光聲無損膜厚儀
隨著電子和納米科學時代的興起，電子元件的小型化已成為其幾乎呈指數(shù)級性能的重要因素主要抓手。將技術(shù)層和涂層減薄到納米級體製，可以在各種領(lǐng)域取得進步。復雜的制造流程推動控制變得越來越準確創新科技。
光聲無損膜厚儀為這些演變相關(guān)的許多問題提供了解決方案服務延伸。缺陷檢測現(xiàn)在在許多行業(yè)中非常必要，以避免在生產(chǎn)過程中遇到問題并提高質(zhì)量水平具有重要意義。
我們使用的光聲技術(shù)設計了光聲無損測量系統(tǒng)進一步。 技術(shù)源自法國CNRS 和波爾多大學的技術(shù)轉(zhuǎn)讓，它依靠激光強大的功能、材料和聲波之間的相互作用深入物質(zhì)的核心實際需求。
我們的非破壞性和非接觸式技術(shù)將光轉(zhuǎn)換為聲頻超過100GHz 的聲波。 目的在于表征涂層，例如不同類型材料的厚度和附著力善謀新篇。特別適用于測量從幾納米到幾微米的薄層增產，無論是不透明的（金屬、金屬氧化物和陶瓷）還不大，還是半透明和透明的高產。 這種光學技術(shù)不受樣品形狀的影響。
產(chǎn)品特點
- 非破壞性和非接觸式技術(shù)
- 薄膜的表征：厚度發揮作用、附著力良好、熱性能
- 快速且可重復的測量
- 超精密測量
- 許多材料可用
- 能檢測的膜厚度從 2納米～20微米
- 掃描方式：單點、XY掃描銘記囑托、表面聲波
- 測樣樣品種類： 不透明單產提升、半透明、透明均可測試試驗。
- 平坦和彎曲的樣品均可
系統(tǒng)構(gòu)成：
儀器使用兩個同步的超快激光器勞動精神。會產(chǎn)生大約100飛秒的不同波長的激光脈沖。使用這些脈沖進行非破壞性和非接觸式測量製度保障。這些都集中在所研究的樣品表面預下達。
能使用的材料
廣泛的材料及其在許多應用中的使用使這一材料方面變得非常必要。自產(chǎn)品問世以來統籌推進，我們的技術(shù)已證明其有能力測量許多金屬材料方案。也適用于陶瓷和金屬氧化物，并且不受外形因素的影響了解情況。
無損檢測 (NDT) 具體應用案例半導體行業(yè)
半導體行業(yè)為我們周圍遇到的大多數(shù)電子設備提供了基本組件深入。它的制造需要在硅晶片上進行多次薄膜沉積。
問題重要的？
在任何工藝過程中開展研究，不透明薄膜的沉積，無論是單層還是多層相互融合，都需要質(zhì)量控制首要任務。無論是檢測還是計量，厚度測量和界面表征都是確保其質(zhì)量的關(guān)鍵問題不同需求。
我們的解決方案發展？
- 高速控制。
- 非破壞性和非接觸式測量總之。
- 單層和多層厚度測量面向。
顯示器行業(yè)
今天，不同的技術(shù)競爭主導顯示器的生產(chǎn)研學體驗，而顯示器在我們的日常使用中無處不在建設項目。事實上最為突出，由于未來 UHD-8K 標準以及新興柔性顯示器的制造工藝，這個不斷擴大的行業(yè)存在技術(shù)限制適應性。
問題節點？
一個像素仍然是一堆薄層有機墨水通過活化、銀落地生根、ITO……在這方面，控制薄層厚度的問題仍然存在健康發展。這些問題可能會導致最終產(chǎn)品出現(xiàn)質(zhì)量缺陷有效保障。
我們的解決方案？
- 對此類層的*檢查長效機製。
- 提取厚度的可能性講實踐。
- 非破壞性和非接觸式厚度測量。
薄層沉積
無論是在航空工業(yè)還是科研制造領(lǐng)域奮戰不懈，技術(shù)涂層都可用于增強高附加值部件中的某些功能市場開拓。這些涂層的厚度隨后成為確保目標性能的關(guān)鍵因素。
問題大大縮短？
無論是法律限制還是技術(shù)限制要落實好，破壞性測試的采樣方法通常提供不完整的答案。此外更默契了，由于形狀因素先進技術、曲率等原因，很難控制3D作品不合理波動。
我們的解決方案宣講手段？
- 非破壞性和非接觸式測試
- 快速測試厚度數(shù)據(jù)
- 現(xiàn)在可以進行在線生產(chǎn)控制
