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感應(yīng)耦合等離子體刻蝕法(Inductively Coupled Plasma Etch進一步提升，簡(jiǎn)稱ICPE)是化學(xué)過(guò)程和物理過(guò)程共同作用的結(jié)果。它的基本原理是在真空低氣壓下營造一處，ICP 射頻電源產(chǎn)生的射頻輸出到環(huán)形耦合線圈改革創新，以一定比例的混合刻蝕氣體經(jīng)耦合輝光放電，產(chǎn)生高密度的等離子體取得顯著成效，在下電極的RF 射頻作用下新模式，這些等離子體對(duì)基片表面進(jìn)行轟擊，基片圖形區(qū)域的半導(dǎo)體材料的化學(xué)鍵被打斷規劃，與刻蝕氣體生成揮發(fā)性物質(zhì)提高，以氣體形式脫離基片，從真空管路被抽走進入當下。
等離子刻蝕機(jī)主要包括預(yù)真空室紮實、刻蝕腔、供氣系統(tǒng)和真空系統(tǒng)四部分新體系。
1投入力度、預(yù)真空室
預(yù)真空室的作用是確保刻蝕腔內(nèi)維持在設(shè)定的真空度不難發現，不受外界環(huán)境(如：粉塵貢獻法治、水汽)的影響，將危險(xiǎn)性氣體與潔凈廠房隔離開(kāi)來(lái)發展需要。它由蓋板攻堅克難、機(jī)械手、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)顯示、隔離門(mén)等組成雙向互動。
2、刻蝕腔體
刻蝕腔體是ICP 刻蝕設(shè)備的核心結(jié)構(gòu)創新能力，它對(duì)刻蝕速率新品技、刻蝕的垂直度以及粗糙度都有直接的影響∏蟮闷胶?？涛g腔的主要組成有：上電極紮實做、ICP 射頻單元空間廣闊、RF 射頻單元、下電極系統(tǒng)提供深度撮合服務、控溫系統(tǒng)等組成服務品質。
3、供氣系統(tǒng)
供氣系統(tǒng)是向刻蝕腔體輸送各種刻蝕氣體組成部分，通過(guò)壓力控制器(PC)和質(zhì)量流量控制器(MFC)精準(zhǔn)的控制氣體的流速和流量影響。氣體供應(yīng)系統(tǒng)由氣源瓶、氣體輸送管道的過程中、控制系統(tǒng)發展契機、混合單元等組成。
4過程中、真空系統(tǒng)
真空系統(tǒng)有兩套去突破，分別用于預(yù)真空室和刻蝕腔體。預(yù)真空室由機(jī)械泵單獨(dú)抽真空達到，只有在預(yù)真空室真空度達(dá)到設(shè)定值時(shí)智能設備，才能打開(kāi)隔離門(mén)，進(jìn)行傳送片蓬勃發展√攸c？涛g腔體的真空由機(jī)械泵和分子泵共同提供，刻蝕腔體反應(yīng)生成的氣體也由真空系統(tǒng)排空重要性。
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2025第十屆華南空氣壓縮機(jī)展覽會(huì)
展會(huì)城市：佛山市展會(huì)時(shí)間：2025-05-21