特點
- 標配日立生產的照射系統(tǒng)球差校正器（附自動校正功能）
- 搭載具有高輝度更為一致、高穩(wěn)定性的冷場FE電子槍
- 鏡體和電源等的高穩(wěn)定性使機體的性能大幅度提升
- 觀察像差校正SEM/STEM圖像的同時觀察原子分辨率SE圖像
- 采用側面放入樣品的新型樣品臺結構以及樣品桿
- 支持高立體角EDX*的對稱配置（對稱Dual SDD*）
- 采用全新構造的機體外殼蓋
- 配備日立生產的高性能樣品桿*
- *
- 選項
高輝度冷場FE電子槍×高穩(wěn)定性×日立制球面像差校正器
以長年積累起來的高輝度冷場FE電子源技術為基礎等形式，進行優(yōu)化，進一步實現電子槍的高度穩(wěn)定性研究與應用。
此外飛躍，還更新了鏡體，電源系統(tǒng)和樣品臺全面協議，以支持觀察亞Å圖像重要部署，并提升了機械和電氣穩(wěn)定性，然后與日立公司的球差校正器結合使用工具。
不僅可以穩(wěn)定地獲得更高亮度更精密的探頭智慧與合力，而且自動像差校正功能可以實現快速校正，從而易于發(fā)揮設備的固有性能醒悟。使像差校正可以更實用數據顯示。
Si（211）單晶體HAADF-STEM圖像（左）和圖像強度曲線分布（右下）也逐步提升、FFT功率譜（右上）
支持高立體角EDX*的對稱Dual SDD*
支持雙重配置100 mm2 SDD檢測器記得牢，以實現更高的靈敏度和處理能力進行EDX元素分析。
由于第二檢測器位于檢測器的對面位置重要的作用，因此更多可能性，幾乎不會因為樣品傾斜，導致X射線中的信號檢測量發(fā)生變化足夠的實力。所以緊迫性，即使是結晶性樣品，也不用顧忌信號量更適合，可*按照樣品的方向與位置進行元素分析高效。
此外，對于電子束敏感樣品擴大公共數據、低X光輻射量的樣品深度，除了原子列映射，在低倍核心技術體系、廣視野的高精細映射等領域也極為有效開拓創新。
GaAs（110）的原子柱EDX映射
像差校正SEM圖像/STEM圖像 同時觀察
配有標配二次電子檢測器持續發展，可同時觀察像差校正SEM/STEM圖像。通過同時觀察樣品的表面和內部結構促進善治，可以掌握樣品的三維構造擴大。
在像差校正SEM圖像中，除了可以通過校正球差來提高分辨率之外發揮效力，還可以獲取更真實地樣品表面圖像新格局。
Au/CeO2催化劑的SEM/ADF-/BF-STEM圖像（上段）和Au粒子的高分辨率圖像（下段）
