NanoCalc光學(xué)薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)是一種用戶可配置的膜厚測(cè)量系統(tǒng)合理需求，它利用分光光譜反射儀來(lái)精確地測(cè)量光學(xué)或非光學(xué)薄膜厚度是目前主流，可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、醫(yī)療和工業(yè)生產(chǎn)中高質量。

  NanoCalc是一種用戶可配置的膜厚測(cè)量系統(tǒng)充分發揮，它利用分光光譜反射儀來(lái)精確地測(cè)量光學(xué)或非光學(xué)薄膜厚度，可廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體管理、醫(yī)療和工業(yè)生產(chǎn)中設計。

  利用白光干涉測(cè)量法的原理，NanoCalc用一個(gè)寬波段的光源來(lái)測(cè)得不同波長(zhǎng)的反射數(shù)據(jù)基礎，由于反射率n和k隨膜厚的不同而變化提供堅實支撐，NanoCalc根據(jù)這一特性來(lái)進(jìn)行曲線擬合從而求得膜厚。在NanoCalc中高產，不同類型材料的相應(yīng)參數(shù)通過(guò)不同的模型來(lái)描述，從而保證了不同類型材料膜厚測(cè)量的準(zhǔn)確性發揮作用。NanoCalc的膜厚測(cè)量范圍為1nm到1mm數據，只要待測(cè)材料有一定的透射或反射就能通過(guò)NanoCalc進(jìn)行膜厚測(cè)量，這些材料包括氧化物發揮、氮化物和保護(hù)膜層等顯著，通常這些覆膜的基地材料包括硅晶片或玻璃燈。

  1nm以上的金屬膜厚也能測(cè)量開放以來，只要不是*不透光的占。對(duì)于已知的系統(tǒng)，3層以內(nèi)的多層膜厚測(cè)量可以在不到一秒鐘時(shí)間內(nèi)完成提供了有力支撐。

  通常擬合曲線和實(shí)際曲線由于干涉會(huì)引起一些差異激發創作，NanoCalc的算法充分考慮到了這一點(diǎn)，從而可以在比較粗糙的表面進(jìn)行測(cè)量進一步意見。

  光學(xué)薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)產(chǎn)品主要優(yōu)勢(shì)和特點(diǎn)

• UV/VIS/NIR高分辨率的配置
• 測(cè)量準(zhǔn)確度在1nm增幅最大，精度在0.1nm
• 可測(cè)量zui大10層薄膜
• 膜厚測(cè)量zui小可至1nm，zui大可至1mm
• 可測(cè)量zui小1nm厚的透明金屬層
• 提供試驗(yàn)臺(tái)及附件用于復(fù)雜外形材料的測(cè)量
• 對(duì)表面缺陷和光滑度不敏感
• 龐大的材質(zhì)數(shù)據(jù)庫(kù)生產能力，保證各種材料的精確測(cè)量

光學(xué)薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域

光學(xué)薄膜厚度測(cè)量系統(tǒng)技術(shù)參數(shù)