iEDX-150Tx射線熒光光譜鍍層厚度測試儀
鍍層檢測：
2.1重要平臺、常見金屬鍍層有：
鍍層
基體NiNi-PTiCuSnSn-PbZnCrAuZn-NiAgPdRh
Al●●●●●●●●●●●●●
Cu●●●●●●●●●●●●
Zn●●●●●●●●●●●●
Fe●●●●●●●●

iEDX-150Tx射線熒光光譜鍍層厚度測試儀

　　我公司銷售產(chǎn)品包括X射線熒光光譜儀（含能量色散和波長色散型）（XRF）、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP）核心技術、電感耦合等離子體質(zhì)譜儀(ICP-MS)應用提升、原子熒光光譜儀（AFS）、原子吸收分光光度計（AAS）創造性、光電直讀光譜儀（OES）發展的關鍵、氣相色譜儀（GC）、氣相質(zhì)譜儀（GC-MS）規模設備、液相色譜儀（LC）真諦所在、液相質(zhì)譜儀（LC-MS）、能譜儀（EDS）十分落實、高頻紅外碳硫分析儀（CS）倍增效應、礦漿載流在線采樣儀（OSA）等。

　　應(yīng)用領(lǐng)域

　　分析各種電鍍鍍層厚度

　　技術(shù)指標(biāo)

　　多鍍層分析製造業，1～5層優化服務策略；

　　測試精度：0.001μm；

　　元素分析范圍從鋁(Al)到鈾(U)發展基礎；

　　測量時間：10~30秒兩個角度入手；

　　SDD探測器，能量分辨率為125±5eV同期；

　　探測器Be窗0.5mil（12.7μm）生產效率；

　　微焦X射線管50kV/1mA，鉬效果，銠靶（高配微焦鉬靶）使用；

　　6個準(zhǔn)直器及多個濾光片自動切換；

　　高清CCD攝像頭（200萬像素）密度增加，準(zhǔn)確監(jiān)控位置有效性；

　　多變量非線性去卷積曲線擬合；

　　高性能FP/MLSQ分析機遇與挑戰；

　　軟件支持無標(biāo)樣分析廣泛關註；

　　寬大分析平臺和樣品腔；

　　集成了鍍層分析界面和合金成份分析界面集成技術；

　　采用多種光譜擬合分析處理技術(shù)就能壓製；

　　鍍層測厚分析可達(dá)到0.001μm。

　　單層厚度范圍：

　　金鍍層0－8um,

　　鉻鍍層0-15um,

　　其余一般為0-30um以內(nèi)大部分，

　　可最小測量達(dá)0.001um強大的功能。

　　2.3、多層厚度范圍

　　Au/Ni/Cu:Au分析厚度:0-8umNi分析厚度:0-30um

　　Sn/Ni/Cu:Sn分析厚度:0-30umNi分析厚度:0-30um

　　Cr/Ni/Fe:Cr分析厚度0-15umNi分析厚度:0-30um

　　2.4解決方案、鍍層層數(shù)為1-6層

　　2.5預期、鍍層精度相對差值一般<5%。

　　2.6幅度、鍍層成分含量：Sn-Pb合金成分分析結構；Zn-Ni合金成分分析。

　　單層分析精度貢獻，以Ni舉例：（相對差值）

　　Ni層厚度(um)

　　保證精度

　　<1.0um

　　<5%

　　1.0-5.0um

　　<3%

　　5.0-10um

　　<3%

　　10-20um

　　<3%

　　>20.0um

　　<3%

　　分析報告結(jié)果

　　直接打印分析報告規模最大；

　　報告可轉(zhuǎn)換為PDF，EXCEL格式統籌。

　　iEDX-150Tx射線熒光光譜鍍層厚度測試儀