NANOMAP 500LS輪廓儀/三維形貌儀紮實做，既有高精密度和準確度的局部（Local）SPM掃描空間廣闊，又具備大尺度和高測量速度；既可用來獲得樣品表面垂直分辨率高達0.05nm的三維形態(tài)和形貌提供深度撮合服務，又可以定量地測量表面粗糙度及關鍵尺寸服務品質，諸如晶粒、膜厚組成部分、孔洞深度影響、長寬、線粗糙度的過程中、面粗糙度等發展契機，并計算關鍵部位的面積和體積等參數(shù)。樣件無須專門處理促進進步，在高速掃描狀態(tài)下測量輪廓范圍可以從1nm 到10mm發力。該儀器的應用領

NANOMAP 500LS輪廓儀/三維形貌儀優勢領先，既有高精密度和準確度的局部（Local）SPM掃描，又具備大尺度和高測量速度共創美好；既可用來獲得樣品表面垂直分辨率高達0.05nm的三維形態(tài)和形貌推動並實現，又可以定量地測量表面粗糙度及關鍵尺寸，諸如晶粒覆蓋範圍、膜厚優化程度、孔洞深度、長寬奮勇向前、線粗糙度不斷豐富、面粗糙度等，并計算關鍵部位的面積和體積等參數(shù)組建。樣件無須專門處理各有優勢，在高速掃描狀態(tài)下測量輪廓范圍可以從1nm 到10mm。該儀器的應用領域覆蓋了薄膜/涂層發行速度、光學更加堅強，工業(yè)軋鋼和鋁、紙性能、聚合物初步建立、生物材料、陶瓷供給、磁介質和半導體等幾乎所有的材料領域的方法。

美國AEP Technology公司主要從事半導體檢測設備, MEMS檢測設備, 光學檢測設備的生產制造，是表面測量解決方案行業(yè)的供應者,專門致力于材料表面形貌測量與檢測進行探討。

NANOMAP 500LS輪廓儀/三維形貌儀技術特點

• 常規(guī)的接觸式輪廓儀和掃描探針顯微鏡技術的*結合落到實處。

• 雙模式操作（針尖掃描和樣品臺掃描），即使在長程測量時也可以得到*化的小區(qū)域三維測圖最新。

• 針尖掃描采用精確的壓電陶瓷驅動掃描模式技術創新，三維掃描范圍從10μm X 10μm 到500μm X 500μm。樣品臺掃描使用高級別光學參考平臺能使長程掃描范圍到50mm重要作用。

• 在掃描過程中結合彩色光學照相機可對樣品直接觀察持續向好。

• 針尖掃描采用雙光學傳感器，同時擁有寬闊測量動態(tài)范圍（zui大至500μm）及亞納米級垂直分辨率〕渥?。▃ui羞M展情況。?１nm ）

• 軟件設置恒定微力接觸。

• 簡單的2步關鍵操作綠色化發展，友好的軟件操作界面至關重要。

應用
 

• 三維表面輪廓測量和粗糙度測量，即適用于精密拋光的光學表面也可適用于質地粗糙的機加工零件用上了。

• 薄膜和厚膜的臺階高度測量提升行動。

• 劃痕形貌能力建設，磨損深度、寬度和體積定量測量自然條件。

• 空間分析和表面紋理表征設計標準。

• 平面度和曲率測量開展。

• 二維薄膜應力測量互動互補。

• 微電子表面分析和MEMS表征。

• 表面質量和缺陷檢測意向。