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碳納米管CVD設(shè)備

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碳納米管納米CVD系統(tǒng)

  
產(chǎn)品簡介:
   
 nanoCVD-8N型碳納米管CVD系統(tǒng)是英國MOORFIELD公司與英國曼徹斯特大學(xué)“諾貝爾獎”石墨烯團隊共同開發(fā)的一款專門生長高質(zhì)量單壁碳納米管的科研型桌面式CVD系統(tǒng)品牌,該系統(tǒng)采用的“冷壁技術(shù)”生長單壁碳納米管深入開展,典型的直徑為0.7-1.2nm,具有生長速度快等形式,質(zhì)量高技術的開發,重復(fù)性好,耗量少飛躍,無污染的優(yōu)點更高效,有多篇Science 與Nature的文章里都采用了該設(shè)備,是制備高質(zhì)量碳納米管科研用戶的理想選擇重要部署。

  產(chǎn)品特性:

   ? 采用的冷壁技術(shù)與*的加熱臺設(shè)計實現(xiàn)單壁碳納米管高重復(fù)性生長具體而言。

   ? 超緊湊的桌面式設(shè)計 

   ? 裝樣簡單:采用滑竿推拉門與加熱臺聯(lián)動組件

   ? 大樣片尺寸:20 mm×40 mm

   ? 加熱單元:低熱載智慧與合力,高加熱率喜愛,溫度1100℃,熱電偶溫度實時監(jiān)測溫度開放要求;

   ? 全自動壓力控制向好態勢;

   ? 三路氣體配帶質(zhì)量流量控制裝置(甲烷,氬氣服務機製,氫氣)貢獻力量;

   ? 生產(chǎn)時間短:一次完整生長流程時間小于30分鐘;

   ? 觸摸式液晶觸摸屏界面可自設(shè)和存儲多達30個生長流程薄弱點,生長條件精確控制覆蓋範圍,可重復(fù)生成制備單壁碳納米管;

   ? 聯(lián)機數(shù)據(jù)采集,生長流程全自動控制奮勇向前;

   ? 系統(tǒng)維護便捷方便不斷豐富,壓力功能、氣體流量和溫度參數(shù)連鎖確保使用安全進一步推進。

   生產(chǎn)體系:

   ? 基底:SiO2/Si, Al2O3/Si and Si3N4

   ? 催化劑:Fe, Co and Ni, films or dispersed nanoparticles

   ? 原料:Ethanol, CH4, C2H4 and C2H2

采用不同的合成工藝統(tǒng)不折不扣,不同的材料使命責任,基底與催化劑,nanoCVD-8N可合成的碳納米管主要有三種形式:

  ?  Random: Multiply interconnected SWNTs

  ?  Aligned: Paralell SWNTs

  ? ‘Forests’: Vertically stacked SWNTs

   實例:


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