhǔn)性和性健康發展，并保證設(shè)備的各種功能完好有效保障，各個(gè)部件發(fā)揮出色。用NIST標(biāo)準(zhǔn)可以方便快捷地校驗(yàn)系統(tǒng)的精度長效機製，所校準(zhǔn)用的標(biāo)樣為獲得美國(guó)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)局( NIST) 的計(jì)量單位的認(rèn)可講實踐。

NanoMap-D配備的軟件提供了二維分析、三維分析奮戰不懈、表面紋理分析市場開拓、粗糙度分析知識和技能、波度分析、PSD分析新模式、體積實現、角度計(jì)算、曲率計(jì)算組織了、模擬一維分析服務體系、數(shù)據(jù)輸出、數(shù)據(jù)自動(dòng)動(dòng)態(tài)存儲(chǔ)服務為一體、自定義數(shù)據(jù)顯示格式等問題。綜合繪圖軟件可以采集、分析全會精神、處理和可視化數(shù)據(jù)系統穩定性。表面統(tǒng)計(jì)的計(jì)算包括峰值和谷值分析〖姓故?；诟盗⑷~變換的空間過(guò)濾工具使得高通實力增強、低通、通頻帶和帶阻能濾波器變的容易探索創新。多項(xiàng)式配置帶來全新智能、數(shù)據(jù)配置、掃描新產品、屏蔽和插值去完善。交互縮放。X-Y和線段剖面長遠所需。三維線路求索、混合和固定繪圖。用于階越高度測(cè)量的地區(qū)差異繪圖規模。

NANOMAP D光學(xué)雙模式輪廓儀/三維形貌儀主要功能及應(yīng)用:

多種測(cè)量功能

精確定量的面積（空隙率穩定發展，缺陷密度，磨損輪廓截面積等）聯動、體積（孔深增持能力，點(diǎn)蝕，圖案化表面行業內卷，材料表面磨損體積以及球狀和環(huán)狀工件表面磨損體積等）追求卓越、臺(tái)階高度、線與面粗糙度,透明膜厚技術節能、薄膜曲率半徑以及其它幾何參數(shù)等測(cè)量數(shù)據(jù)指導。