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NANOVEA微納米壓痕劃痕儀

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  • 美國NANOVEA公司的微納米力學(xué)測試系統(tǒng)是集成納米壓痕儀更合理、納米劃痕儀、微米壓痕儀更優美、微米劃痕儀四個功能模塊于一身各方面,儀器采用模塊化設(shè)計,可在一款儀器下實現(xiàn)納米與微米/大載荷三個尺度下的壓痕成效與經驗,劃痕與摩擦磨損測試適應性,進(jìn)而可得到硬度、彈性模量稍有不慎、蠕變信息重要作用、彈塑性、斷裂韌度最為顯著、應(yīng)力-應(yīng)變曲線尤為突出、膜基結(jié)合力、劃痕硬度環境、摩擦系數(shù)空間載體、磨損率等微觀力學(xué)數(shù)據(jù)。

     

  • 產(chǎn)品特性:

     

    -  模塊化設(shè)計:可在一臺儀器集成納米壓痕儀相對簡便、納米劃痕儀重要組成部分、微米壓痕儀、微米劃痕儀4種儀器合作。

   -  壓痕測試*符合ISO14577與美國ASTM E2546標(biāo)準(zhǔn)勃勃生機,劃痕測試*符合ISO 20502、1518極致用戶體驗、ASTM

D7027提供有力支撐、D1624、D7187智能化、C171標(biāo)準(zhǔn)科技實力。

  載荷加載系統(tǒng):采用閉環(huán)載荷加載垂直加載,準(zhǔn)確性遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于傳統(tǒng)的開環(huán)載荷加載技術(shù)及懸臂加載技術(shù)建設,可保證施加載荷的精準(zhǔn)性在此基礎上。

  - 載荷驅(qū)動方式:高精度壓電陶瓷驅(qū)動助力各行,精度遠(yuǎn)遠(yuǎn)優(yōu)于電磁力驅(qū)動。

  NANOVEA技術(shù)(號:EP0663068 A1 1995)高精度電容式傳感器來能夠保證系統(tǒng)夠?qū)崿F(xiàn)高精度的測量可保證壓入深度與劃入深度實時測量自主研發。

     采用encoder高精度光柵尺樣品臺確定性,定位精度可達(dá)250nm以內(nèi)。

     -  *的熱飄逸控制技術(shù):納米壓痕儀的熱飄逸為<0.05nm>

  - 劃痕具有全景成像模式

     NANOVEA公司金剛石面積函數(shù)校準(zhǔn)技術(shù)(號:No. 3076153)只需要壓一次就可以對針尖面積函數(shù)進(jìn)行校準(zhǔn)實現(xiàn)精確測量損耗。

 

  • 主要技術(shù)參數(shù):


    1)納米壓痕儀:

 —   靜態(tài)加載模式大加載載荷:80mN /400mN/1800mN/4800mN

 —   動態(tài)加載模式DMA:0.1-100Hz

—   載荷分辨率:3nN

—   可實現(xiàn)的小載荷:0.1mN

—   加載速率:0.04-12000mN/min

—   大壓入深度(電容傳感器): 250μm/1mm

—   位移分辨率:0.0003nm

—   快速壓痕功能:做100mapping點只需5分鐘

— 熱飄逸<0.05nm>室溫條件下)

   2)納米劃痕儀:

—   劃痕正向力大載荷:80mN /400mN/1800mN/4800mN

—   載荷分辨率:3nN

—   劃痕正向力小載荷:0.1mN

—   大劃痕深度:250µm/1mm

—    大劃痕長度:50mm

—   劃痕速度:0.05-600mm/min

—  位移分辨率:0.0003nm

—   大深度:250μm/1mm

—   深度分辨率:0.0003nm

—   大摩擦力:400mN/1800mN

—   摩擦力分辨率:7μN(yùn)

  3)微米壓痕儀:

 —  大加載載荷:40N/200N

 —  載荷分辨率:2.4μN(yùn) /12μN(yùn)

 —  載荷噪聲水平(RMS):0.1mN/0.5mN

 —  可實現(xiàn)的小載荷:2mN/10mN

 —  加載速率:0.01-500N/min / 0.05-1000N/min

 —  快速壓痕功能:做100mapping點只需12分鐘

 —  深度范圍(電容式傳感器):1mm

 —  深度分辨率:0.01nm

 —  深度分噪聲水平(RMS: 0.5nm

  4)微米劃痕儀:

—  劃痕正向力大載荷:40N/200 N

—  劃痕正向力小載荷:2mN/10mN

—  大劃痕深度:1mm

—  深度分辨率:0.01nm

—  深度分噪聲水平(RMS: 0.5nm

—  大劃痕長度:50mm

—  劃痕速度:0.1-1200mm/min

—  大摩擦力:20N/200N

—  摩擦力分辨率:1.3mN/13mN

  5)精密定位平臺:

  —  XY方向移動范圍:150mm*150mm

     —  Z方向允許的大樣品空間150mm

     — 工作臺XY方向定位分辨率:10nm

     — 工作臺XY方向定位精度:250nm

     —  Z方向可自動移動移動范圍:50mm

6)光學(xué)金相顯微鏡成像系統(tǒng):

—  物鏡的放大倍率分別為:5X講故事,10X20X性能穩定,50X全面革新,1000X

—  總的放大倍率分別為:400X800X情況正常,1600X行業分類,4000X8000X提高鍛煉,

7)原子力顯微鏡AFM的技術(shù)參數(shù)(高分辨率):

 —  XYZ方向大掃描范圍:100µm *100µm *12µm

 —  XY方向移動分辨率:0.1nm

 —  Z方向的測量分辨率:0.02nm


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