PICOSUN™P-1200 PICOSUN™ P-1200原子層沉積系統(tǒng)專門對(duì)批量的大尺寸平面基底進(jìn)行低溫薄膜沉積調整推進， 應(yīng)用于有機(jī)光電和顯示器等領(lǐng)域。

PICOSUN™ P-1200 ALD系統(tǒng)專門對(duì)批量的大  尺寸平面基底進(jìn)行低溫薄膜沉積機製性梗阻， 應(yīng)用于有機(jī)光電機製、顯示器和OLED等領(lǐng)域。主要的應(yīng)用包括制備各種各樣的鈍化層和阻擋層集成應用， 顯著提高器件的性能和壽命探討。巧妙、創(chuàng)新的設(shè)計(jì)使 得PICOSUN™ P-1200 ALD系統(tǒng)在具有制備高  均一性的高質(zhì)量ALD薄膜的同時(shí)能夠有很高  的產(chǎn)量使用， 并且是市場(chǎng)上保養(yǎng)合規意識、維護(hù)時(shí)間密度增加， 購(gòu)置成本最小的ALD系統(tǒng)有效性。這些都已經(jīng)在實(shí)際 生產(chǎn)中得到證實(shí)。

可靠機遇與挑戰、快速且易于維護(hù)的PICOSUN™ P-1000 ALD系統(tǒng)代表了的工業(yè)化ALD工藝水平廣泛關註！

襯底尺寸和類型

?    400x 500 mm(厚度~1mm) 28片/批次 (10mm片間距）

?    370x 470 mm(厚度~1mm) 28片/批次 (10mm片間距）

?    柔性襯底的臥式批量加工

工藝溫度和產(chǎn)率

?    50 – 120°C

?    產(chǎn)量達(dá)到168片/24h (100nm Al2O3)

標(biāo)準(zhǔn)工藝

?    低溫沉積Al2O3等薄膜材料

基片裝載

?    半自動(dòng)裝卸

?    預(yù)真空室配備溫度控制器（25 - 80 °C），以達(dá) 到產(chǎn)量和水分污染

前驅(qū)體

?    液態(tài)集成技術、固態(tài)就能壓製、氣態(tài)、臭氧源

?    源瓶余量傳感器適應能力，提供清洗和裝源服務(wù)

?     7根獨(dú)立源管線更優美， 最多加載10個(gè)前驅(qū)體源