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GPC-102 A (替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo結論、EQ-PDC-32G PDMS芯片鍵合儀和諧共生、PDMS芯片等離子鍵合機(jī)、PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀)是一款臺式緊湊型PDMS芯片鍵合儀適應性強、PDMS芯片等離子鍵合機(jī)技術交流、PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀,具有體積僅為臺式烤箱大小拓展、非破壞性的納米級清洗創造更多、鍵合PDMS的特點(diǎn),是一款特別適合實(shí)驗(yàn)室不斷進步、超凈間及研發(fā)機(jī)構(gòu)的理想PDMS芯片鍵合儀工藝技術、PDMS芯片等離子鍵合機(jī)、PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀規模。PDMS芯片鍵合儀損耗、PDMS芯片等離子鍵合機(jī)、PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀非常完善,采用工藝氣體如大氣性能穩定、氬氣、氮?dú)庾饔?、氧氣或氦氣等作為清洗?/span>PDMS鍵合氣體介質(zhì)情況正常,有效避免了因液體清洗劑對被鍵合的PDMS帶來的殘留物污染及排放污染。GPC-102 A PDMS芯片鍵合儀技術特點、PDMS芯片等離子鍵合機(jī)落實落細、PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀配套一臺真空泵,工作時(shí)真空清洗艙內(nèi)中的等離子體與被鍵合的PDMS表面產(chǎn)生物理及化學(xué)反應(yīng)高效化,短暫的鍵合時(shí)間就可以使有機(jī)污染物被*地清除製高點項目,同時(shí)污染物被真空泵抽走,其清洗程度達(dá)到納米級範圍和領域。GPC-102 A PDMS芯片鍵合儀有所增加、PDMS芯片等離子鍵合機(jī)、PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀除了具有納米級鍵合PDMS功能外更高要求,在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能越來越重要的位置,等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組共同學習,形成新的表面特性順滑地配合,而不改變材料的主要性能。對某些特殊用途的材料效高,在納米級清洗過程中GPC-102 A PDMS芯片鍵合儀前沿技術、PDMS芯片等離子鍵合機(jī)基礎、PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性多種方式, 并可消毒和殺菌大局,而無需考慮使用化學(xué)試劑如EtOH的排放和回收。
GPC-102 A PDMS芯片鍵合儀邁出了重要的一步、PDMS芯片等離子鍵合機(jī)有序推進、PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)需求、電子學(xué)堅定不移、材料科學(xué)、生命科學(xué)更讓我明白了、高分子科學(xué)迎難而上、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域探索。
GPC-102 A等離子清洗機(jī)應(yīng)用:
- 清洗光學(xué)器件堅持先行、電子元件、半導(dǎo)體元件滿意度、激光器件情況較常見、鍍膜基片、終端安裝等的超清洗模樣。
- 清洗電子元件生產體系、光學(xué)器件、激光器件很重要、鍍膜基片能力和水平、芯片、移除光學(xué)元件異常狀況、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)研究。
- 清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片應用創新。
- 移除光學(xué)元件提高、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),去除金屬材料表面的氧化物生產製造。
- 清洗半導(dǎo)體元件開展試點、印刷線路板攜手共進、ATR元件共同、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石經過。
- 清洗生物芯片簡單化、PDMS微流控芯片力度、沉積凝膠的基片。
- 高分子材料表面的修飾系統性。
- 封裝領(lǐng)域中的清洗和改性勇探新路,增強(qiáng)其粘附性,適用于直接封裝及粘和傳遞。
- 改善粘接光學(xué)元件試驗、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料開展攻關合作、宇航材料等所用膠水的粘和力製度保障。
- 涂覆鍍膜領(lǐng)域中對玻璃、塑料的有效手段、陶瓷統籌推進、高聚合物等材料表面的改性,使其活化關鍵技術,增強(qiáng)表面 粘附性了解情況、浸潤性、相容性取得了一定進展,顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量完善好。
- 牙科領(lǐng)域中對鈦制牙移植物和硅酮壓模材料表面的預(yù)處理,增強(qiáng)其浸潤性和相容性積極參與。
- 科研領(lǐng)域中修復(fù)學(xué)上移植物和生物材料表面的預(yù)處理部署安排,增強(qiáng)其浸潤性、粘附性和相容性技術。對科研的消毒和殺菌推廣開來。
GPC-102 A PDMS芯片鍵合儀、PDMS芯片等離子鍵合機(jī)相對較高、PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀技術(shù)特征:
- 緊湊型臺式PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀設(shè)備資源配置,無射頻輻射危害,通過CE/EMC相關、CE/LVD大力發展、ROHS及FCC VOC認(rèn)證。
- 射頻(RF)功率無極調(diào)節(jié)生產效率,可根據(jù)應(yīng)用需要自由設(shè)置產能提升。
- PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀整體適配與惰性氣體如大氣、氬氣節點、氮?dú)馔ㄟ^活化,活性氣體氧氣、氦氣、氫氣或混合氣體等工藝氣體使用健康發展。
- 適用于超凈間有效保障,無需配備其它附件即可使用。
- 全套工藝氣體管路采用特氟龍(teflon)材質(zhì)及美國Swagelok高質(zhì)316不銹鋼閥門長效機製。
GPC-102 A PDMS芯片鍵合儀講實踐、PDMS芯片等離子鍵合機(jī)、PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀具有如下優(yōu)勢:
- 具有性能穩(wěn)定奮戰不懈、性價(jià)比高市場開拓、操作簡便、使用成本極低大大縮短、易于維護(hù)的特點(diǎn)各項要求。
- 可對各種幾何形狀、表面粗糙程度各異的金屬越來越重要的位置、陶瓷講理論、玻璃、硅片不要畏懼、塑料等物件表面進(jìn)行超清洗和改性服務為一體。
- **地清除樣品表面的有機(jī)污染物。
- 無極功率處理逐漸顯現、快速方便全會精神、清洗效率高。
- 綠色環(huán)保拓展基地、不使用化學(xué)溶劑集中展示、對樣品和環(huán)境無二次污染。
- 在常溫條件下進(jìn)行超清洗體系流動性,對溫敏感樣品非破壞性處理探索創新。
GPC-102 A(替代 Harrick PDC-32G-2、EQ-PDC-32G PDMS芯片鍵合儀實現了超越、PDMS芯片等離子鍵合機(jī)新產品、PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀)PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀規(guī)格:
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀真空反應(yīng)艙尺寸:內(nèi)徑4.0英寸(102毫米), 7.9英寸(200毫米) 深
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀真空反應(yīng)艙材質(zhì):純石英 (99.99%二氧化硅)
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀輸入功率:150W(zui大)
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀工作頻率:13.56MHz
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀射頻功率:0W~30W 功率旋鈕連續(xù)調(diào)節(jié)
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀重量:12公斤(約)
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀尺寸:12.3英寸(312毫米)高x 16.8英寸(426毫米)寬 x 12.4英寸(315毫米)深
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀配套托盤:純石英材質(zhì) 規(guī)格
高配機(jī)型GPC-102 (替代 Harrick PDC-32G-2及PDC-FMG-2 PlasmaFlo橋梁作用、EQ-PDC-32G PDMS芯片鍵合儀長遠所需、PDMS芯片等離子鍵合機(jī)、PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀)PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀規(guī)格:
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀真空反應(yīng)艙尺寸:內(nèi)徑4.0英寸(102毫米)讓人糾結,7.9英寸(200毫米) 深
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀真空反應(yīng)艙材質(zhì):純石英 (99.99%二氧化硅)
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀輸入功率:150W(zui大)
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀工作頻率:13.56MHz
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀射頻功率:0W~30W 功率旋鈕連續(xù)調(diào)節(jié)
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀重量:16公斤(約)
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀尺寸:12.3英寸(312毫米)高x 30英寸(762毫米)寬x 12.4英寸(315毫米)深
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀真空計(jì):熱偶式規模、數(shù)碼顯示、實(shí)時(shí)監(jiān)控真空反應(yīng)艙內(nèi)壓力基石之一。
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀流量氣體混合計(jì):配備氣體流量控制系統(tǒng)聯動,可以精密控制工藝氣體喂入及混合增持能力。
PDMS微流控芯片氧等離子體鍵合儀配套托盤:純石英材質(zhì) 規(guī)格
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