臺(tái)式緊湊型等離子清洗機(jī)節點、小型等離子清洗機(jī)通過活化、微創(chuàng)傷納米級(jí)等離子清洗機(jī)、
GPC-102 A （替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo的特點、EQ-PDC-32G等離子清洗機(jī)）是一款臺(tái)式緊湊型等離子清洗機(jī)健康發展，具有體積僅為臺(tái)式烤箱大小、非破壞性的納米級(jí)清洗的特點(diǎn)大數據，是一款特別適合實(shí)驗(yàn)室長效機製、超凈間及研發(fā)機(jī)構(gòu)的理想等離子清洗設(shè)備。等離子清洗機(jī)采用工藝氣體如大氣數字技術、氬氣奮戰不懈、氮?dú)狻⒀鯕饣蚝獾茸鳛榍逑礆怏w介質(zhì)措施，有效避免了因液體清洗劑對(duì)被清洗物帶來的殘留物污染及排放污染取得顯著成效。GPC-102 A等離子清洗機(jī)配套一臺(tái)真空泵，工作時(shí)真空清洗艙內(nèi)中的等離子體與被清洗物的表面產(chǎn)生物理及化學(xué)反應(yīng)實現，短暫的清洗就可以使有機(jī)污染物被*地清除不容忽視，同時(shí)污染物被真空泵抽走組織了，其清洗程度達(dá)到納米級(jí)。GPC-102 A等離子清洗機(jī)除了具有納米級(jí)清洗功能外說服力，在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能搶抓機遇，等離子體作用于材料表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組表示，形成新的表面特性全面闡釋，而不改變材料的主要性能。對(duì)某些特殊用途的材料競爭力所在，在納米級(jí)清洗過程中GPC-102 A等離子清洗機(jī)的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性引人註目、相容性和浸潤(rùn)性， 并可消毒和殺菌體系流動性，而無需考慮使用化學(xué)試劑如EtOH的排放和回收探索創新。
GPC-102 A等離子清洗機(jī)廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)實現了超越、電子學(xué)新產品、材料科學(xué)、生命科學(xué)橋梁作用、高分子科學(xué)長遠所需、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域讓人糾結。
GPC-102 A等離子清洗機(jī)應(yīng)用：
- 清洗光學(xué)器件規模、電子元件、半導(dǎo)體元件基石之一、激光器件聯動、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗共同努力。
- 清洗電子元件行業內卷、光學(xué)器件、激光器件逐漸完善、鍍膜基片參與能力、芯片、移除光學(xué)元件廣泛關註、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)促進進步。
- 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片優勢領先。
- 移除光學(xué)元件迎來新的篇章、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)，去除金屬材料表面的氧化物推動並實現。
- 清洗半導(dǎo)體元件空白區、印刷線路板協調機製、ATR元件、各種形狀的人工晶體形勢、天然晶體和寶石。
- 清洗生物芯片取得明顯成效、微流控芯片約定管轄、沉積凝膠的基片。
- 高分子材料表面的修飾創新的技術。
- 封裝領(lǐng)域中的清洗和改性發揮，增強(qiáng)其粘附性，適用于直接封裝及粘和快速增長。
- 改善粘接光學(xué)元件開放以來、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料高質量、宇航材料等所用膠水的粘和力提供了有力支撐。
- 涂覆鍍膜領(lǐng)域中對(duì)玻璃、塑料前景、陶瓷進一步意見、高聚合物等材料表面的改性，使其活化共享應用，增強(qiáng)表面 粘附性生產能力、浸潤(rùn)性、相容性示範推廣，顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量堅持好。
- 牙科領(lǐng)域中對(duì)鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預(yù)處理，增強(qiáng)其浸潤(rùn)性和相容性大幅增加。
- 科研領(lǐng)域中修復(fù)學(xué)上移植物和生物材料表面的預(yù)處理特性，增強(qiáng)其浸潤(rùn)性、粘附性和相容性進一步推進。對(duì)科研的消毒和殺菌導向作用。
GPC-102 A等離子清洗機(jī)技術(shù)特征：
- 緊湊型臺(tái)式等離子清洗設(shè)備，無射頻輻射危害應用的選擇，通過CE/EMC十大行動、CE/LVD、ROHS及FCC VOC認(rèn)證背景下。
- 射頻（RF）功率無極調(diào)節(jié)綜合措施，可根據(jù)應(yīng)用需要自由設(shè)置。
- 等離子清洗機(jī)整體適配與惰性氣體如大氣自然條件、氬氣設計標準、氮?dú)忾_展，活性氣體氧氣、氦氣發揮重要帶動作用、氫氣或混合氣體等工藝氣體使用意向。
- 適用于超凈間，無需配備其它附件即可使用文化價值。
- 全套工藝氣體管路采用特氟龍（teflon）材質(zhì)及美國(guó)Swagelok高質(zhì)316不銹鋼閥門形式。
GPC-102 A等離子清洗機(jī)具有如下優(yōu)勢(shì)：
- 具有性能穩(wěn)定、性價(jià)比高不斷完善、操作簡(jiǎn)便數字化、使用成本極低、易于維護(hù)的特點(diǎn)基礎上。
- 可對(duì)各種幾何形狀各領域、表面粗糙程度各異的金屬、陶瓷保持競爭優勢、玻璃進行培訓、硅片、塑料等物件表面進(jìn)行超清洗和改性不容忽視。
- **地清除樣品表面的有機(jī)污染物組織了。
- 無極功率處理、快速方便說服力、清洗效率高搶抓機遇。
- 綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑新體系、對(duì)樣品和環(huán)境無二次污染投入力度。
- 在常溫條件下進(jìn)行超清洗，對(duì)溫敏感樣品非破壞性處理不難發現。
GPC-102 A（替代 Harrick PDC-32G-2貢獻法治、EQ-PDC-32G等離子清洗機(jī)）等離子清洗機(jī)規(guī)格：
等離子清洗機(jī)真空反應(yīng)艙尺寸：內(nèi)徑4.0英寸（102毫米）， 7.9英寸（200毫米） 深
等離子清洗機(jī)真空反應(yīng)艙材質(zhì)：純石英 （99.99%二氧化硅）
等離子清洗機(jī)輸入功率：150W（zui大）
等離子清洗機(jī)工作頻率：13.56MHz
等離子清洗機(jī)射頻功率：0W~30W 功率旋鈕連續(xù)調(diào)節(jié)
等離子清洗機(jī)重量：12公斤（約）
等離子清洗機(jī)尺寸：12.3英寸（312毫米）高x 16.8英寸（426毫米）寬 x 12.4英寸（315毫米）深
等離子清洗機(jī)配套托盤：純石英材質(zhì) 規(guī)格
高配機(jī)型GPC-102 （替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo發展需要、EQ-PDC-32G等離子清洗機(jī)）等離子清洗機(jī)規(guī)格：
等離子清洗機(jī)真空反應(yīng)艙尺寸：內(nèi)徑4.0英寸（102毫米）攻堅克難，7.9英寸（200毫米） 深
等離子清洗機(jī)真空反應(yīng)艙材質(zhì)：純石英 （99.99%二氧化硅）
等離子清洗機(jī)輸入功率：150W（zui大）
等離子清洗機(jī)工作頻率：13.56MHz
等離子清洗機(jī)射頻功率：0W~30W 功率旋鈕連續(xù)調(diào)節(jié)
等離子清洗機(jī)重量：16公斤（約）
等離子清洗機(jī)尺寸：12.3英寸（312毫米）高x 30英寸（762毫米）寬x 12.4英寸（315毫米）深
等離子清洗機(jī)真空計(jì)：熱偶式、數(shù)碼顯示顯示、實(shí)時(shí)監(jiān)控真空反應(yīng)艙內(nèi)壓力雙向互動。
等離子清洗機(jī)流量氣體混合計(jì)：配備氣體流量控制系統(tǒng)，可以精密控制工藝氣體喂入及混合設計能力。
等離子清洗機(jī)配套托盤：純石英材質(zhì) 規(guī)格
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