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橢偏儀

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橢偏儀

SpecEL-2000是一款操作便捷的臺式光譜橢偏儀,主要用于測量平整和半透明的樣品脫穎而出,例如硅晶圓片和玻璃片等薄膜拓展應用。

橢圓偏光技術是一種非接觸式、非破壞性結構,以光學技術測量表面薄膜特性的方法管理。其檢測原理是:當一束偏振光經過物體表面或界面時,其偏振極化狀態(tài)會被改變哪些領域。而橢偏儀就是通過探測樣品表面的反射光,來測量此改變(即反射光和入射光的振幅及相位的改變量)不斷創新,以決定表面特性薄膜的光學常數(n建立和完善、k值)及膜厚。

SpecEL-2000測試系統(tǒng)主要包括:寬帶光源參與水平、高性能線陣CCD光譜儀大型、導光器件、起偏器明確相關要求、樣品測試臺重要意義、檢偏器統籌發展、光學增強元件及測量分析軟件。

SpecEL-2000適合于探測薄膜厚度體系、光學常數以及材料微結構特性生產製造,通常應用于有薄膜存在的地方,其應用包括光學鍍膜和保護膜攜手共進、聚合物共同、光刻材料、平面平板顯示經過、計算機讀寫頭以及半導體集成電路制造的研究開發(fā)簡單化。另外,在生物明確了方向、醫(yī)學系統性、化學、電化學及材料研究等方面有著廣泛的應用單產提升。

SpecEL橢偏儀基本性能:

基本型號:SpecEI-2000-UV/VIS/NIR & SpecEI-2000-VIS/NIR
光譜范圍:290-1050nm (UV/VIS/NR) & 400-1000nm (VIS/NIR)
測量范圍:1nm~10μm
膜厚分辨率:0.1nm
測量時間:7~13s
測量膜層:32
光束直徑:300×1200μm (Smaller spots available)
入射角度:700 (other angles available)
樣品調整:高度±1mm就此掀開;傾斜±10
測量指標:光學常數(n&k)及膜厚
快速響應:在線測量
基底材料:硅晶片和玻璃片等
數學模型:折射率/諧振子/柯西/塞耳邁耶爾/麥克斯韋-加尼特等數學模型
應用場合:光學鍍膜/保護膜/聚合物/光刻材料/平面平板顯示/導體集成電路

SpecEL橢偏儀應用軟件
·
厚度測量/n&k值測量/ psi & delta測量
·7s
全光譜數據記錄
·
多種擬合模型選擇
·Mapping
繪圖功能 (150×150mm)

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