CMSD2000碳納米管復(fù)合材料研磨分散機(jī)設(shè)計*性能穩定，能夠延長易損件的使用時間全面革新，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎∏闆r正常？梢砸粰C(jī)多用行業分類，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣提高鍛煉，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整發展邏輯。

CMSD2000碳納米管復(fù)合材料研磨分散機(jī)，多壁碳納米管高速研磨分散機(jī)有所提升，碳納米管復(fù)合材料高剪切研磨分散機(jī)記得牢，德國進(jìn)口研磨分散機(jī)，IKN研磨分散機(jī)重要的作用，管線式研磨分散機(jī)更多可能性，中試型研磨分散機(jī)

IKN研磨分散機(jī)設(shè)計*，能夠延長易損件的使用時間足夠的實力，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎緊迫性。可以一機(jī)多用更適合，也可以單獨(dú)使用高效，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整要素配置改革。

碳納米管復(fù)合材料
　∪轿?。?）　導(dǎo)電塑料(聚脂)。將碳納米管均勻地擴(kuò)散到塑料中,可獲得強(qiáng)度更高并具有導(dǎo)電性能的塑料影響力範圍〈缶?？捎糜陟o電噴涂和靜電消除材料,目前高檔汽車的塑料零件由于采用了這種材料,可用普通塑料取代原用的工程塑料,簡化制造工藝,降低了成本,并獲得形狀更復(fù)雜、強(qiáng)度更高邁出了重要的一步、表面更美觀的塑料零部件有序推進。是靜電噴涂塑料(聚脂)的發(fā)展方向。同時由于碳納米管復(fù)合材料具有良好的導(dǎo)電性能,不會象絕緣塑料產(chǎn)生靜電堆積,因此是用于靜電消除需求、晶片加工堅定不移、磁盤制造及潔凈空間等領(lǐng)域的理想材料。碳納米管還有靜電屏蔽功能,由于電子設(shè)備外殼可消除外部靜電對設(shè)備的干擾,保證電子設(shè)備正常工作更讓我明白了。
　∮y而上。?）電磁干擾屏蔽材料及隱形材料。由于特殊的結(jié)構(gòu)和介電性質(zhì),碳納米管表現(xiàn)出較強(qiáng)的寬帶微波吸收性能,它同時還具有重量輕探索、導(dǎo)電性可調(diào)變堅持先行、高溫抗氧化性能強(qiáng)和穩(wěn)定性好等特點,是一種有前途的理想的微波吸收劑,可用于隱形材料、電磁屏蔽材料或暗室吸波材料。碳納米管將用于制造具有電磁干擾屏蔽功能及吸收電磁波功能的隱形材料調整推進。碳納米管對紅外和電磁波有隱身作用的主要原因有兩點:一方面納米微粒尺寸遠(yuǎn)小于紅外及雷達(dá)波波長,因此納米微粒材料對這種波的透過率比常規(guī)材料要強(qiáng)得多,這就大大減少波的反射率,使得紅外探測器和雷達(dá)接收到的反射信號變得很微弱,從而達(dá)到隱身的作用;另一方面,納米微粒材料的比表面積比常規(guī)粗粉大3～4個數(shù)量級,對紅外光和電磁波的吸收率也比常規(guī)材料大得多,這就使得紅外探測器及雷達(dá)得到的反射信號強(qiáng)度大大降低,因此很難發(fā)現(xiàn)被探測目標(biāo),起到了隱身作用狀況。由于發(fā)射到該材料表面的電磁波被吸收,不產(chǎn)生反射,因此而達(dá)到隱形效果。

上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料機製。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)全過程，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下探討。同時采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封不負眾望，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低調解製度，保證機(jī)器連續(xù)24小時不停機(jī)運(yùn)行精準調控。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊應用的因素之一，改良成兩級模塊解決，加入了一級分散盤「异侗O督？筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P幅度，2G，4M推進一步，6F經過，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散力度，乳化明確了方向，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm勇探新路，是目前設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍單產提升。

CMSD2000碳納米管復(fù)合材料研磨分散機(jī)，多壁碳納米管高速研磨分散機(jī)方法，碳納米管復(fù)合材料高剪切研磨分散機(jī)行動力，德國進(jìn)口研磨分散機(jī)提供有力支撐，IKN研磨分散機(jī)切實把製度，管線式研磨分散機(jī)，中試型研磨分散機(jī)

上海依肯的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料自行開發。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)進行部署，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下應用情況。同時采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封保護好，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時不停機(jī)運(yùn)行特點。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良深刻變革，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊和諧共生，加入了一級分散盤質生產力。可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P技術交流，2G先進的解決方案，4M，6F創造更多，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨宣講活動，分散，乳化工藝技術，均質(zhì)等功能效率，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，是目前國產(chǎn)設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍產能提升。

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級：化工級發展、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級總之、無菌級
電機(jī)形式：普通馬達(dá)面向、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)研學體驗、變頻防爆馬達(dá)建設項目、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ落實落細、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)相結合、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 製高點項目、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲液罐為產業發展、排污閥、變頻器有所增加、電控箱各項要求、移動小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭越來越重要的位置、螺口新技術、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

從設(shè)備角度來分析，影響研磨分散機(jī)效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率順滑地配合，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒深入、中齒效高、細(xì)齒、超細(xì)齒基礎、越細(xì)齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間性能、研磨分散時間（可以看作同等電機(jī)，流量越小效果越好）

5.循環(huán)次數(shù)（越多效果越好對外開放，到設(shè)備的期限就不能再好了新創新即將到來。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知有序推進，剪切速率取決于以下因素：

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距設施。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素，超高速分散均質(zhì)分散機(jī)的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細(xì)微懸浮液是zui重要的

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性堅定不移，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

CMSD2000碳納米管復(fù)合材料研磨分散機(jī)更優質，多壁碳納米管高速研磨分散機(jī)，碳納米管復(fù)合材料高剪切研磨分散機(jī)推進高水平，德國進(jìn)口研磨分散機(jī)脫穎而出，IKN研磨分散機(jī)，管線式研磨分散機(jī)生產創效，中試型研磨分散機(jī)