| 參考價 | 面議 |
產(chǎn)品簡介：用于制備超導薄膜、半導體薄膜規劃、鐵電薄膜擴大公共數據、超硬薄膜等。廣泛應用于大專院校帶動擴大、科研院所進行薄膜材料的科研與小批量制備核心技術體系。與同類設備相比，其不僅應用廣泛持續發展，且具有體積小便于操作及清理方便的優(yōu)點,是一款實驗室制備材料粉末的理想設備必然趨勢。
產(chǎn)品型號 | GSL-300-PLD（Pulsed Laser Deposition） | ||
安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃供給，濕度55%Rh±10%Rh下使用的方法。 1、水：設備配有自循環(huán)冷卻水機進行探討，水溫小于25℃落到實處，水壓0.25-0.4Mpa，流量高于12 l/min（加注純凈水或者去離子水）最新； 2技術創新、電：AC380V 50Hz，功率大于10KW重要作用，波動范圍：小于±6％持續向好，必須有良好接地（對地電阻小于2Ω）； 3、氣：設備腔室內需充注氮/氬氣（純度99.99%以上）進展情況，需自備氮/氬氣氣瓶（自帶Ø10mm雙卡套接頭）及減壓閥 4的積極性、場地面積：設備尺寸2000mm×2000mm，承重1000kg以上 5至關重要、通風裝置：需要（外排廢氣管道）不久前； | ||
主要特點 | 1、由于激光光子能量很高提升行動，可濺射制備很多困難的鍍層：如高溫超導薄膜能力建設，陶瓷氧化物、氮化物薄膜研究進展，多層金屬薄膜等無障礙； 2、體積小快速融入，操作簡便可以非常容易的連續(xù)融化多個材料認為，實現(xiàn)多層膜制備； 3深入實施、可以通過控制激光能量和脈沖數(shù)至關重要，精密的控制膜厚發展空間； 4效果、易獲得期望化學計量比的多組分薄膜，即具有良好的保成分性足了準備； 5合作關系、沉積速率高，試驗周期短深刻內涵，襯底溫度要求低傳遞，制備的薄膜均勻； 6深入闡釋、工藝參數(shù)任意調節(jié)相關性，對靶材的種類沒有限制； | ||
技術參數(shù) | 1物聯與互聯、極限真空度：≤6.67x10-5Pa (經(jīng)烘烤除氣后)穩定； 2、系統(tǒng)真空檢漏漏率：≤5.0x10-7 Pa.l/S供給； 3優勢與挑戰、系統(tǒng)短時間暴露大氣并充干燥氮氣后，再開始抽氣解決方案，20分鐘可達到5x10-3 Pa趨勢； | ||
基片參數(shù) | 1、基片尺寸：可放置φ1″基片（帶擋板）； 2一站式服務、基片加熱溫度 800℃±1℃廣度和深度，由熱電偶閉環(huán)反饋控制，采用抗氧化材料作加熱器引領作用； 3顯示、基片可連續(xù)回轉，轉速5～60轉/分效率和安，電機驅動磁耦合機構控制設計能力； 4、基片與靶臺之間距離30～90mm可調深入開展； | ||
轉靶參數(shù) | 1提供有力支撐、每次可以裝四塊靶材，靶材尺寸：φ1″建議； | ||
真空腔體 | 1醒悟、球型真空室尺寸Ф300mm，選用優(yōu)質不銹鋼材料制造高質量，氬弧焊接也逐步提升，表面進行特殊工藝拋光處理，接口采用金屬墊圈密封或氟橡膠圈密封註入了新的力量； 2重要的作用、真空腔體帶RF150活開門，方便取去創新、放樣品足夠的實力； 3、RF63法蘭2套（1套紫外石英玻璃窗口用于激光器又進了一步，另1套盲板紅外石英玻璃窗口用于測溫可選配）多種場景； 4、RF63光學玻璃窗口1套（用于觀察）規劃； | ||
產(chǎn)品規(guī)格 | 整機尺寸：1800mm×1000mm×1600mm擴大公共數據； | ||
標準配件 | 1 | 電源控制系統(tǒng) | 1套 |
2 | 真空獲得機組 | 1套 | |
3 | 真空測量 | 1套 | |
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