濺射蒸發(fā)一體機(jī),用于形貌觀察前在不導(dǎo)電樣品（如高分子材料、無(wú)機(jī)非金屬材料等）表面噴鍍上一層金膜（鉑密度增加，銀有效性，鈀等）或者薄碳層，減少因電子束在樣品表面的積聚而產(chǎn)生的荷電效應(yīng)機遇與挑戰，使得形貌觀察更容易廣泛關註，提高成像質(zhì)量〖杉夹g？梢杂糜谥谱麟姌O觀察導(dǎo)電特性就能壓製。參數(shù)：2儀器尺寸 ：主機(jī) 300mm×360mm×380mm（W×D×H）蒸鍍 300mm×360mm×160mm（W×D×H）2真空樣品室： 硼硅酸鹽玻璃 160mm×110mm（D×H）2靶（上部電極）：50mm×0.1mm（D×H）2濺射靶材：Au2濺射靶材大小：φ50mm2樣品臺(tái)：50mm (D)2濺射工作電壓：0-1600V (DC)可調(diào)2濺射電流：0-50mA2濺射定時(shí)：0-360S2蒸碳電流 0-100A(AC)2蒸發(fā)材料：碳纖維 2蒸發(fā)工作電壓：0-30V2蒸發(fā)時(shí)間：0-1S2微型真空氣閥：可連接φ3mm軟管2可通入氣體： 多種2真空泵： 2升機(jī)械旋轉(zhuǎn)泵（國(guó)產(chǎn)VRD-8）

   SD-900C 型離子濺射儀外觀亮麗做工精致發展空間，是北京博遠(yuǎn)微納科技有限公司針對(duì)SEM用戶研制生產(chǎn)的一款既能濺射金效果、銀、鉑又能蒸發(fā)碳膜的一機(jī)多用設(shè)備足了準備。
此款機(jī)器具有小巧方便操作簡(jiǎn)單成膜效果好之優(yōu)點(diǎn)合作關系，可以滿足廣大SEM用戶隨時(shí)樣品制備的需要。
   工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路很容易控制真空室壓強(qiáng)深刻內涵、電離電流及選擇所需的電離氣體傳遞，獲得鍍膜效果。
   配有高位定性的真空泵.

特點(diǎn)：

1深入闡釋、簡(jiǎn)單相關性、經(jīng)濟(jì)、可靠物聯與互聯、外觀精美穩定。

2、可調(diào)節(jié)濺射電流和真空室壓強(qiáng)以控制鍍膜的速率和顆粒的大小供給。

3優勢與挑戰、SETPLASMA手動(dòng)啟動(dòng)按鈕可預(yù)先設(shè)置好壓強(qiáng)和濺射電流避免對(duì)膜造成不必要的損傷。

4深入各系統、真空保護(hù)可避免真空過(guò)低造成設(shè)備短路解決問題。

5、同時(shí)可以通過(guò)更換不同的靶材（金、鉑相互配合、銥慢體驗、銀等），以達(dá)到更細(xì)顆粒的涂層智能化。

6科技實力、通過(guò)通入不同的惰性氣體以達(dá)到更純凈的涂層。

7合作、獨(dú)立的濺射勃勃生機、蒸發(fā)上蓋和玻璃腔體防止交叉污染。

8極致用戶體驗、一體機(jī)更加經(jīng)濟(jì)實(shí)惠提供有力支撐。

9、碳纖維繩更加細(xì)膩均勻建議、快速品率，更有利于分析材料結(jié)構(gòu)。

10不斷發展、濺射蒸發(fā)功能轉(zhuǎn)換方便快捷積極影響。

一般來(lái)說(shuō)全面展示，用于掃描樣品時(shí)金屬的厚度為100-300?,采用經(jīng)驗(yàn)法測(cè)定厚度重要平臺，可由下面的公式得到

d = KIVT

其中： d：是鍍膜厚度(單位?)

K：是常數(shù)，取決于濺射金屬和所充氣體(采用金靶和氬氣時(shí)K為0.17核心技術，金靶和空氣K為0.07)應用提升，此時(shí)靶與樣品之間的距離

I： 是等離子流(單位mA)

V：是所施電壓(單位kv)

T“”是時(shí)間(單位s)。

例如采用金靶和氬氣創造性，l為8mA,T為100秒發展的關鍵，V為1KV

則, d = KIVT = 0. 17×8×l×100 = 136?

即每秒1.36?

濺射速度依賴于濺射系統(tǒng)本身的清潔程度，因此保護(hù)工作室的清潔十分重要規模設備。

其它金屬靶的濺射速度真諦所在，例如鉑靶大約是金靶一半的速度，金一鉑靶則具有與金靶非常接近的濺射速度競爭力。