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- 公司名稱 上海載德半導(dǎo)體技術(shù)有限公司
- 品牌
- 型號
- 所在地 上海市
- 廠商性質(zhì) 經(jīng)銷商
- 更新時間 2020/11/24 11:46:17
- 訪問次數(shù) 647
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脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)是將脈沖激光透過合成石英窗導(dǎo)入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上方便,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài),然后被堆積到設(shè)在對面的基板上而成膜各領域。PLD方法可以獲得擁有熱力學(xué)理論上準穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成新材料應用領域。
脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)、激光分子束外延設(shè)備(L-MBE) 設(shè)備簡介:
產(chǎn)地:美國NBM
脈沖激光沉積系統(tǒng)(PLD)是將脈沖激光透過合成石英窗導(dǎo)入真空腔內(nèi)照射到成膜靶上深入闡釋,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài)相關性,然后被堆積到設(shè)在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學(xué)理論上準穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構(gòu)造的人工合成新材料物聯與互聯。
我司PLD特點:
我們PLD系統(tǒng)擁有很好的性能價比,具有以下優(yōu)異的性能:
主真空室腔體直徑18英寸穩定,本底真空可達高真空:9X10E-9 Torr(要用Load-lock)。
主真空室抽氣系統(tǒng)前級泵采用無油干泵
★基片加熱溫度高達1200℃供給。
基片臺可360度旋轉(zhuǎn)(轉(zhuǎn)速1-20rpm可調(diào))優勢與挑戰。
★基片與靶之間方位采用靶在下方,基片在上方解決方案,均水平放置趨勢。基片與靶間距沿Z軸(即垂直地面方向)可調(diào)上高質量。
6個裝靶的坩堝(或靶盤)一站式服務,各坩堝之間要求相互隔離,不互相污染深入交流。
★激光器:Coherent 公司COMPexPro 201:Wavelength: 248 nm (KrF)引領作用;Pulse Energy:700mJ;Max. Rep. Rate :10 Hz臺上與臺下;Energy stability (one sigma) : 1%用的舒心; Average Power: 5W;Pulse Duration: 25 ns集聚效應;Beam Dimensions(V×H): 24×10 mm深入開展;Beam Divergence(V×H): 3×1 mrad.
★Load Lock System一套(裝樣-送樣系統(tǒng)一套),采用transferengineering公司(Transfer Engineering and Manufacturing, Inc)的等形式,本底真空1×10-5Pa,帶相應(yīng)的分子泵研究與應用。同一Load Lock系統(tǒng)既可以傳遞靶又可以傳遞基片飛躍,可兩者間切換操作。
設(shè)備及光學(xué)臺可聯(lián)接在一起全面協議,始終保持腔體和激光束位置穩(wěn)定重要部署。支撐腿帶可調(diào)節(jié)的轉(zhuǎn)輪具體而言,方便在地面整體(包括腔體系統(tǒng)和激光器)同時移動與固定。
具體配置:
一智慧與合力, 超高真空腔體
二喜愛, 分子泵
三, 激光掃描系統(tǒng)
四數據顯示, 襯底加熱鉑金片高質量,高達1200度
五, 基板加熱構(gòu)造設(shè)計
六記得牢, 基板加熱電源
七註入了新的力量, Rheed
八, Rheed軟件
九更多可能性, 多靶位 去創新,標準配置6個1英寸靶
十, Load-Lock樣品傳輸腔體
技術(shù)參數(shù):
1. 靶:數(shù)量6個緊迫性,大小1-2英寸結構,被激光照射時可自動旋轉(zhuǎn),靶的選擇可通過步進電機控制高效。
2. 基板:采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片溝通協調,大小2英寸,加熱溫度可達1200攝氏度深度,溫度差<3%帶動擴大,加熱時基板可旋轉(zhuǎn),工作環(huán)境大壓力是300mtorr開拓創新。
3. 基板加熱電源持續發展。
4. 超高真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質(zhì),內(nèi)表面電解拋光促進善治,本底真空度<5e-7 pa擴大。
5. 樣品傳輸室:不銹鋼sus304材質(zhì),內(nèi)表面電解拋光發揮效力,本底真空度<5e-5 pa新格局。
6. 排氣系統(tǒng):分子泵和干式機械泵,進口安全鏈。
7. 閥門:采用超高真空擋板閥顯示。
8. 真空檢測:真空計采用進口產(chǎn)品
9. 氣路兩套:采用氣體流量計(MFC)。
10. 薄膜成長監(jiān)控系統(tǒng):采用掃描型Rheed(可差分抽氣)真正做到。
11. 監(jiān)控軟件系統(tǒng):基板溫度的監(jiān)控和設(shè)定科普活動,基板和靶的旋轉(zhuǎn),靶的更換。
12. 各種電流導(dǎo)入及測溫端子狀況。
13. 其它各種構(gòu)造:各種超高真空位移臺機製性梗阻,磁力傳輸桿,超高真空法蘭全過程,超高真空密封墊圈集成應用,超高真空用波紋管等。
感謝河南師范大學(xué)國家重點實驗室, 清華大學(xué)*材料重點實驗室不負眾望,北京大學(xué)微電子系 華中科技大學(xué)材料學(xué)院 使用此研究級高性能的PLD系統(tǒng)高效流通, 望我們高性能價格比的PLD為廣大科研人員提供幫助!密度增加!
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