產(chǎn)品型號

VTC-16-D小型直流磁控等離子濺射儀

主要特點

1、特別為SEM樣品鍍導電性薄膜設(shè)計綠色化發展。

2至關重要、體積小巧，操作簡單用上了，容易上手提升行動。

3、擁有小型磁控靶頭關註，可以鍍金銀鉑等金屬研究進展。

技術(shù)參數(shù)

1、輸入電源：220V AC 50/60Hz

2、功率：200W

3互動互補、輸出電壓：500 VDC

4發揮重要帶動作用、濺射電流：0-50 mA可調(diào)

5、濺射時間：0-120S可調(diào)

6意料之外、濺射腔體

1）采用石英腔體文化價值，尺寸：166 mm OD x 150 mm ID x 150 mm H

2）密封：采用不銹鋼平法蘭的O形密封圈

7、濺射頭&樣品臺

l）濺射頭可安裝靶材直徑為2英寸置之不顧，厚度0.1 - 2.5mm

      2）濺射時間1-120S可調(diào)

3）儀器中安裝有直徑為50mm的不銹鋼樣品臺不斷完善，其與濺射頭之間距離30-80mm可調(diào)。

      4）可選購加熱型樣品臺方便，其加熱溫度為500℃

      5）安裝有一可手動操作的濺射擋板基礎上，可進行預濺射

6）可制膜的直徑為:4英寸（僅供參考，詳情請點擊）

8應用領域、真空系統(tǒng)

l）安裝有KF25真空接口

2）數(shù)字真空壓力表（Pa）

3）此系統(tǒng)可通入氣體運行

4）< 1.0E-2 Torr （采用機械泵）

5）< 1.0E-5 Torr（采用渦旋分子泵）

9保持競爭優勢、進氣

l）設(shè)備上配1/4英寸進氣口，方便連接氣瓶

   2）設(shè)備前面板上裝有一氣流調(diào)節(jié)旋鈕發展機遇，方便調(diào)節(jié)氣流

10長效機製、靶材

   l）靶材尺寸要求：Φ50mm×(0.1 - 2.5) mm(厚度)

   2）設(shè)備標配為銅靶

11、產(chǎn)品外型尺寸

L460 mm × W 330 mm × H 540 mm

凈重：20 kg（不包括泵）

可選

1全技術方案、可在本公司選購各種靶材

對于濺射各種金屬靶材分享，需要摸索的濺射參數(shù)，下表是本公司實驗所設(shè)置的參數(shù)優勢與挑戰，歡迎您帶料來科晶實驗室摸索工藝（僅供參考）

2經驗分享、可在本公司選購各種真空泵

3、可在本公司選購薄膜測厚儀安裝在濺射儀上

質(zhì)量認證

CE認證

質(zhì)保期

一年保修趨勢，終身技術(shù)支持有力扭轉。

特別提示：1.耗材部分如加熱元件，石英管一站式服務，樣品坩堝等不包含在內(nèi)發展需要。

         2.因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。

使用提示

l管理、有時為了達到理想的薄膜厚度，可能需要多次濺射鍍膜

2雙向互動、在濺射鍍膜前效率和安，確保濺射頭、靶材品牌、基片和樣品臺的潔凈

3深入開展、要達到薄膜與基底良好結(jié)合，請在濺射前清潔基材表面

4、超聲波清洗（詳細參數(shù)點擊下面圖片）：（1）丙酮超聲技術的開發，（2）異丙醇超聲-去除油脂研究與應用，（3）吹氮氣干燥，（4）真空烘箱除去水分更高效。

5全面協議、等離子清洗（詳細參數(shù)點擊下面圖片）：可表面粗糙化，可激活表面化學鍵具體而言，可祛除額外的污染物工具。

6、制造一個薄的緩沖層（5納米左右）：如Gr喜愛，Ti重要的角色，Mo，Ta向好態勢，可以應用于改善金屬和合金的附著力平臺建設。

7、請使用>5N純度氬氣等離子體濺射

8貢獻力量、濺射鍍膜機可以放入Ar或N2氣體手套箱中濺射

9使用、由于能量低，該模型不適用于涂層的輕金屬材料如Al特點，Mg積極回應，Zn，Ni又進了一步。請考慮我們的磁控濺射鍍膜機或熱蒸發(fā)鍍膜機多種場景。

超聲波清洗機	等離子清洗機	大功率磁控濺射儀	蒸發(fā)鍍膜儀

警告

注意：產(chǎn)品內(nèi)部安裝有高壓元件，禁止私自拆裝規劃，帶電移動機體擴大公共數據。

氣瓶上應安裝減壓閥（不包括），保證氣體的輸出壓力限制在0.02兆帕以下帶動擴大，以安全使用核心技術體系。

濺射頭連接到高電壓。

為了安全持續發展，操作者必須在關(guān)閉設(shè)備前裝樣和更換靶頭必然趨勢。