瑞士CSM納米劃痕儀(10uN - 1N)
可以測(cè)試薄膜和基底的臨界附著力新的動力，劃痕深度的過程中、劃痕寬度、凸起高度以及材料的粘彈性恢復(fù)等力學(xué)性能廣泛關註〈龠M進步？梢赃M(jìn)行微拉伸實(shí)驗(yàn)瀯蓊I先？蓪?shí)時(shí)記錄摩擦力及摩擦系數(shù)的變化迎來新的篇章，以及用于納米磨損測(cè)試。
瑞士CSM的納米劃痕儀主要用于界定膜基結(jié)合強(qiáng)度與薄膜抗劃痕強(qiáng)度推動並實現，適用的薄膜厚度一般低于800納米薄弱點。納米劃痕儀可以用于多種薄膜材料的檢測(cè)分析覆蓋範圍，例如單層或多層PVD、CVD積極性、PECVD薄膜奮勇向前，感光薄膜，彩繪釉漆實施體系，光學(xué)薄膜組建，微電子鍍膜，保護(hù)性薄膜大幅拓展，裝飾性涂層等等發行速度。基體可以為軟質(zhì)或硬質(zhì)材料與時俱進，包括金屬性能、合金、半導(dǎo)體綜合運用、玻璃供給、礦物、以及有機(jī)材料等實事求是。
瑞士CSM納米劃痕儀技術(shù)參數(shù)：
劃痕測(cè)試單元：
劃痕正向力載荷 10uN-1N
摩擦力可大至 1N(或200mN)
摩擦力分辨率 6uN(或300nN)
劃痕深度 200 um
劃痕長(zhǎng)度 120mm
劃痕速度 0.4-600mm/min進行探討，連續(xù)可調(diào)
高質(zhì)量金相顯微鏡系統(tǒng) ：
配有高分辨率的彩色CCD和與之匹配的圖形采集系統(tǒng)
配有5X，20X服務水平、和100倍的物鏡鏡頭最新，屏幕上放大倍率4000倍
在不拆卸、更換鏡頭的情況下處理方法，通過(guò)轉(zhuǎn)塔可以在不同倍率鏡頭間切換使用
采用LED光源系統(tǒng)
軟件控制光源系統(tǒng)的亮度和聚焦
點(diǎn)擊鼠標(biāo)即可實(shí)時(shí)存取試樣表面的光學(xué)圖像
全自動(dòng)連續(xù)景深成像(Multifocus)
全景成像模式(Panorama模式重要作用，對(duì)劃痕)
雙顯示器，一個(gè)用于測(cè)試模塊的軟件控制習慣，一個(gè)用于光學(xué)圖像采集充足、觀察
配有成像分析軟件：具有長(zhǎng)度標(biāo)尺，可以測(cè)試或顯示光學(xué)圖像中任意兩點(diǎn)坐標(biāo)的積極性，水平距離綠色化發展、垂直距離、直線距離
XYZ三方向全自動(dòng)試樣臺(tái)(以CPX納米力學(xué)平臺(tái)為例)：
X方向移動(dòng)范圍： 120mm
Y方向移動(dòng)范圍： 70mm
有效工作面積： 70mmX20mm
定位分辨率： 0.1um
定位精度： 1um
Z方向自動(dòng)移動(dòng)范圍： 30mm
分辨率：10nm
XYZ三方向移動(dòng)控制：鼠標(biāo)控制不久前、鍵盤(pán)控制及操縱桿控制
