濺射蒸發(fā)一體機,用于形貌觀察前在不導(dǎo)電樣品（如高分子材料、無機非金屬材料等）表面噴鍍上一層金膜（鉑近年來，銀講道理，鈀等）或者薄碳層，減少因電子束在樣品表面的積聚而產(chǎn)生的荷電效應(yīng)技術先進，使得形貌觀察更容易更多的合作機會，提高成像質(zhì)量≌J為？梢杂糜谥谱麟姌O觀察導(dǎo)電特性服務好。參數(shù)：2儀器尺寸 ：主機 300mm×360mm×380mm（W×D×H）蒸鍍 300mm×360mm×160mm（W×D×H）2真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）2靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）2濺射靶材：Au2濺射靶材大小：φ50mm2樣品臺：50mm (D)2濺射工作電壓：0-1600V (DC)可調(diào)2濺射電流：0-50mA2濺射定時：0-360S2蒸碳電流 0-100A(AC)2蒸發(fā)材料：碳纖維 2蒸發(fā)工作電壓：0-30V2蒸發(fā)時間：0-1S2微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管2可通入氣體： 多種2真空泵： 2升機械旋轉(zhuǎn)泵（國產(chǎn)VRD-8）

   SD-900C 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致反應能力，是北京博遠(yuǎn)微納科技有限公司針對SEM用戶研制生產(chǎn)的一款既能濺射金共謀發展、銀、鉑又能蒸發(fā)碳膜的一機多用設(shè)備結構重塑。

此款機器具有小巧方便操作簡單成膜效果好之優(yōu)點聽得懂，可以滿足廣大SEM用戶隨時樣品制備的需要。
   工作時結(jié)合內(nèi)部自動控制電路很容易控制真空室壓強有所增加、電離電流及選擇所需的電離氣體各項要求，獲得鍍膜效果。
   配有高位定性的真空泵.
特點：

1越來越重要的位置、簡單新技術、經(jīng)濟、可靠順滑地配合、外觀精美深入。

2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強以控制鍍膜的速率和顆粒的大小前沿技術。

3基礎、SETPLASMA手動啟動按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強和濺射電流避免對膜造成不必要的損傷。

4多種方式、真空保護可避免真空過低造成設(shè)備短路對外開放。

5技術創新、同時可以通過更換不同的靶材（金、鉑資料、銥廣泛應用、銀等），以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層橫向協同。

6哪些領域、通過通入不同的惰性氣體以達(dá)到更純凈的涂層。

7不斷創新、獨立的濺射建立和完善、蒸發(fā)上蓋和玻璃腔體防止交叉污染。

8參與水平、一體機更加經(jīng)濟實惠大型。

9、碳纖維繩更加細(xì)膩均勻情況較常見、快速可持續，更有利于分析材料結(jié)構(gòu)。

10體製、濺射蒸發(fā)功能轉(zhuǎn)換方便快捷構建。




電子束敏感的樣品:
主要包括生物樣品，塑料樣品等服務延伸。S EM中的電子束具有較高能量共創輝煌，在與樣品的相互作用過程中，它以熱的形式將部分能量傳遞給樣品研究。如果樣品是對電子束敏感的材料高效，那這種相互作用會破壞部分甚至整個樣品結(jié)構(gòu)。這種情況下提高，用一種非電子束敏感材料制備的表面鍍層就可以起到保護層的作用機構，防止此類損傷； 
非導(dǎo)電的樣品:
由于樣品不導(dǎo)電交流，其表面帶有“電子陷阱”基礎，這種表面上的電子積累被稱為“充電”。為了消除荷電效應(yīng)還不大，可在樣品表面鍍一層金屬導(dǎo)電層高產，鍍層作為一個導(dǎo)電通道，將充電電子從材料表面轉(zhuǎn)移走發揮作用，消除荷電效應(yīng)良好。在掃描電鏡成像時，濺射材料增加信噪比，從而獲得更好的成像質(zhì)量引領。 
新材料:
非導(dǎo)電材料實驗電極制作觀察導(dǎo)電特性自動化裝置。

一般來說，用于掃描樣品時金屬的厚度為100-300?,采用經(jīng)驗法測定厚度勞動精神，可由下面的公式得到

d = KIVT

其中： d：是鍍膜厚度(單位?)

K：是常數(shù)開展攻關合作，取決于濺射金屬和所充氣體(采用金靶和氬氣時K為0.17製度保障，金靶和空氣K為0.07)預下達，此時靶與樣品之間的距離

I： 是等離子流(單位mA)

V：是所施電壓(單位kv)

T“”是時間(單位s)。

例如采用金靶和氬氣統籌推進，l為8mA,T為100秒方案，V為1KV

則, d = KIVT = 0. 17×8×l×100 = 136?

即每秒1.36?

濺射速度依賴于濺射系統(tǒng)本身的清潔程度，因此保護工作室的清潔十分重要了解情況。

其它金屬靶的濺射速度深入，例如鉑靶大約是金靶一半的速度，金一鉑靶則具有與金靶非常接近的濺射速度重要的。