光學輪廓儀/白光干涉儀/Zeta-300OpticalProfilerZeta-300支持3D量測和成像的功能，并提供整合隔離工作臺和靈活的配置服務好，可用于處理更大的樣品

光學輪廓儀/白光干涉儀/Zeta-300 Optical Profiler

Zeta-300支持3D量測和成像的功能新趨勢，并提供整合隔離工作臺和靈活的配置，可用于處理更大的樣品共謀發展。該系統(tǒng)采用ZDot™技術學習，可同時采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color（真彩）無限遠焦點圖像。Zeta-300具備Multi-Mode（多模式）光學系統(tǒng)聽得懂、簡單易用的軟件應用優勢、以及低擁有成本，適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境全方位。

產(chǎn)品描述

Zeta-300光學輪廓儀是一種非接觸式3D表面形貌測量系統(tǒng)高效節能。 Zeta-300繼承了Zeta-20的功能，并增加了隔離選項以及處理更大樣品的靈活性大局。 該系統(tǒng)采用ZDot™技術和Multi-Mode (多模式)光學系統(tǒng)新創新即將到來，可以對各種不同的樣品進行測量：透明和不透明、由低至高的反射率有序推進、由光滑至粗糙的紋理設施，以及納米至毫米級別的臺階高度。

Zeta-300的配置靈活并易于使用堅定不移，并集合了六種不同的光學量測技術組合運用。ZDot™測量模式可同時收集高分辨率3D掃描和True Color無限遠焦距圖像。其他3D測量技術包括白光干涉測量迎難而上、Nomarski干涉對比顯微鏡和剪切干涉測量競爭力。ZDot或集成寬帶反射計都可以對薄膜厚度進行測量。Zeta-300也是一種顯微鏡進一步完善，可用于樣品復檢或自動缺陷檢測。 Zeta-300通過提供全面的臺階高度關註度、粗糙度和薄膜厚度的測量以及缺陷檢測功能橫向協同，適用于研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)境。

主要功能

· 采用ZDot和Multi-Mode（多模式）光學器件的簡單易用的光學輪廓儀敢於挑戰，具有廣泛的應用

· 可用于樣品復檢或缺陷檢測的高質量顯微鏡

· ZDot：同時采集高分辨率3D數(shù)據(jù)和True Color（真彩）無限遠焦點圖像

· ZXI：白光干涉測量技術不斷創新，適用于z向分辨率高的廣域測量

· ZIC：干涉對比度，適用于亞納米級別粗糙度的表面并提供其3D定量數(shù)據(jù)

· ZSI：剪切干涉測量技術提供z向高分辨率圖像

· ZFT：使用集成寬帶反射計測量膜厚度和反射率

· AOI：自動光學檢測提供了遵循，并對樣品上的缺陷進行量化

· 生產(chǎn)能力：通過測序和圖案識別實現(xiàn)全自動測量

主要應用

· 臺階高度：納米到毫米級別的3D臺階高度

· 紋理：平滑到非常粗糙表面的粗糙度和波紋度

· 外形：3D翹曲和形狀

· 應力：2D薄膜應力

· 薄膜厚度：30nm到100μm透明薄膜厚度

· 缺陷檢測：捕獲大于1μm的缺陷

· 缺陷復檢：采用KLARF文件作為導航以測量缺陷的3D表面形貌或切割道缺陷位置

工業(yè)應用

· LED：發(fā)光二極管和PSS（圖案化藍寶石基板）

· 半導體和化合物半導體

· 半導體 WLCSP（晶圓級芯片級封裝）

· 半導體FOWLP（扇出晶圓級封裝）

· PCB和柔性PCB

· MEMS（微機電系統(tǒng)）

· 醫(yī)療設備和微流體設備

· 數(shù)據(jù)存儲

· 大學參與水平，研究實驗室和研究所

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