P3型全自動粗糙度測量儀是一款非接觸式粗糙度測量儀規模，采用*的白光共聚焦技術(shù)，可實現(xiàn)對材料表面從納米到毫米量級的粗糙度測試講道理，符合標(biāo)準(zhǔn)ISO25178發展目標奮鬥，用于取代傳統(tǒng)的接觸式探針型粗糙度測量儀。測量范圍廣更多的合作機會，可測透明延伸、金屬材料，半透明服務好、高漫反射新趨勢，低反射率、拋光發展邏輯、粗糙材料(金屬凝聚力量、玻璃、木頭聽得進、合成材料新的力量、光學(xué)材料、塑料各項要求、涂層更高要求、涂料越來越重要的位置、漆、紙共同學習、皮膚順滑地配合、頭發(fā)、牙齒等任意樣品效高，不收材料形狀及顏色的限制前沿技術。

1. 測量具有非破壞性：采用白光共聚焦技術(shù)，可獲得納米級分辨率
2. 測量范圍大：15mm×15mm性能，無需進(jìn)行圖像拼接
3. 可測樣品的zui大坡度：87^oC
4. 測量范圍廣：可測平面多種方式、曲面、球面技術創新、透明深入交流研討、半透明、高曲折度廣泛應用、拋光關註度、粗糙樣品
5. 不受環(huán)境光的影響
6. 不受樣品反射率與形狀的影響
7. 操作簡單：樣品無需特殊處理優(yōu)于傳統(tǒng)的探針技術(shù)與干涉技術(shù)形貌儀

主要技術(shù)參數(shù)：

1，掃描范圍：1×1哪些領域，2×2敢於挑戰，3×3，4×4積極，5×5探索，10×10，15×15（mm）

2產業， 掃描步長：1×1滿意度，2×2，5×5（μm）

3可持續， Z方向測量范圍：300μm

4主要抓手， Z方向測量分辨率：8nm

5， Z方向測量精度：60nm

6構建，橫向光學(xué)分辨率：2.6μm

產(chǎn)品應(yīng)用：

MEMS創新科技、半導(dǎo)體材料、太陽能電池共創輝煌、醫(yī)療工程具有重要意義、制藥、生物材料高效，光學(xué)元件應用創新、陶瓷和*材料的研發(fā)