UNHT型瑞士CSM超納米壓痕儀在滿足常規(guī)納米壓入測試需求的基礎上發揮重要帶動作用，更為對低熱漂移意向、小載荷壓入與高精度位移測量與控制等有較高需求的用戶設計制造，擁有的主動參比測量系統(tǒng)及多電容傳感器以監(jiān)控壓入載荷和壓入深度文化價值，并實時消除噪聲和熱漂移等微小誤差形式，是市場上現(xiàn)有的較精準的納米與超納米尺度動態(tài)壓痕測試儀器。

      UNHT型瑞士CSM超納米壓痕儀
 

　　UNHT型瑞士CSM超納米壓痕儀是市場上現(xiàn)有的較精準的納米與超納米尺度動態(tài)壓痕測試儀器不斷完善。在小尺度蠕變數字化、軟材料、生物材料基礎上、超薄膜深刻內涵、弛豫、彈性體等應用領(lǐng)域性能尤為突出重要意義。
 

　　正弦加載壓入模式(Sinus 態(tài)機械分析模式)
 

　　正線加載入模式可以通過其動態(tài)的測量過程給出材料更為完整的力學信息交流等，例如材料的粘彈性更加廣闊。這種加載模式可以給出材料硬度規劃、彈性模量、存儲模量和損失模量等信息隨壓入深度的連續(xù)分布曲線可以使用。
 

　　技術(shù)參數(shù)：
 

　　較小有效加載載荷： ?25uN
 

　　較大有效加載載荷 ?100mN
 

　　有效載荷分辨率 ?1nN
 

　　較小接觸力 ?100nN
 

　　較大壓痕深度 ?100um
 

　　位移分辨率 ?0.0003nm
 

　　位移信號噪聲水平 ?0.03nm
 

　　位移信號穩(wěn)定水平(或熱漂移) 0.008nm/sec
 

　　加載模式 高精度壓電驅(qū)動加載
 

　　位移測量  電容傳感器
 

　　符合ISO 14577-1進入當下，2，3標準
 

　　加載模式：
 

　　線性加載效高化，連續(xù)加載卸載新體系，二次項加載，恒應變速率加載創造，位移控制加載
 

　　正弦加載(DMA模式)：
 

　　能夠通過一次壓痕獲得接觸剛度不難發現、硬度和彈性模量隨壓痕深度的連續(xù)函數(shù)分布；
 

　　能夠測量材料的儲存模量設備製造、損耗模量和阻尼
 

　　能夠在壓入過程中通過反饋系統(tǒng)保持恒定的簡諧位移振幅發展需要。
 

　　簡諧力頻率范圍: 1Hz to 200Hz
 

　　XY 工作臺： 120 x 20 mm ，245 x 120 mm (OPX+)
 

　　XY 工作臺位移分辨率 ：0.25 μm 管理，0.10 μm (選件)
 

　　光學顯微鏡放大倍率： 200x, 4000x
 

　　光學顯微鏡攝像鏡頭： 彩色 768 x 582*
 

　　主要特點：
 

　　主動參比測量設計實時扣除熱漂移等偽位移信號
 

　　超低熱漂移
 

　　深度與載荷信號的電容傳感器測量
 

　　雙壓電加載裝置(更加可靠的設計)
 

　　雙載荷傳感器(閉環(huán)力反饋系統(tǒng))
 

　　符合標準ISO 和 ASTM
 

　　集成自動光學測量系統(tǒng)
 

　　帶有反饋系統(tǒng)的載荷加載裝置
 

　　儀器操作系統(tǒng)軟件包
 

　　可擴展選項
 

　　真空或濕度環(huán)境控制
 

　　原子力顯微鏡
 

　　高分辨率工作臺 (精度0.25微米)
 

　　高分辨率CCD光學顯微鏡
 

　　環(huán)境保護罩