公司介紹
德國(guó)HP Spectroscopy公司成立于2012年，致力于為科研及工業(yè)領(lǐng)域的客戶定制解決方案道路，是科學(xué)儀器的供應(yīng)商和開(kāi)發(fā)商規模設備。產(chǎn)品線包括XAS系統(tǒng)，XUV/VUV/X-ray光譜儀指導，beamline產(chǎn)品等競爭力。主要團(tuán)隊(duì)由x射線、光譜進一步完善、光柵設(shè)計(jì)集聚、等離子體物理、beamline等領(lǐng)域的專家組成調整推進。并與的研究機(jī)構(gòu)的科學(xué)家維持緊密合作狀況，關(guān)注前沿技術(shù)，保持產(chǎn)品的迭代與創(chuàng)新機製。
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
HiXAS提供了完整的基于實(shí)驗(yàn)室拓展X射線精細(xì)結(jié)構(gòu)吸收譜(EXAFS)和X射線近邊結(jié)構(gòu)吸收譜（XANES）的解決方案全過程。在較小的占地面積內(nèi)，它集成了X射線光管光源參與水平、高分辨光譜儀大型、光子技術(shù)像素化X射線探測(cè)器，以及用于儀器控制和數(shù)據(jù)的分析的控制軟件明確相關要求。
由于hiXAS的光譜質(zhì)量于同步輻射測(cè)量的結(jié)果相當(dāng)重要意義，使得冗長(zhǎng)的同步輻射測(cè)量機(jī)時(shí)申請(qǐng)和等待變得不再有必要。
X射線光管光源和光譜儀可以覆蓋的能量范圍為5-12KeV體製，因此包括了3d過(guò)度金屬的K吸收邊構建。專門優(yōu)化的HAPG Von Hamos光譜儀結(jié)構(gòu)可以獲得信噪比的光譜。因此服務延伸，可分析的樣品濃度可以低至數(shù)個(gè)質(zhì)量百分比共創輝煌。同時(shí)光譜儀在覆蓋的吸收邊范圍內(nèi)，保持很高效率和恒定的高分辨率（E/ΔE = 4000）。我們還可以根據(jù)您的各種應(yīng)用需要，提供定制化的hiXAS系統(tǒng)深刻變革。
hiXAS可用于EXAFS和XANES測(cè)量的元素范圍。HiXAS可以在幾分鐘的時(shí)間內(nèi)測(cè)量出分析物濃度僅為幾個(gè)重量百分比的稀釋樣品解決方案。
測(cè)量結(jié)果
|
hiXAS可以實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量的數(shù)據(jù)采集，能量分辨率與同步輻射相當(dāng) | 
單原子催化劑Zn k邊XANES光譜善謀新篇。在分析物濃度低至1wt%的情況下增產，獲得了與高質(zhì)量的XANES光譜便利性。hiXAS可以測(cè)量稀釋的樣品，提高對(duì)氧化狀態(tài)的識(shí)別能力 |
hiXAS對(duì)元素具有較高的靈敏性行動力，能夠通過(guò)吸收邊能量位置實(shí)現(xiàn)對(duì)元素電子結(jié)構(gòu)及價(jià)態(tài)分析提供有力支撐。 | 
hiXAS可以測(cè)量低濃度樣品，以上為Co樣品XANES光譜保供。 |
應(yīng)用案例
 
Cu箔樣品X射線吸收測(cè)量自行開發，采集時(shí)間:3分鐘含樣品，1.5分鐘不含樣品 C. Schlesiger et al, Recent progress in the performance of HAPG based laboratory EXAFS and XANES spectrometers, J. Anal. At. Spectrom. 35, 2298 (2020) |
(a-b) 使用實(shí)驗(yàn)室臺(tái)式 XAFS 譜儀測(cè)得的 DRM 反應(yīng)前后 Sm1.5Sr0.5NiO4 材料的 Ni K 邊 XANES 譜圖對(duì)比責任；(c-d) 使用實(shí)驗(yàn)室臺(tái)式XAFS譜儀測(cè)得的DRM反應(yīng)前后 Sm1.5Sr0.5NiO4 材料的 Sm L3 邊及 Sr K 邊 XANES 譜圖對(duì)比應用情況。 |
 
(b) 使用實(shí)驗(yàn)室臺(tái)式XAFS 譜儀 hiXAS測(cè)得的 Co，Co3O4 及macro-TpBpy-Co 的 Co K 邊吸收譜圖組建；(c-d) 相應(yīng)的通過(guò)傅里葉變化得到的 R 空間變換譜圖表現。 |
