Talint EDU: 模塊化實現了超越、高性價(jià)比的X射線相襯新產品、暗場(chǎng)成像套件

X射線相位襯度成像和傳統(tǒng)的X射線吸收成像相比，X射線相位襯度成像能夠?yàn)檩p元素樣品提供更高的襯度橋梁作用，特別適合用于對(duì)軟組織和輕元素構(gòu)成的樣品進(jìn)行成像長遠所需。

目前，主要的5類相襯成像方式中讓人糾結，大部分對(duì)光源的相干性要求規模，只能在同步輻射光源或者借助微焦點(diǎn)X射線源實(shí)現(xiàn)。而光柵法相襯成像基石之一，經(jīng)過十多年的發(fā)展聯動，已經(jīng)成為在實(shí)驗(yàn)室實(shí)施相襯成像實(shí)驗(yàn)的主流技術(shù)路線。

但是共同努力，高深寬比和大視場(chǎng)光柵的制作一直是困擾研究人員的一個(gè)痛點(diǎn)行業內卷，LIGA技術(shù)的出現(xiàn)及成熟，使得制作此類的光柵的制作變得更加的容易及可靠很重要。

基于X射線相襯成像的光柵利用Talbot自成像效應(yīng)來獲取有關(guān)X射線因折射和散射而產(chǎn)生的微小角度偏轉(zhuǎn)的信息能力和水平。這在醫(yī)學(xué)成像到材料研究等各個(gè)領(lǐng)域都有潛在的應(yīng)用。

但是對(duì)于剛進(jìn)入這一研究領(lǐng)域的科研工作者或者想單純快速相襯圖片的用戶來說異常狀況，繁瑣的光柵參數(shù)模擬、全新開模制作光柵價(jià)格昂貴、與此同時(shí)精密平移臺(tái)的選擇及精密調(diào)節(jié)都將耗費(fèi)大量的精力鍛造。

為了解決的這個(gè)問題競爭激烈，德國microworks公司推出了一套模塊化、高性價(jià)比的X射線相襯改善、暗場(chǎng)成像套件

TALINT EDU

Microworks的TALINTEDU系統(tǒng)是一種緊湊空白區、物美價(jià)廉的TALbot干涉儀套件。它是X射線Talbot-Lau干涉儀的巧妙簡化形式信息化，包括所有必要的硬件來建立和微調(diào)干涉儀形勢，以及通過相位步進(jìn)步驟來獲得三種成像模式應(yīng)用：吸收成像、相襯成像和暗場(chǎng)成像取得明顯成效。

在不到半小時(shí)的時(shí)間內(nèi)約定管轄，它可以像另一個(gè)探測(cè)器一樣容易安裝。 對(duì)于這個(gè)簡化的系統(tǒng)來說圖 像采集是手動(dòng)的創新的技術，在相位步進(jìn)過程中獲得的圖像非常適合于圖像分析科學(xué)家發揮。