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Nanotrac Wave 納米粒度儀

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30多年來,Microtrac 公司一直致力于激光散射技術(shù)在顆粒粒度分布中的應(yīng)用切實把製度。作為行業(yè)的先鋒保供,早在1990年,納米顆粒分析儀器進行部署,NPA*引入由于顆粒在懸浮體系中的布朗運(yùn)動而產(chǎn)生的能譜概念責任,利用背散射(Back-scattered)和異相多譜勒頻移(Heterodyne Doppler Frequency Shifts)技術(shù),結(jié)合動態(tài)光散射理論和*的數(shù)學(xué)處理模型保護好。

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Nanotrac Wave納米粒度儀的儀器簡介:
納米粒度測量——動態(tài)光背散射技術(shù)

隨著顆粒粒徑的減小組建,例如分子級別的大小,顆粒對光的散射效率急劇降低特點,使得經(jīng)典動態(tài)光散射技術(shù)的自相關(guān)檢測(PCS)變得更加不確定深刻變革。40多年來,Microtrac公司一直致力于激光散射技術(shù)在顆粒粒度測量中的應(yīng)用和諧共生。作為行業(yè)的先鋒質生產力,早在1990年,超細(xì)顆粒分析儀器 UPA(Ultrafine Particle Analyzer)研發(fā)成功,*引入由于顆粒在懸浮體系中的布朗運(yùn)動而產(chǎn)生頻率變化的能譜概念先進的解決方案,快速準(zhǔn)確地得到被測體系的納米粒度分布相對較高。2001年,利用背散射(Back-scattered)和異相多譜勒頻移(Heterodyne Doppler Frequency Shifts)技術(shù)信息,結(jié)合動態(tài)光散射理論和*的數(shù)學(xué)處理模型姿勢,將分析范圍延伸至0.8nm-6.5μm,樣品濃度更可高達(dá)百分之四十,基本實(shí)現(xiàn)樣品的原位檢測首要任務。異相多普勒頻移技術(shù)采用可控參考穩(wěn)定頻率綠色化,直接比照因顆粒的布朗運(yùn)動而產(chǎn)生的頻率漂移,綜合考慮被測體系的實(shí)時溫度和粘度發展,較之于傳統(tǒng)的自相關(guān)技術(shù)保持穩定,信號強(qiáng)度高出幾個數(shù)量級。另外面向,新型“Y”型梯度光纖探針的使用支撐作用,實(shí)現(xiàn)了對樣品的直接測量,*的減少了背景噪音建設項目,提高了儀器的分辨率最為突出。

Nanotrac Wave納米粒度儀主要技術(shù)特點(diǎn):

  • 采用的動態(tài)光散射技術(shù),引入能普概念代替?zhèn)鹘y(tǒng)光子相關(guān)光譜法
  • 的異相多譜勒頻移技術(shù)相結合,較之傳統(tǒng)的方法高效化,獲得光信號強(qiáng)度高出幾個數(shù)量級,提高分析結(jié)果的可靠性為產業發展。
  • 的可控參比方法(CRM)範圍和領域,能精細(xì)分析多譜勒頻移產(chǎn)生的能譜,確保分析的靈敏度各項要求。
  • 超短的顆粒在懸浮液中的散射光程設(shè)計(jì)更高要求,減少了多重散射現(xiàn)象的干擾,保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準(zhǔn)確性新技術。
  • 的快速傅利葉變換算法(FFT共同學習,F(xiàn)ast Fourier Transform Algorithm Method),迅速處理檢測系統(tǒng)獲得的能譜,縮短分析時間深入。
  • 消除多種空間位阻對散射光信號的干擾效高,諸如光路中不同光學(xué)元器件間傳輸?shù)膿p失,樣品池位置不同帶來的誤差全方位,比色皿器壁的折射與污染高效節能,分散介質(zhì)的影響影響力範圍,多重散射的衰減等先進技術,提高靈敏度

Nanotrac Wave納米粒度儀技術(shù)參數(shù):

粒度分析范圍:
0.8nm-6.5µm
重現(xiàn)性:
誤差≤1%
濃度范圍:
ppb-40%
檢測角度:
180°
分析時間:
30-120秒
準(zhǔn)確性:
全量程米氏理論及非球形顆粒校正因子
測量精度:
無需預(yù)選,依據(jù)實(shí)際測量結(jié)果,自動生成單峰/多峰分布結(jié)果
理論設(shè)計(jì)溫度:
0-90℃宣講手段,可以進(jìn)行程序升溫或降溫
兼容性:
兼容任何有機(jī)溶劑及大多數(shù)酸性或堿性溶液
測量原理:
粒度測量:動態(tài)光背散射技術(shù)和全量程米氏理論處理
分子量測量:水力直徑或德拜曲線
技術(shù):膜電極重要工具,微電場電勢測量,“Y”型光纖探針設(shè)計(jì)配套設備,異相多普勒頻移更優質,可控參比方法,快速傅立葉轉(zhuǎn)換算法推進高水平,非球形顆粒校正因子
光學(xué)系統(tǒng):
3mW780nm半導(dǎo)體固定位置激光器脫穎而出,通過梯度步進(jìn)光纖直接照射樣品,在固定位置用硅光二極管接受背散射光信號生產創效,無需校正光路
軟件系統(tǒng):
*的Microtrac FLEX軟件提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力結構,包括圖形,數(shù)據(jù)輸出/輸入優化上下,個性化輸出報(bào)告能力建設,及各種文字處理功能,如PDF格式輸出, Internet共享數(shù)據(jù)生產體系,Microsoft Access格式(OLE)等服務。體積,數(shù)量能力和水平,面積及光強(qiáng)分布覆蓋,包括積分/微分百分比和其他分析統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)。數(shù)據(jù)的完整性符合21 CFR PART 11安全要求研究,包括口令保護(hù)重要意義,電子簽名和*等。
外部環(huán)境:
電源要求:90-240VAC深化涉外,5A體系,50/60Hz
環(huán)境要求:溫度,10-40°C
相對濕度:小于95%
配置:
有內(nèi)置和外置光纖測量探頭可選


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