Nicomp 380 藍寶石拋光液檢測儀
基本概述:
Nicomp 380是納米粒徑分析儀器深入交流,采用現(xiàn)在先進的動態(tài)光散射原理,利用的Nicomp多峰算法可以很準(zhǔn)確的分析比較復(fù)雜多組分混合樣品加強宣傳。為實驗室的研究提供的分析技術(shù)臺上與臺下。 測試范圍:0.3 nm – 10μm。
產(chǎn)品介紹:
Nicomp 380 藍寶石拋光液檢測儀采用動態(tài)光散射原理檢測分析顆粒系的粒度及粒度分布在此基礎上,粒徑檢測范圍 0.3 nm- 10 μm助力各行。粒度分析復(fù)合采用 Gaussian 單峰算法和擁有技術(shù)的 Nicomp 多峰算法,對于多組分自主研發、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢確定性,其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的更加廣闊。

工作原理:
動態(tài)光散射法(DLS),有時稱為準(zhǔn)彈性光散射法(QELS)講故事,是一種成熟的非侵入技術(shù)非常完善,可測量亞微細(xì)顆粒范圍內(nèi)的分子與顆粒的粒度及粒度分布,使用技術(shù)全面革新,粒度可小于1nm作用。 動態(tài)光散射法的典型應(yīng)用包括已分散或溶于液體的顆粒、乳劑或分子表征線上線下。 懸浮在溶液中的顆粒的布朗運動發揮重要作用,造成散射光光強的波動。 分析光強的波動得到顆粒的布朗運動速度數據顯示,再通過斯托克斯-愛因斯坦方程得到顆粒的粒度高質量。

儀器參數(shù):
粒徑測量范圍 | 粒度分析:0.3 nm - 10 μm |
分析方法 | 粒度分析:動態(tài)光散射,Gaussian 單峰算法和 NiComp 無約束自由擬合多峰算法 |
pH值范圍 | 2 - 12 |
溫度范圍 | 0℃ - 90 ℃ |
檢測角度(可選) | 粒度分析:90°或 多角度(10°- 175°記得牢,可選配) |
高濃度樣品背散射 | 175°背散射 |
可用溶劑 | 水和絕大多數(shù)有機溶劑 |
樣品池 | 4 mL(標(biāo)準(zhǔn)註入了新的力量,石英玻璃或有機玻璃); 500μL(高透光率微量樣品池) |
分析軟件 | Windows 運行環(huán)境更多可能性,符合 21 CFR Part 11 規(guī)范分析軟件 |
電壓 | 220 – 240 VAC去創新,50Hz 或100 – 120 VAC,60Hz |
外形尺寸 | 56 cm * 41 cm * 24cm |
重量 | 約26kg(與配置有關(guān)) |
配件:
大功率激光二極管 | PSS使用一系列大功率激光二極管來滿足更多更苛刻的要求緊迫性。使用大功率激光照射結構,以便從小粒子出貨的足夠的入射光。 15mW, 35mW, 50mW, 100mW –波長為635nm 的紅色二極管高效。 20 mW 50 mW 和 100 mW 波長為 514.4nm的綠色二極管溝通協調。 |
雪崩光電二極管檢測器(APD Detector) | 提供比普通光電倍增管(PMT)高20倍的靈敏度。 |
Zeta 電位模塊 | Zeta電位是確定交替系統(tǒng)穩(wěn)定性的重要參數(shù)體系,決定粒子之間靜電排斥力大小保障性,從未影響粒子間的聚集作用及分散系的穩(wěn)定。該模塊使用電泳光散射(ELS)技術(shù)責任製,通過測量帶點粒子在外加電場中的移動速度新創新即將到來,即電泳遷移率、推算出Zeta電位有序推進,實現(xiàn)了粒子的粒徑與Zeta電位設施,實現(xiàn)了粒子的粒徑與Zeta電位測定的同機操作。 |
自動稀釋系統(tǒng)模塊 | 將初始濃度較高的樣本自動稀釋至可檢測的的濃度堅定不移,可稀釋初始固含量為50%的原始樣品規模設備,本模塊收保護,其可免除人工稀釋樣品帶來的外界環(huán)境的干擾和數(shù)據(jù)上的誤差指導,此技術(shù)被用于批量進樣和在線檢測的過程中。 |
多角度檢測系統(tǒng)模塊 | 提供多角度的檢測能力。使用高精度的步進電機和針孔光纖技術(shù)可對散射光的接收角度進行調(diào)整進一步完善,可為微粒粒徑分布提供可高分辨率的多角度檢測集聚。對高濃度樣品(≤40%)以及大粒子多分散系的粒徑提供了提供15至175度之間不同角度上散射光的采集和檢測。 |
自動進樣器 | 批量自動進樣器能實現(xiàn)zui多76個連續(xù)樣本的分析而無需操作人員的干預(yù)調整推進。因此它是一個非常好的質(zhì)量控制工具狀況,能增大樣品的處理量。大大節(jié)省了寶貴的時間機製。 |
自動滴定模塊 | 樣品的濃度及PH值是Zeta電位的重要參數(shù)全過程,搭配瑞士萬通的滴定儀進行檢測,真正實現(xiàn)了自動滴定探討,自動調(diào)節(jié)PH值不負眾望,自動檢測Zeta電位值。免除外界的干擾和數(shù)據(jù)上的誤差調解製度,精確分析出樣品Zeta電位的趨勢精準調控。 |
應(yīng)用領(lǐng)域:
適用于檢測懸浮在水相和有機相的顆粒物。
1)磨料
磨料既有天然的也有合成的應用的因素之一,用于研磨解決、切削、鉆孔敢於監督、成形以及拋光幅度。磨料是在力的作用下實現(xiàn)對硬度較低材料的磨削。磨料的質(zhì)量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性重要的作用。
2)化學(xué)機械拋光(CMP)
化學(xué)機械拋光是半導(dǎo)體制造加工過程中的重要步驟貢獻。化學(xué)機械拋光液是由腐蝕性的化學(xué)組分和磨料(通常是氧化鋁實際需求、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成解決方案。拋光過程很大程度上取決于晶片表面構(gòu)型。晶片的加工誤差通常以埃計善謀新篇,對晶片質(zhì)量至關(guān)重要增產。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學(xué)機械拋光加工過程的順利進行方法。
3)陶瓷
陶瓷在工業(yè)中的應(yīng)用非常廣泛行動力,從磚瓦到生物醫(yī)用材料及半導(dǎo)體領(lǐng)域。在生產(chǎn)加工過程中監(jiān)測陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制zui終產(chǎn)品的性能和質(zhì)量切實把製度。
4)粘土
粘土是一種含水細(xì)小顆粒礦物質(zhì)天然材料保供。粉砂與粘土類似,但粉沙的顆粒比粘土大進行部署。粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級和使用性能責任。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm應用情況。
5)涂料
涂料種類繁多,用途廣泛組建。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質(zhì)量和性能表現。
6)污染監(jiān)測
粒度檢測分析在產(chǎn)品的污染監(jiān)測方面起著重要作用,產(chǎn)品的污染對產(chǎn)品的質(zhì)量影響巨大深刻變革。絕大多數(shù)行業(yè)都有相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)結論、規(guī)程或規(guī)范,必須嚴(yán)格遵守和執(zhí)行質生產力,以保證產(chǎn)品滿足質(zhì)量要求適應性強。
7)化妝品
無論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑先進的解決方案,它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關(guān)拓展。化妝品的顆粒大小會影響其在皮膚表面的涂抹性能助力各行、分布均勻性能以及反光性能前來體驗。保濕乳液(一種乳劑)的粒度小于200納米時才能被皮膚良好吸收,而止汗劑的粒度只有足夠大時才能阻塞毛孔起到止汗的作用確定性。
8)乳劑
乳劑是兩種互不相溶的液體經(jīng)乳化制成的非均勻分散體系講故事,通常是水和油的混合物面向。乳劑有兩種類型最為突出,一種是水分散在油中高效化,另一種是油分散在水中範圍和領域。常見的乳劑制品有牛奶(水包油型)和黃油(油包水型),加工過程中它們均需均質(zhì)化處理到所需的粒徑大小以期延長保質(zhì)期。
9)食品
食品的原料(粉末及液體)通常來源于不同的加工廠順滑地配合,不同來源的原料必須滿足某些特定的標(biāo)準(zhǔn)以使zui終制品的質(zhì)量均一穩(wěn)定。原料性質(zhì)的任何波動都會對食品的口味和口感產(chǎn)生影響。用原料的粒度分布作為食品質(zhì)量保證和質(zhì)量控制(QA/QC)的一個指標(biāo)可確保生產(chǎn)出質(zhì)量均以穩(wěn)定的食品制品。
10)液體工作介質(zhì)/油
液體工作介質(zhì)(如:油)越來越昂貴,延長液體介質(zhì)的壽命是目前普遍關(guān)心的問題。機械設(shè)備運轉(zhuǎn)過程中會產(chǎn)生金屬屑或顆粒落入工作介質(zhì)中(如:油浴潤滑介質(zhì)或液力傳遞介質(zhì))積極,因此需要一種方法來確定介質(zhì)(油)的更換周期。通過監(jiān)測工作介質(zhì)(油)中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質(zhì)的周期以及延長其使用壽命能力建設。
11)墨水
隨著打印機技術(shù)的不斷發(fā)展能力和水平,打印機用的墨水變得越來越重要明確相關要求。噴墨打印機墨水的粒度應(yīng)當(dāng)控制在一定的尺度以下體系,且分布均勻攜手共進,大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質(zhì)量共同。墨水是通過研磨方法制得的,可用粒度檢測分析儀器設(shè)備監(jiān)測其研磨加工過程經過,以保證墨水的顆粒粒度分布均勻簡單化,避免產(chǎn)生聚集的大顆粒。
12) 膠束
膠束是表面活性劑在溶液中的濃度超過某一臨界值后明確了方向,其分子或離子自動締合而成的膠體尺度大小的聚集體質(zhì)點微粒系統性,這種膠體質(zhì)點與離子之間處于平衡狀態(tài)。
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