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(10μm) S140 大幅面

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nanoArch S140是可以實現(xiàn)實現(xiàn)高精度大幅面微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng)促進進步,它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技術(shù)發力。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng),將需打印圖案投影到樹脂槽液面迎來新的篇章,在液面固化樹脂并快速微立體成型共創美好,從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件,完成樣品的制作空白區。該技術(shù)具備成型效率高協調機製、打印精度高等突出優(yōu)勢信息化,被認為是目前前景的微納加工技術(shù)之一形勢。

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開啟微納3D精密制造之門

BMF nanoArch® S140 系統(tǒng)簡介

nanoArch S140是可以實現(xiàn)實現(xiàn)高精度大幅面微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng),它采用的是面投影微立體光刻(PμSL:Projection Micro Stereolithography)技術(shù)取得明顯成效。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng)約定管轄,將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型創新的技術,從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件發揮,完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高快速增長、打印精度高等突出優(yōu)勢與時俱進,被認為是目前前景的微納加工技術(shù)之一。

科研級3D打印系統(tǒng)

nanoArch® S140是工業(yè)級3D打印系統(tǒng)初步建立,擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚綜合運用,可以兼顧微尺度和宏觀樣件的打印,從而實現(xiàn)超高精度大幅面的樣件制作的方法,非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學研究及應(yīng)用創(chuàng)新實事求是。

nanoArch® S140 系統(tǒng)性能

光源

UV-LED(405nm)

打印材料

光敏樹脂

光學精度

10μm

XY打印精度

10~40μm

打印層厚

10~40μm

打印樣品尺寸

Mode Single:19.2mm*10.8mm*45mm
Mode stitch:94mm*52mm*45mm
Mode Array:94mm*52mm*45mm

樣品高度

10mm in typical;
45mm in Max

打印速度

288~1152mm3/h

打印文件格式

STL

設(shè)備功率

3000W

系統(tǒng)外形尺寸

主機:650(L)*650(W)*750mm(H)
整機:1000(L)*700(W)*1600mm(H)

重量

300kg

打印材料

通用型

丙烯酸類光敏樹脂落到實處,比如HDDA服務水平,PEGDA等。

個性化

405nm固化波段的光敏樹脂材料 技術創新,支持透明樹脂處理方法,柔性樹脂,硬性樹脂持續向好,納米顆粒摻雜復(fù)合樹脂活動上,4D打印樹脂有望,生物醫(yī)療樹脂等,需適配不同的工藝和模型導向作用,不保證打印性能

系統(tǒng)特點

高精度
(XY打印精度高達10μm)
低層厚
(10μm~40μm的打印層厚)
微尺度大幅面的打印能力
光學監(jiān)控系統(tǒng)方案,自動對焦功能
優(yōu)良的光源穩(wěn)定性
配備完善的樣品后處理組件 包括抽真空及紫外后固化

應(yīng)用案例


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