PICOSUN™ P-300系統(tǒng)已經(jīng)成為高產(chǎn)能ALD制造業(yè)的新標(biāo)準(zhǔn)重要性。擁有熱壁、獨(dú)立的前驅(qū)體管路和特殊的載氣設(shè)計(jì)多種場景， 確保我們可以生產(chǎn)出具有優(yōu)異的成品率多元化服務體系、低顆粒水平和的電學(xué)和光學(xué)性能的高質(zhì)量ALD薄膜。高效緊湊的設(shè)計(jì)使得維護(hù)更加方便擴大公共數據、快捷大幅拓展， 減少了系統(tǒng)的維護(hù)停工期和使用成本。擁有Picoflow™使得在超高深寬比結(jié)構(gòu)上沉積保形性 薄膜更高效更加堅強， 并已在生產(chǎn)線上得到驗(yàn)證。
PICOSUN™ P-300S系統(tǒng)代表了的工業(yè)化 ALD工藝性能。這個(gè)系統(tǒng)是為全自動(dòng)的批量生產(chǎn)而設(shè) 計(jì)初步建立， 并與工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化的真空集群平臺(tái)相結(jié)合進(jìn)行 單片操作。 P-300S系統(tǒng)通過(guò)SEMI S2/S8認(rèn)證供給，可以通過(guò)SECS/GEM整合到自動(dòng)化生產(chǎn)線上的方法， 并能滿足半導(dǎo)體行業(yè)嚴(yán)格的清潔要求。
The PICOSUN™ P-300S是IC行業(yè)創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)企業(yè)的 ALD系統(tǒng)進行探討！
襯底尺寸和類型
? 300mm單片晶圓
? 高深寬比基底（深寬比1:2500）
工藝溫度
? 50 – 500°C
標(biāo)準(zhǔn)工藝
? 批量生產(chǎn)的平均工藝時(shí)間小于10秒/循環(huán)*
? Al2O3, SiO2, Ta2O5, HfO2, ZnO, TiO2, ZrO2,AlN, TiN以及各種金屬
? 同一批次薄膜不均勻性<1% 1σ
(Al2O3, WIW, WTW, B2B, 49pts, 5mm EE)**
基片裝載
? 預(yù)真空室安裝磁力操作機(jī)械手
? 全自動(dòng)裝載落到實處， Picoplatform™ 200或 Picoplatform™ 300真空集群系統(tǒng)
? 通過(guò)集群系統(tǒng)進(jìn)行盒對(duì)盒式FOUP裝載
? 氮?dú)夤裱b載
前驅(qū)體
? 液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)技術創新、臭氧源
? 源瓶余量傳感器處理方法，提供清洗和裝源服務(wù)
? 6根獨(dú)立源管線， 最多加載12個(gè)前驅(qū)體源
