X射線光電子能譜儀-XPS廠家型號：賽默飛Escalab250Xi技術(shù)參數(shù)：ESCALAB250Xi型電子能譜儀是一臺多功能高性能的表面分析儀器可以使用，以X射線光電子能譜為主要功能，還帶有紫外光電子能譜紮實、反射電子能量損失譜及離子散射譜等附件功能

X射線光電子能譜儀 -XPS

廠家型號：賽默飛 Escalab250Xi

技術(shù)參數(shù)：

ESCALAB 250Xi型電子能譜儀是一臺多功能高性能的表面分析儀器效高化，以X射線光電子能譜為主要功能，還帶有紫外光電子能譜投入力度、反射電子能量損失譜及離子散射譜等附件功能創造。

1. X射線源靶：單色化Al靶、雙陽極Al/Mg靶貢獻法治；分析區(qū)域：20μm~900um之間連續(xù)可調(diào)設備製造；靈敏度：1*106 cps；成像空間分辨率：小于3μm 攻堅克難。

2. 真空系統(tǒng)：樣品分析室（SAC）：小于5.0×10-10 mbar（壓強(qiáng)）管理；樣品處理室（STC）：小于7.0×10-9 mbar（壓強(qiáng)）。
3. 離子槍：離子源：Ar 雙向互動；束流：6μA（）at 3keV 新型儲能。
4. 光源：He紫外光源。

應(yīng)用范圍：

在金屬新品技、玻璃範圍、高分子、半導(dǎo)體深入交流、納米材料引領作用、生物材料以及催化等領(lǐng)域有廣泛應(yīng)用。

1.鑒別樣品表面的元素種類臺上與臺下、化學(xué)價(jià)態(tài)及相對含量用的舒心；

2.深度剖析XPS,結(jié)合離子刻蝕技術(shù)對樣品（如薄膜等）進(jìn)行成分深度分布分析；

3.XPS成像集聚效應，可對元素或化學(xué)態(tài)進(jìn)行表面分布分析集成；

4.利用微聚焦X射線源或電子束可以獲得微區(qū)表面信息。

表征項(xiàng)目：

XPS常規(guī)、價(jià)帶譜VB-XPS穩定性、功函數(shù)UPS像一棵樹、元素的俄歇譜表征AES，XPS深度蝕刻去突破、微區(qū)成像能運用。

樣品要求：

1.元素含量不低于1% ；

2.粉末樣品≥10mg 智能設備；液體樣≥0.5ml ;塊狀樣：長寬厚 5*5*3mm 不可缺少。