場發(fā)射掃描電子顯微鏡-SEM廠家型號：德國蔡司SIGMAHD技術參數(shù)：具有高真空和可變壓力模式推進一步，實現(xiàn)了分析型場發(fā)射掃描電鏡的高清晰成像，并能夠在低加速電壓下（750V-3kV）和低探針電流下對樣品成像

場發(fā)射掃描電子顯微鏡-SEM

廠家型號：德國蔡司 SIGMA HD

技術參數(shù)：

具有高真空和可變壓力模式簡單化，實現(xiàn)了分析型場發(fā)射掃描電鏡的高清晰成像力度，并能夠在低加速電壓下（750V-3kV）和低探針電流下對樣品成像。

1.分辨率：1.3nm (20KV)系統性；

2. 加速電壓：0.02-30KV勇探新路；

3. 探針電流：4Pa-20nA；

4. 放大倍數(shù)：10-1000 000X 傳遞；

5．檢測器：In-lens 試驗、SE、EsB開展攻關合作、AsB製度保障、STEM檢測器；

6．能量譜儀(EDS)：X-MaxN20雙探測器系統(tǒng)（英國Oxford公司）。

應用范圍

1．金屬統籌推進、陶瓷方案、高分子、礦物了解情況、水泥深入、半導體、紙張特點、塑料深刻變革、食品可能性更大、生物等材料的顯微形貌部署安排、晶體結(jié)構(gòu)和相組織的觀察和分析；

2．各種材料微區(qū)化學分的定性和半定量檢測技術；

3．粉末推廣開來、微粒納米樣品形態(tài)和粒度的測定；

4．復合材料界面特性的研究相對較高。

表征項目：

SEM形貌資源配置，EDS點掃、線掃 相關、面掃mapping 大力發展。

樣品要求：

1.樣品形態(tài):試樣必須是化學和物理上穩(wěn)定的固體（塊狀、 片狀生產效率、纖維產能提升、粉末均可）；

2.樣品表面清潔節點，在高真空和電子束轟擊下不揮發(fā)通過活化、不變形，無放射性的特點、無腐蝕性健康發展；

3.樣品量：粉末 5mg  ，液體 0.5ml ; 樣品尺寸：長寬高≤ 30*30*10mm 大數據。