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SE-Mapping光譜橢偏儀

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介:SE-Mapping光譜橢偏儀是一款可定制化Mapping繪制化測(cè)量光譜橢偏儀緊密相關,采用行業(yè)前沿創(chuàng)新技術(shù)更默契了,配置全自動(dòng)Mapping測(cè)量模塊,通過橢偏參數(shù)培訓、 透射/反射率等參數(shù)的測(cè)量不合理波動,快速實(shí)現(xiàn)薄膜全基片膜厚以及光學(xué)參數(shù)自定義繪制化測(cè)量表征分析。SE-Mapping光譜橢偏儀廣泛應(yīng)用OLED效高,LED前沿技術,光伏,集成電路等工業(yè)應(yīng)用中,實(shí)現(xiàn)大尺寸全基片膜厚性能、光學(xué)常數(shù)以及膜厚分布快速測(cè)量與表征多種方式。

 

產(chǎn)品型號(hào)

SE-Mapping光譜橢偏儀

主要特點(diǎn)

1、全基片橢偏繪制化測(cè)量解決方案

2實力增強、支持產(chǎn)品設(shè)計(jì)以及功能模塊定制化體系流動性,一鍵繪制測(cè)量

3、配置Mapping模塊帶來全新智能,全基片自定義多點(diǎn)定位測(cè)量能力

4實現了超越、豐富的數(shù)據(jù)庫和幾何結(jié)構(gòu)模型庫,保證強(qiáng)大數(shù)據(jù)分析能力

5去完善、采用氘燈和鹵素?zé)魪?fù)合光源橋梁作用,光譜覆蓋紫外到近紅外范圍 (193-2500nm)

6、高精度旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制求索、PCRSA配置讓人糾結,實(shí)現(xiàn)Psi/Delta光譜數(shù)據(jù)高速采集

7、具備全基片自定義多點(diǎn)自動(dòng)定位測(cè)量能力穩定發展,提供全面膜厚檢測(cè)分析報(bào)告

8基石之一、數(shù)百種材料數(shù)據(jù)庫聯動、多種算法模型庫,涵蓋了目前絕大部分的光電材料

技術(shù)參數(shù)

1共同努力、自動(dòng)化程度:固定角+ mapping

2行業內卷、應(yīng)用定位:檢測(cè)型

3、基本功能:Psi/Delta逐漸完善、N/C/S參與能力、R等光譜

4、分析光譜:380-1000nm(可擴(kuò)至193-2500nm)

5異常狀況、單次測(cè)量時(shí)間:0.5-5s

6研究、重復(fù)性測(cè)量精度:0.01nm

7、光斑大袘脛撔?。捍蠊獍?-3mm,微光斑200um

8提高、入射角調(diào)節(jié)方式:固定角

9、入射角范圍:65°

10的特性、找焦方式:手動(dòng)找焦

11交流、Mapping1程:300x300mm

12、支持樣件尺寸:大至300mm

可選配件

3

真空泵

 

4

透射吸附組件

 


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