DLS動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)是非常成熟的N3表征技術(shù)部署安排，可用于測(cè)量納米體系混懸液的粒度及粒度分布搖籃。穩(wěn)定的激光光源照射布朗運(yùn)動(dòng)的納米顆粒，將致使散射光強(qiáng)發(fā)生波動(dòng)推廣開來，光電二極管檢測(cè)器獲得這些波動(dòng)后推動，通過(guò)斯托克斯-愛(ài)因斯坦方程可得出粒度信息。DLS只需少量樣品即可完成分析重要的，快速大面積、精確、重復(fù)性好問題分析，是目前應(yīng)用N3粒度測(cè)量方法培養。Vasco Kin原位納米粒度監(jiān)測(cè)儀以廣為熟知的DLS動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)為基石,集成了穩(wěn)定

DLS動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)是非常成熟的N3表征技術(shù)，可用于測(cè)量納米體系混懸液的粒度及粒度分布更加完善。穩(wěn)定的激光光源照射布朗運(yùn)動(dòng)的納米顆粒形式，將致使散射光強(qiáng)發(fā)生波動(dòng)，光電二極管檢測(cè)器獲得這些波動(dòng)后支撐作用，通過(guò)斯托克斯-愛(ài)因斯坦方程可得出粒度信息日漸深入。DLS只需少量樣品即可完成分析，快速同時、精確互動式宣講、重復(fù)性好，是目前應(yīng)用的N3粒度測(cè)量方法模式。Vasco Kin原位納米粒度監(jiān)測(cè)儀以廣為熟知的DLS動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)為基石,集成了穩(wěn)定的光學(xué)單元自動化、靈敏的光電二極管檢測(cè)器和靈活的非浸入式探頭,結(jié)合專用的分析軟件和數(shù)學(xué)模型，是一款針對(duì)各類型納米體系中的顆粒尺寸原位監(jiān)測(cè)系統(tǒng)高品質。

與傳統(tǒng)DLS相比不折不扣，Vasco Kin原位納米粒度監(jiān)測(cè)儀顯著增大了樣品濃度范圍和粒度的測(cè)量范圍。Vasco Kin原位納米粒度監(jiān)測(cè)儀不但保持了傳統(tǒng)DLS動(dòng)態(tài)光散射儀器的高靈敏度和寬適應(yīng)性資源優勢，還開(kāi)創(chuàng)性地采用了非浸入式遠(yuǎn)程探頭高效利用，將DLS技術(shù)帶入原位過(guò)程監(jiān)測(cè)的廣泛應(yīng)用場(chǎng)景，并增加了創(chuàng)新的時(shí)間關(guān)聯(lián)功能估算。

原位納米粒度監(jiān)測(cè)儀特點(diǎn)：

流體動(dòng)力學(xué)分析

高速數(shù)據(jù)采集講理論，實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)處理

集成化程度高，無(wú)運(yùn)動(dòng)部件，維護(hù)和使用成本低

模塊化設(shè)計(jì)市場開拓，可更換探頭措施，一機(jī)多能，一機(jī)多用

測(cè)試靈活要落實好，可根據(jù)樣品濃度及透光性調(diào)整工作距離和散射角

時(shí)間切片緊密相關，可選取監(jiān)測(cè)曲線中的任意時(shí)間段進(jìn)行粒徑分析

超低延時(shí)，無(wú)需頻繁采樣先進技術，原位監(jiān)測(cè)納米顆粒的變化過(guò)程

操作簡(jiǎn)便培訓，非浸入式探頭，無(wú)需批量稀釋搶抓機遇，無(wú)需樣品預(yù)處理

適用性好分析，配備背散射技術(shù)，原濃或深色的不透明樣品同樣適用

應(yīng)用領(lǐng)域：

實(shí)時(shí)監(jiān)控納米顆粒合成工藝全面闡釋、提高懸浮穩(wěn)定性等

原位測(cè)量(在反應(yīng)器非常激烈、高壓滅菌器、密封小瓶等裝置內(nèi)部進(jìn)行測(cè)量)

將粒度測(cè)量與其他光譜法(X 射線小角散射引人註目、小角中子散射領域、拉曼光譜法、紫外-可見(jiàn)光譜法等) 相結(jié)合