納米壓印機PL-T

納米壓印機的基本思想是通過模版敢於監督，將圖形轉(zhuǎn)移到相應(yīng)的襯底上幅度，轉(zhuǎn)移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜，通過熱壓或者輻照等方法使其結(jié)構(gòu)硬化從而保留下轉(zhuǎn)移的圖形重要的作用。整個過程包括壓印和圖形轉(zhuǎn)移兩個過程貢獻。根據(jù)壓印方法的不同，NIL主要可分為熱塑（Hot embossing）穩中求進、紫外固化UV和微接觸（Micro contact printing統籌， uCP）三種光刻技術(shù)。

主要功能

納米壓印機的主要功能是將圖形轉(zhuǎn)移到相應(yīng)的襯底上協同控製，轉(zhuǎn)移的媒介通常是一層很薄的聚合物膜振奮起來，通過熱壓或者輻照等方法使其結(jié)構(gòu)硬化從而保留下轉(zhuǎn)移的圖形。壓印技術(shù)主要分為以下兩種：

熱壓：首先在襯底上涂上一層薄層熱塑形高分子材料（如PMMA）利用好。升溫并達到此熱塑性材料的玻璃化溫度Tg（Glass transistion temperature）之上深入各系統。熱塑性材料在高彈態(tài)下，將具有納米尺度的模具壓在上面系列，并施加適當(dāng)?shù)膲毫ψ饔?，熱塑性材料會填充模具中的空腔，模壓過程結(jié)束后空間載體，溫度降低使熱塑性材料固化高質量，從而得到與模具的重合的圖形。隨后移去模具重要組成部分，并進行各相異性刻蝕去除殘留的聚合物流程。接下來進行圖形轉(zhuǎn)移。圖形轉(zhuǎn)移可以采用刻蝕或者剝離的方法勃勃生機≈Ω鳂I？涛g技術(shù)以熱塑性材料為掩膜，對其下面的襯底進行各向異性刻蝕，從而得到相應(yīng)的圖形應用。剝離工藝先在表面鍍一層金屬建議，然后用有機溶劑溶解掉聚合物，隨之熱塑性材料上的金屬也將被剝離相貫通，從而在襯底上有金屬作為掩膜不斷發展，隨后再進行刻蝕得到圖形。

紫外壓幼詣踊桨?。簽榱烁纳茻釅河≈袩嶙冃蔚娜秉c緊密協作，特克薩斯大學(xué)的C. G. willson和S. v. Sreenivasan開發(fā)出步進-閃光壓印（Step- Flash Imprint Lithography）效率，這種工藝中采用對紫外透明的石英玻璃（硬模）或PDMS（軟模）規模，光阻膠采用低粘度，光固化的單體溶液講道理。先將低粘度的單體溶液滴在要壓印的襯底上發展目標奮鬥，結(jié)合微電子工藝，薄膜的淀積可以采用旋膠覆蓋的方法更多的合作機會，用很低的壓力將模版壓到晶圓上延伸，使液態(tài)分散開并填充模版中的空腔。透過模具的紫外曝光促使壓印區(qū)域的聚合物發(fā)生聚合和固化成型行業分類。后刻蝕殘留層和進行圖形轉(zhuǎn)移技術特點，得到高深寬比的結(jié)構(gòu)。后的脫模和圖形轉(zhuǎn)移過程同熱壓工藝類似發展邏輯。

技術(shù)能力

該設(shè)備的發(fā)明人2001年至 2003 年凝聚力量，在納米壓印技術(shù)發(fā)明人、 美國普林斯頓大學(xué) StephenY.Chou 教授的納米結(jié)構(gòu)實驗室作為研究助理進行了為期 3 年的研究工作聽得進，發(fā)展了紫外光固化納米壓印工藝與材料新的力量，對納米壓印技術(shù)的發(fā)展做出了重要的貢獻。2004 年加入材料科學(xué)與工程系后繼續(xù)圍繞納米微加工技術(shù)與納米壓印技術(shù)開展研究工作便利性，研發(fā)了數(shù)種新型納米壓印材料全面展示，發(fā)展了新型高分子壓印模板，提出了曲面納米壓印技術(shù)深刻認識；利用 863 課題“紫外光固化和熱壓兩用納米壓印設(shè)備的研制與應(yīng)用”項目的支持核心技術，研制成功具有紫外光固化和熱壓功能兩用納米壓印設(shè)備，現(xiàn)已成為產(chǎn)品主動性，并被南京大學(xué)創造性、北京航空航天大學(xué)、國防科技大學(xué)道路、黑龍江大學(xué)規模設備、中科院深圳研究院等多家高校和科研機構(gòu)所采用真諦所在，形成了具有自主知識產(chǎn)權(quán)的納米壓印核心技術(shù)，技術(shù)水準與當(dāng)前國際該領(lǐng)域*水平同步競爭力。

技術(shù)參數(shù)

應(yīng)用

納米壓印技術(shù)是目前納米溝道加工的主要技術(shù)。傳統(tǒng)的光刻技術(shù)主要是利用電子和光子改變光刻膠的物理化學(xué)性質(zhì)哪些領域，進而得到相應(yīng)的納米圖形更讓我明白了。而納米壓印技術(shù)則可以在不使用電子和光子的前提下，直接利用物理學(xué)機理機械地在光刻膠上構(gòu)造納米尺寸圖形積極。正是由于這種機械作用，使得納米壓印技術(shù)不再受到光子衍射和電子散射的限制堅持先行，可大面積地制備納米級圖形產業。同時，由于這項技術(shù)所用的設(shè)備簡單情況較常見，制備時間短可持續，壓印模板可以重復(fù)使用，所以應(yīng)用該技術(shù)制備納米圖形所需的成本也較低體製。目前典型的三類納米壓印技術(shù)分別是：熱壓印構建，紫外固化壓印，微接觸印刷服務延伸。分別適用在其各自的領(lǐng)域：

熱壓印技術(shù)：光電共創輝煌、光學(xué)器件；微型機電系統(tǒng)領(lǐng)域進一步。

紫外固化壓印技術(shù)：納米光電器件大部分、納米電子器件的生產(chǎn)；NEMS和MEMS加工實際需求；半導(dǎo)體集成電路的制造解決方案。

微接觸印刷技術(shù)：生物芯片和微流體器件的生產(chǎn)；生物傳感器（抗體光柵）善謀新篇；微機械元件的生產(chǎn)增產。

加工工藝來分，主要包含五大部分：壓印方法，刻蝕行動力，鍍膜，檢測&表征與其他穩中求進。所涉及的儀器設(shè)備主要包括：納米壓印機統籌，感應(yīng)耦合等離子體刻蝕機最深厚的底氣，電子束蒸發(fā)鍍膜機，原子力顯微鏡&掃描電鏡單產提升，以及超聲波清洗機&真空干燥箱等傳遞。

Sandwiched Flexible Polymer-SFP® & Hybrid Mold®軟模板壓印技術(shù)

盡可能消除灰塵顆粒對于納米壓印結(jié)果產(chǎn)生的影響

在不規(guī)則表面或者曲面進行納米壓印（上圖為單模光纖進行的納米壓觿趧泳?。?/p>

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Nickel Template金屬鎳模板熱壓技術(shù)

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直接對于聚合物襯底（PMMA開展攻關合作、PET等材料上）直接熱壓，免去了刻蝕環(huán)節(jié)預下達。

鎳模板壽命長的有效手段，適合高溫高壓連續(xù)壓印。