? 產(chǎn)品簡(jiǎn)介：
REAL RTP100型快速退火爐是韓國(guó)ULTECH公司的一款4寸片快速退火爐戰略布局，采用革新的加熱技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)真正的基底溫度測(cè)量表現明顯更佳，不需要采用傳統(tǒng)快速退火爐的溫度補(bǔ)償狀態，溫度控制精確技術節能，溫度重復(fù)性高，客戶包括上許多半導(dǎo)體公司及科研團(tuán)隊(duì)廣泛認同，是半導(dǎo)體制程退火工藝的理想選擇國際要求。
? 技術(shù)特色：
? 真正的基片溫度測(cè)量，無需傳統(tǒng)的溫度補(bǔ)償
? 紅外鹵素管燈加熱
? 極其優(yōu)異的加熱溫度精確性與均勻性
? 快速數(shù)字PID溫度控制
? 不銹鋼冷壁真空腔室
? 系統(tǒng)穩(wěn)定性好
? 結(jié)構(gòu)緊湊鍛造，小型桌面系統(tǒng)
? 帶觸摸屏的PC控制
? 兼容常壓和真空環(huán)境競爭激烈，真空度標(biāo)準(zhǔn)值為5×10-3Torr，采用二級(jí)分子泵真空度低至5×10-6Torr
? 3路氣體（MFC控制）
? 沒有交叉污染改善，沒有金屬污染
? 真實(shí)基底溫度測(cè)量技術(shù)介紹：
如上圖智慧與合力，由陣列式鹵素?zé)糨椛涑鰺崃拷?jīng)過石英窗口到達(dá)樣品表面，樣品被加熱重要的角色，傳統(tǒng)的快速退火爐采用熱電偶進(jìn)行測(cè)量基片溫度開放要求，由于熱電偶與基片有一定距離，測(cè)量的不是基片真實(shí)的溫度平臺建設，必須進(jìn)行溫度補(bǔ)償服務機製。
REAL RTP100型快速退火爐采用的一根片狀的Real T/C KIT進(jìn)行測(cè)溫，如上圖使用，熱電偶測(cè)溫儀與片狀Real T/C KIT相連薄弱點，工作時(shí)片狀Real T/C KIT位于樣品上方很近的位置，陣列式鹵素?zé)糨椛涑鰺崃拷?jīng)過石英窗口到達(dá)樣品表面優化程度，樣品被加熱積極性，片狀Real T/C KIT同時(shí)被加熱，由于基片與Real T/C KIT很近不斷豐富，它們之間也會(huì)進(jìn)行熱量傳遞實施體系，并很快達(dá)到熱平衡，所以片狀Real T/C KIT測(cè)量的溫度就無限接近基片真實(shí)的溫度各有優勢，從而實(shí)現(xiàn)基片溫度的真實(shí)測(cè)量效果較好。
? 主要技術(shù)參數(shù)：
? 基片尺寸：4英寸
? 基片基座：石英針（可選配SiC涂層石墨）
? 溫度范圍：150-1250℃
? 加熱速率：10-200℃/S
? 溫度均勻性：≤±1.5% (@800℃, Silicon wafer)
≤±1.0% (@800℃, Substrate on SiC coated graphite susceptor)
? 溫度控制精度：≤ ±3℃
? 溫度重復(fù)性：≤ ±3℃
? 真空度：5.0E-3 Torr / 5.0E-6 Torr
? 氣路供應(yīng)：標(biāo)準(zhǔn)1路N2吹掃及冷卻氣路，由MFC控制（多可選3路）
? 退火持續(xù)時(shí)間：≥35min@1250℃
? 溫度控制：快速數(shù)字PID控制
? 尺寸：870mm*650mm*620mm
? 基片類型：
? Silicon wafers硅片
? Compound semiconductor wafers化合物半導(dǎo)體基片
? GaN/Sapphire wafers for LEDs 用于LED的GaN/藍(lán)寶石基片
? Silicon carbide wafers碳化硅基片
? Poly silicon wafers for solar cells用于太陽能電池的多晶硅基片
? Glass substrates玻璃基片
? Metals金屬
? Polymers聚合物
? Graphite and silicon carbide susceptors石墨和鍍碳化硅的石墨基座
? 應(yīng)用領(lǐng)域：
離子注入/接觸退火持續，快速熱處理(RTP)等多個領域，快速退火(RTA)，快速熱氧化(RTO)產品和服務，快速熱氮化(RTN)應用擴展，可在真空、惰性氣氛增多、氧氣活動上、氫氣、混合氣等不同環(huán)境下使用進一步推進，SiAu, SiAl, SiMo合金化導向作用，低介電材料方案，晶體化，致密化十大行動，太陽能電池片鍵合等左右。
