XAU-4C(B)光譜分析儀
性能優(yōu)勢：1.微小樣品檢測：最小測量面積0.03mm²（加長測量時間可小至0.01mm²）2.變焦裝置算法：可改變測量距離測量凹凸異形樣品，變焦距離可達(dá)0-30mm3.的EFP算法：Li(3)-U(92)元素的涂鍍層更加廣闊，多層多元 素規劃，甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測量。 4.的解譜技術(shù)：減少能量相近元素的干擾可以使用，降低檢出限基礎上。 5.高性能探測器：S
- 測量面積：最小0.03mm²
- 鍍層分析：23層鍍層24種元素
- 儀器特點：RoHS有害元素檢測
- 儀器優(yōu)勢：同元素不同層分析
- 服務(wù)宗旨：專注研發(fā)，專業(yè)生產(chǎn)應用領域，專精服務(wù)
儀器簡介：
XAU-4C(B)是一款設(shè)計結(jié)構(gòu)緊湊，模塊精密化程度的光譜分析儀進行培訓，采用了下照式C型腔體設(shè)計發展機遇，是一款一機多用型光譜儀。
應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù)物聯與互聯，既保留了專用測厚儀檢測微小樣品和凹槽的性能穩定，又可滿足微區(qū)RoHS檢測及成分分析。
被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控供給、來料檢驗和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用優勢與挑戰。
產(chǎn)品優(yōu)勢：
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技術(shù)參數(shù)：
1. 成分分析范圍：鋁（Al）- 鈾（U）
2. 成分檢出限：1ppm
3. 涂鍍層分析范圍：鋰（Li）- 鈾（U）
4. 涂鍍層檢出限：0.005μm
5. 最小測量直徑□0.1*0.3mm（最小測量面積0.03mm²）
標(biāo)配：最小測量直徑0.3mm（最小測量面積0.07mm²）
6. 對焦距離：0-30mm
7. 樣品腔尺寸：500mm*360mm*215mm
8. 儀器尺寸：550mm*480mm*470mm
9. 儀器重量：45KG
10. XY軸工作臺移動范圍：50mm*50mm
11. XY軸工作臺承重：5KG
應(yīng)用領(lǐng)域：
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多元迭代EFP核心算法（號：2017SR567637）
專業(yè)的研發(fā)團隊在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上，計算樣品中每個元素的一次熒光解決方案、二次熒光趨勢、靶材熒光、吸收增強效應(yīng)上高質量、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法一站式服務，結(jié)合的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng)深入交流，只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子引領作用，可測試重復(fù)鍍層、非金屬臺上與臺下、輕金屬用的舒心、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。
單涂鍍層應(yīng)用：如Ni/Fe集聚效應、Ag/Cu等
多涂鍍層應(yīng)用：如Au/Ni/Fe集成、Ag/Pb/Zn等
合金鍍層應(yīng)用：如ZnNi/Fe重要手段、ZnAl/Ni/Cu等
合金成分應(yīng)用：如NiP/Fe，通過EFP算法技術的開發，在計算鎳磷鍍層厚度的同時研究與應用，還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。
重復(fù)鍍層應(yīng)用：不同層有相同元素更高效，也可精準(zhǔn)測量和分析全面協議。
如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB，層Ni和第三層Ni的厚度均可測量具體而言。
有害元素檢測：RoHS檢測工具，可滿足鉛（Pb）、汞（Hg）喜愛、鎘（Cd）重要的角色、六價鉻（Cr VI）等有害元素的成分檢測及含量分析
選擇一六儀器的四大理由：
1.一機多用，無損檢測（涂鍍層檢測-環(huán)保RoHS-成分分析）
2.最小測量面積0.002mm²
3.可檢測凹槽0-30mm的異形件
4.輕元素高質量，重復(fù)鍍層也逐步提升，同種元素不同層亦可檢測
配置清單：
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