PlasCalc等離子體監(jiān)控系統(tǒng)通過測量等離子體反應(yīng)腔的發(fā)射光譜更優美，實時監(jiān)測反應(yīng)腔內(nèi)的等離子體組分和密度、等離子體溫度防控、電子密度等參數(shù)成效與經驗。由等離子體發(fā)射光譜的強度值可計算得出等離子組分、顆粒密度及電子密度堅實基礎；由同一電子的能量吸收譜線同另外譜線的對比可計算得出電子溫度稍有不慎。測量輸出結(jié)果，可反饋控制等離子體的發(fā)生等地，從而獲得優(yōu)質(zhì)的反應(yīng)流程和效果最為顯著。

PlasCalc等離子體監(jiān)控系統(tǒng)主要包括：高性能線陣CCD光譜儀、傳輸光纖規定、接收透鏡環境、過程監(jiān)控裝置及測量分析軟件。

PlasCalc應(yīng)用于測量等離子體鍍膜沉積情況責任，監(jiān)測等離子濁刻應用情況，檢查表面清潔處理，分析等離子反應(yīng)腔控制情況組建，監(jiān)測異常污染排放現(xiàn)象表現，磁控濺射、光學(xué)鍍膜深刻變革、終點測量結論、開發(fā)等離子過程的監(jiān)測和控制優(yōu)化。

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