產(chǎn)品型號

三靶高真空磁控鍍膜濺射系統(tǒng)

主要特點

1新的動力、組成由單室超高真空雙靶磁控濺射室，由濺射真空室與管路組成發展契機。

2廣泛關註、配有旁抽系統(tǒng)，啟動快不停機即可更換樣品發力，重復性好優勢領先。

3、用于鍍制各種單層膜共創美好、多層膜系推動並實現，可實現(xiàn)單靶獨立薄弱點、雙靶輪流、雙靶共濺射等濺射模式積極回應。

4重要性、同時可以實現(xiàn)反應磁控濺射，制備氮化物多種場景，氧化物等多元化服務體系，可鍍金屬及導磁金屬、合金擴大公共數據、化合物深度、半導體、介質(zhì)復合膜和其它化學反應膜核心技術體系。

5與時俱進、作為試驗設備來說達到了的性能價格比。

技術(shù)參數(shù)

系統(tǒng)由真空腔室初步建立、旋轉(zhuǎn)樣品架綜合運用、磁控濺射靶、鎧裝加熱器的方法、抽氣系統(tǒng)實事求是、真空測量、工作氣路落到實處、電控系統(tǒng)等各部分組成服務水平。

極限真空優(yōu)于：5.0x10^-5Pa（經(jīng)烘烤除氣后）

真空漏率小于2.0x10^-8Pa.l/S

系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣后，再開始抽氣技術創新，40分鐘可達到6.0x10^-4Pa處理方法；

停泵關(guān)機12小時后真空度：≤5 Pa

1、 真空室腔體尺寸Ф300x350mm持續向好，手動上開蓋輔助液壓結(jié)構(gòu)習慣，前有一個觀察窗，樣品臺可旋轉(zhuǎn)內(nèi)部連接鎧裝加熱器進展情況、真空規(guī)的積極性、放氣閥等各種規(guī)格的法蘭接口，選用優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制造至關重要，氬弧焊接不久前，表面采用電解拋光處理。采用金屬或氟橡膠圈密封提升行動。配備一體機柜標準電箱能力建設。

2、磁控濺射靶

靶材尺寸：Φ50mm（其中一個可以濺射磁性材料）有效性；

永磁靶一支創新內容、強磁靶一支：射頻濺射與直流濺射兼容高端化，靶內(nèi)有水冷；配手動擋板我有所應。

2個靶可共同向下面的樣品中心濺射提單產，靶與樣品距離90～110mm可調(diào)。

3至關重要、鎧裝加熱樣品:

加熱區(qū)域為Φ100mmX100mm(H),基片加熱溫度 室溫-600°C±1°C發展空間，由熱電偶閉環(huán)反饋控制。

配有磁力轉(zhuǎn)軸有所應，電機驅(qū)動每分鐘低于30轉(zhuǎn)足了準備。

標準配件

1、真空部件

進氣角閥：2套著力提升；

RF100觀察窗：1套深刻內涵；

觀察窗法蘭：RF100  2個；

電阻規(guī)： KF16  1個融合；

電極引線： CF25 1個深入闡釋；

2、工作真空獲得及測量：

直聯(lián)6L/s機械泵： 1臺完成的事情；

F600分子泵：1臺物聯與互聯；

電磁KF20閥：1臺；

5227真空計：1臺

角閥RF16改造層面、管路供給、接頭、充氣閥D6等： 1路經驗分享；

KF25電磁壓差閥： 1臺解決方案；

CF100閘板閥：1臺；

3有力扭轉、相關(guān)規(guī)格的金屬密封銅圈上高質量，氟橡膠密封圈

4、不銹鋼緊固螺栓發展需要、螺母攻堅克難、墊片等

5、安裝機臺架組件:

安裝臺架：整個設備安放在一個用承載式標準電箱上重要組成部分，箱體均進行噴塑處理。拆卸方便占地小780mmX580mmx1100mm合作。

6勃勃生機、電源控制系統(tǒng)

電源布置在標準電箱上，安裝于系統(tǒng)機架上極致用戶體驗。

7提供有力支撐、自制電源

控制電源：1臺（為機械泵應用、電磁閥等提供電源及過程控制帶邏輯監(jiān)測）；   

樣品加熱電源：1臺（日本產(chǎn)控溫表可實現(xiàn)程序控溫）室溫-600°C±1°C品率，由熱電偶閉環(huán)反饋控制相貫通。

8、配套電源

真空計電源：1套

直流DC500W電源：2套

流量顯示積極影響、流量控制器：1套

9自動化方案、備品備件：1套