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- 公司名稱 弗萊貝格儀器(上海)有限公司
- 品牌
- 型號(hào)
- 所在地 上海市
- 廠商性質(zhì) 其他
- 更新時(shí)間 2024/4/26 17:30:05
- 訪問次數(shù) 100
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特點(diǎn)Omega/ThetaX射線衍射儀是一個(gè)全自動(dòng)的垂直三軸衍射儀十分落實,使用Omega掃描和Theta掃描方法以及搖擺曲線測(cè)定各種晶體的方位
特點(diǎn)
Omega/Theta X射線衍射儀是一個(gè)全自動(dòng)的垂直三軸衍射儀,使用Omega掃描和Theta掃描方法以及搖擺曲線測(cè)定各種晶體的方位規則製定。大而寬敞的設(shè)計(jì)可以容納長(zhǎng)達(dá)450毫米和30公斤的重量和樣品架製造業。
所有的測(cè)量都是自動(dòng)化的,可以通過用戶友好的軟件界面進(jìn)行訪問關規定。利用Omega掃描發展基礎,可以在晶體旋轉(zhuǎn)(5秒)中確定完整的晶格方向。Theta掃描更加靈活建強保護,但每次掃描只產(chǎn)生一個(gè)方向分量同期。
可以非常精確地確定傾斜角度,使用Theta掃描到0.001°使命責任。對(duì)于所有其他的晶體方向效果,精度取決于垂直于表面的角差。
該系統(tǒng)是模塊化的合規意識,并配備了許多不同的擴(kuò)展用于特殊目的密度增加,如形狀或平面的確定參與能力,繪圖和不同的樣品架也逐步提升。樣品的傾斜度是通過光學(xué)測(cè)量來檢測(cè)的,可以用來校正最終的方向損耗。
單晶衍射儀
Omega掃描圖(SiC)
渦輪葉片探討,一個(gè)方向組件的映射圖
(Si, Ge)晶圓,定位圖
晶格參數(shù)映射圖
全自動(dòng)單晶晶格取向測(cè)量
使用Omega掃描方法的超高速晶體定位測(cè)量
自動(dòng)搖擺曲線測(cè)量
衍射儀的角分辨率:0.1弧秒高效流通。
樣本大小可達(dá)450毫米
適合于生產(chǎn)質(zhì)量控制和研究
用戶友好和成本效益
樣品處理方便調解製度,操作方便
的,用戶友好的軟件
低能耗,低運(yùn)營(yíng)成本
模塊化設(shè)計(jì)和靈活性
各種升級(jí)選項(xiàng)
定制用戶的需求
Omega/Theta X射線衍射儀的應(yīng)用
單晶的工業(yè)合成從大而重的晶體開始功能,到小塊如晶圓或坯應用的因素之一。實(shí)驗(yàn)生長(zhǎng)產(chǎn)生微小的圓柱體。
根據(jù)材料和產(chǎn)量的不同預期,晶體樣品可以表現(xiàn)出多種尺寸和幾何形狀敢於監督。
Omega/Theta X射線衍射儀可以處理大塊鋼錠或鋼球和實(shí)驗(yàn)合成的微小晶體。
與典型的無機(jī)金屬結構、半導(dǎo)體和絕緣體相比重要的作用,NLO材料具有更復(fù)雜的晶體結(jié)構(gòu)和更低的對(duì)稱性。這種結(jié)構(gòu)創(chuàng)造了一個(gè)高度各向異性的環(huán)境規模最大,
光通過晶體穩中求進,并導(dǎo)致他們的特殊性質(zhì)統籌。這些晶體通常被切割成尺寸在毫米范圍內(nèi)的小棒,作為頻率倍增器和光學(xué)參量振蕩器的有源元件協同控製。
對(duì)這種小晶體的表面質(zhì)量測(cè)定常痴駣^起來?梢越沂揪w內(nèi)部的結(jié)構(gòu)缺陷和裂紋。
這些材料的大單位晶胞是Omega掃描方法的一個(gè)挑戰(zhàn)利用好。我們能夠確定許多NLO材料深入各系統,如LBO, BBO和TeO2的Omega掃描參數(shù)的最重要的方向。
對(duì)Omega/Theta的設(shè)計(jì)進(jìn)行了一些特殊的修改系列,以涵蓋幾種不同材料的NLO能力作用。
Omega掃描能夠在一次測(cè)量中確定完整的晶體方位。因此空間載體,平面方向可以直接識(shí)別高質量。這是一個(gè)有用的功能,以標(biāo)記在平面方向或檢查方向的單位或缺口重要組成部分。
在晶圓片的注入和光刻過程中流程,平面或凹槽作為定位標(biāo)記。經(jīng)過加工后特點,晶圓片攜帶數(shù)百個(gè)芯片深刻變革,需要通過切割將其分離。
晶片必須正確地對(duì)準(zhǔn)晶圓片上易于切割的晶格面和諧共生。因此質生產力,檢查平臺(tái)或缺口的位置是必要的。為了確定平面或缺口的位置技術交流,必須測(cè)量平面內(nèi)的部件先進的解決方案。
該儀器通過旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)盤,可以將任何平面方向轉(zhuǎn)換成用戶的特定位置創造更多。這簡(jiǎn)化了將標(biāo)記應(yīng)用到特定平面方向的任務(wù)宣講活動,例如必須定義平面方向時(shí)。
對(duì)于高吞吐量應(yīng)用程序工藝技術,可提供自動(dòng)測(cè)量解決方案效率。
搖擺曲線測(cè)量對(duì)晶格內(nèi)的缺陷和應(yīng)變場(chǎng)很敏感。將這種技術(shù)與映射階段相結(jié)合近年來,可以掃描晶體表面并確定缺陷區(qū)域講道理。在晶格匹配的薄膜中,
搖擺曲線也可以用來研究層厚技術先進、超晶格周期更多的合作機會、應(yīng)變和成分剖面、晶格失配、三元結(jié)構(gòu)和弛豫行業分類。
晶圓片表面必須達(dá)到非常高的清潔和均勻性標(biāo)準(zhǔn)技術特點。制造商正努力使晶體的位錯(cuò)和缺陷盡可能少。特別是在碳化硅方面發展邏輯,消除錯(cuò)位為這種材料提供了新的應(yīng)用領(lǐng)域凝聚力量。
通過裝備一個(gè)具有映射階段和雙晶體的Omega/Theta衍射儀,可以測(cè)量晶體表面某一反射的搖擺曲線映射聽得進。圖像顯示的結(jié)果新的力量,這種映射的碳化硅晶圓。
晶圓片的內(nèi)部呈現(xiàn)出兩到三倍于搖擺曲線的FWHM便利性。這可能與表面劃痕或生長(zhǎng)缺陷有關(guān)全面展示。
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