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Nicomp 380激光粒度儀

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Nicomp 380激光粒度儀采用動(dòng)態(tài)光散射原理檢測(cè)分析顆粒系的粒度及粒度分布就此掀開,粒徑檢測(cè)范圍0.3nm – 10µm長足發展。粒度分析復(fù)合采用Gaussian單峰算法和擁有技術(shù)的NiComp多峰算法今年,對(duì)于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢(shì)結構不合理,其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的動手能力。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì),可靈活方便地?cái)U(kuò)展Zeta電位等其它功能。

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  Nicomp 380激光粒度儀采用動(dòng)態(tài)光散射原理檢測(cè)分析顆粒系的粒度及粒度分布意見征詢,粒徑檢測(cè)范圍0.3nm – 10µm提升。粒度分析復(fù)合采用Gaussian單峰算法和擁有技術(shù)的NiComp多峰算法,對(duì)于多組分的必然要求、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢(shì)研究成果,其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì),可靈活方便地?cái)U(kuò)展Zeta電位等其它功能完善好。

  Nicomp 380激光粒度儀

  基本概述:

  Nicomp 380 DLS是納米粒徑分析儀器大面積,采用現(xiàn)在先進(jìn)的動(dòng)態(tài)光散射原理,利用的Nicomp多峰算法可以很準(zhǔn)確的分析比較復(fù)雜多組分混合樣品問題分析。為實(shí)驗(yàn)室的研究提供的分析技術(shù)培養。 測(cè)試范圍:0.3 nm – 10μm。

  產(chǎn)品介紹:

  Nicomp 380 DLS 采用動(dòng)態(tài)光散射原理檢測(cè)分析顆粒系的粒度及粒度分布更加完善,粒徑檢測(cè)范圍 0.3 nm- 6μm形式。粒度分析復(fù)合采用 Gaussian 單峰算法和擁有技術(shù)的 Nicomp 多峰算法,對(duì)于多組分支撐作用、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有*優(yōu)勢(shì)日漸深入,其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品*的。

 

  激光粒度儀工作原理:

  動(dòng)態(tài)光散射法(DLS)綜合措施,有時(shí)稱為準(zhǔn)彈性光散射法(QELS)傳承,是一種成熟的非侵入技術(shù),可測(cè)量亞微細(xì)顆粒范圍內(nèi)的分子與顆粒的粒度及粒度分布建言直達,使用技術(shù)多種,粒度可小于1nm。 動(dòng)態(tài)光散射法的典型應(yīng)用包括已分散或溶于液體的顆粒充分發揮、乳劑或分子表征發展成就。 懸浮在溶液中的顆粒的布朗運(yùn)動(dòng)成就,造成散射光光強(qiáng)的波動(dòng)。 分析光強(qiáng)的波動(dòng)得到顆粒的布朗運(yùn)動(dòng)速度開展面對面,再通過(guò)斯托克斯-愛(ài)因斯坦方程得到顆粒的粒度系統。

 

激光粒度儀儀器參數(shù)

 

粒徑測(cè)量范圍

粒度分析:0.3 nm - 10 μm

分析方法

粒度分析:動(dòng)態(tài)光散射,Gaussian 單峰算法和 NiComp 無(wú)約束自由擬合多峰算法

pH值范圍

2 - 12

溫度范圍

0 - 90 

檢測(cè)角度(可選)

粒度分析:90° 多角度(10°- 175°進一步提升,可選配)

高濃度樣品背散射

175°背散射

可用溶劑

水和絕大多數(shù)有機(jī)溶劑

樣品池

4 mL(標(biāo)準(zhǔn)空間廣闊,石英玻璃或有機(jī)玻璃);

500μL(高透光率微量樣品池)

分析軟件

Windows 運(yùn)行環(huán)境改革創新,符合 21 CFR Part 11 規(guī)范分析軟件

電壓

220 – 240 VAC知識和技能,50Hz 100 – 120 VAC60Hz

外形尺寸

56 cm * 41 cm * 24cm

重量

26kg(與配置有關(guān))

激光粒度儀配件:

大功率激光二極管

PSS使用一系列大功率激光二極管來(lái)滿足更多更苛刻的要求新模式。使用大功率激光照射實現,以便從小粒子出貨的足夠的入射光。

15mW, 35mW, 50mW, 100mW –波長(zhǎng)為635nm 紅色二極管組織了。

20 mW 50 mW 和 100 mW 波長(zhǎng) 514.4nm綠色二極管服務體系。

 

雪崩光電二極管檢測(cè)器(APD Detector)

提供比普通光電倍增管(PMT)高20的靈敏度。

Zeta 電位模塊

Zeta電位是確定交替系統(tǒng)穩(wěn)定性的重要參數(shù)搶抓機遇,決定粒子之間靜電排斥力大小分析,從未影響粒子的聚集作用及分散系的穩(wěn)定。該模塊使用電泳光散射(ELS技術(shù)全面闡釋,通過(guò)測(cè)量帶點(diǎn)粒子在外加電場(chǎng)中的移動(dòng)速度非常激烈,即電泳遷移率、推算出Zeta電位集中展示,實(shí)現(xiàn)了粒子的粒徑與Zeta電位實力增強,實(shí)現(xiàn)了粒子的粒徑與Zeta電位測(cè)定的同機(jī)操作

 

自動(dòng)稀釋系統(tǒng)模塊

初始濃度較高的樣本自動(dòng)稀釋至可檢測(cè)的濃度探索創新,可稀釋初始固含量為50%原始樣品帶來全新智能,本模塊收保護(hù),其可免除人工稀釋樣品帶來(lái)的外界環(huán)境的干擾和數(shù)據(jù)上的誤差生動,此技術(shù)被用于批量進(jìn)樣和在線檢測(cè)的過(guò)程中新型儲能。

 

多角度檢測(cè)系統(tǒng)模塊

提供多角度的檢測(cè)能力。使用高精度步進(jìn)電機(jī)和針孔光纖技術(shù)可對(duì)散射光角度進(jìn)行調(diào)整新品技,可為微粒粒徑分布提供高分辨率多角度檢測(cè)範圍。對(duì)高濃度樣品(≤40%以及大粒子多分散系的粒徑提供了提供15至175度之間不同角度上散射光的采集和檢測(cè)。

 

自動(dòng)進(jìn)樣器

批量自動(dòng)進(jìn)樣器能實(shí)現(xiàn)較多76個(gè)連續(xù)樣本的分析無(wú)需操作人員的干預(yù)紮實做。因此它是一個(gè)非常好的質(zhì)量控制工具空間廣闊,能增大樣品的處理量。大大節(jié)省了寶貴的時(shí)間。

 

自動(dòng)滴定模塊

樣品的濃度及PH值Zeta電位的重要參數(shù)服務品質,搭配瑞士萬(wàn)通的滴定儀進(jìn)行檢測(cè)的發生,真正實(shí)現(xiàn)了自動(dòng)滴定,自動(dòng)調(diào)節(jié)PH值影響,自動(dòng)檢測(cè)Zeta電位值新的動力。免除外界的干擾和數(shù)據(jù)上的誤差,精確分析出樣品Zeta電位的趨勢(shì)發展契機。

 

 

激光粒度儀應(yīng)用領(lǐng)域:

適用于檢測(cè)懸浮在水相和有機(jī)相的顆粒物廣泛關註。

 

1)磨料

       磨料既有天然的也有合成的,用于研磨發力、切削優勢領先、鉆孔、成形以及拋光持續創新。磨料是在力的作用下實(shí)現(xiàn)對(duì)硬度較低材料的磨削改善。磨料的質(zhì)量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性空白區。

       2化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)

       化學(xué)機(jī)械拋光是半導(dǎo)體制造加工過(guò)程中的重要步驟協調機製。化學(xué)機(jī)械拋光液是由腐蝕性的化學(xué)組分和磨料(通常是氧化鋁形勢、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成實踐者。拋光過(guò)程很大程度上取決于晶片表面構(gòu)型。晶片的加工誤差通常以埃計(jì)約定管轄,對(duì)晶片質(zhì)量至關(guān)重要數據。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學(xué)機(jī)械拋光加工過(guò)程的順利進(jìn)行發揮。

      3陶瓷

       陶瓷在工業(yè)中的應(yīng)用非常廣泛顯著,從磚瓦到生物醫(yī)用材料及半導(dǎo)體領(lǐng)域。在生產(chǎn)加工過(guò)程中監(jiān)測(cè)陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制后期產(chǎn)品的性能和質(zhì)量與時俱進。

       4粘土

       粘土是一種含水細(xì)小顆粒礦物質(zhì)天然材料性能。粉砂與粘土類似,但粉沙的顆粒比粘土大綜合運用。粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級(jí)和使用性能供給。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm。

       5涂料

       涂料種類繁多實事求是,用途廣泛進行探討。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質(zhì)量和性能。

       6污染監(jiān)測(cè)

       粒度檢測(cè)分析在產(chǎn)品的污染監(jiān)測(cè)方面起著重要作用服務水平,產(chǎn)品的污染對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量影響巨大最新。絕大多數(shù)行業(yè)都有相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)程或規(guī)范處理方法,必須嚴(yán)格遵守和執(zhí)行重要作用,以保證產(chǎn)品滿足質(zhì)量要求增多。

       7化妝品

       無(wú)論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑有望,它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關(guān)進一步推進。化妝品的顆粒大小會(huì)影響其在皮膚表面的涂抹性能方案、分布均勻性能以及反光性能應用的選擇。保濕乳液(一種乳劑)的粒度小于200納米時(shí)才能被皮膚良好吸收,而止汗劑的粒度只有足夠大時(shí)才能阻塞毛孔起到止汗的作用左右。

      8乳劑

       乳劑是兩種互不相溶的液體經(jīng)乳化制成的非均勻分散體系背景下,通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類型可靠保障,一種是水分散在油中自然條件,另一種是油分散在水中。常見(jiàn)的乳劑制品有牛奶(水包油型)和黃油(油包水型)開展,加工過(guò)程中它們均需均質(zhì)化處理到所需的粒徑大小以期延長(zhǎng)保質(zhì)期互動互補。

       9食品

       食品的原料(粉末及液體)通常來(lái)源于不同的加工廠,不同來(lái)源的原料必須滿足某些特定的標(biāo)準(zhǔn)以使后期制品的質(zhì)量均一穩(wěn)定意向。原料性質(zhì)的任何波動(dòng)都會(huì)對(duì)食品的口味和口感產(chǎn)生影響意料之外。用原料的粒度分布作為食品質(zhì)量保證和質(zhì)量控制(QA/QC)的一個(gè)指標(biāo)可確保生產(chǎn)出質(zhì)量均以穩(wěn)定的食品制品。

       10液體工作介質(zhì)/油

       液體工作介質(zhì)(如:油)越來(lái)越昂貴發展空間,延長(zhǎng)液體介質(zhì)的壽命是目前普遍關(guān)心的問(wèn)題效果。機(jī)械設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生金屬屑或顆粒落入工作介質(zhì)中(如:油浴潤(rùn)滑介質(zhì)或液力傳遞介質(zhì)),因此需要一種方法來(lái)確定介質(zhì)(油)的更換周期足了準備。通過(guò)監(jiān)測(cè)工作介質(zhì)(油)中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質(zhì)的周期以及延長(zhǎng)其使用壽命合作關系。

      11墨水

       隨著打印機(jī)技術(shù)的不斷發(fā)展,打印機(jī)用的墨水變得越來(lái)越重要深刻內涵。噴墨打印機(jī)墨水的粒度應(yīng)當(dāng)控制在一定的尺度以下傳遞,且分布均勻,大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質(zhì)量交流等。墨水是通過(guò)研磨方法制得的更加廣闊,可用粒度檢測(cè)分析儀器設(shè)備監(jiān)測(cè)其研磨加工過(guò)程,以保證墨水的顆粒粒度分布均勻提高,避免產(chǎn)生聚集的大顆粒可以使用。

      12 膠束

       膠束是表面活性劑在溶液中的濃度超過(guò)某一臨界值后,其分子或離子自動(dòng)締合而成的膠體尺度大小的聚集體質(zhì)點(diǎn)微粒紮實,這種膠體質(zhì)點(diǎn)與離子之間處于平衡狀態(tài)效高化。

       乳液、色漆、制藥粉體創造、顏料不難發現、聚合物、蛋白質(zhì)大分設備製造、二氧化硅以及自組裝TiO_2納米管(TNAs)等

 

上海奧法美嘉生物科技有限公司

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